Double-Sとは 意味・読み方・使い方

To provide a formation method of self-aligned double pattern capable of improving a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) procedure and a subsystem.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)手順及びサブシステムを用いた基板処理方法の改善を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a scarcely discolored epoxy compound by efficiently and selectively hydrogenating the carbon-carbon double bond(s) in a compound having the double bond(s) and epoxy group(s).例文帳に追加

炭素−炭素不飽和結合及びエポキシ基を含有する化合物の炭素−炭素不飽和結合を効率よく、選択的に水素化して着色の少ないエポキシ化合物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an epoxy compound with slight epoxy group loss by selectively hydrogenating the carbon-carbon double bond(s) in a compound having the double bond(s) and epoxy group(s).例文帳に追加

炭素−炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素不飽和結合を選択的に水素化してエポキシ基の損失の少ないエポキシ化合物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

This constitution can also avoid the water from intruding into a clearance S between the double cylinder part 52 and the guide cylinder 37.例文帳に追加

二重筒部５２と、ガイド筒３７の間の隙間Ｓに浸水するのが回避される。 - 特許庁

A floor panel P of a double-floor structure is arranged above a slab S across a space therebetween.例文帳に追加

スラブＳとの間に空間を形成した状態で二重床の床パネルＰが配置されている。 - 特許庁

The container body 12 has double wall structure of inner and outer cases 13, 14 and an enclosed space S between the cases 13, 14 is vacuum of 1 Torr or below.例文帳に追加

そして、両ケース１３, １４間の密閉空間Ｓは１Ｔｏｒｒ以下の真空とした。 - 特許庁

The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.例文帳に追加

前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁

To provide a method for producing an epoxy compound with slight epoxy group decomposition by selectively and efficiently hydrogenating the carbon-carbon double bond(s) in a compound having the double bond(s) and epoxy group(s).例文帳に追加

少なくとも１個の炭素−炭素不飽和結合及び少くとも１個のエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素不飽和結合を、エポキシ基の分解を少なく、かつ高水素化率で選択的に水素してエポキシ化合物を製造する方法を提供する。 - 特許庁