Manufacturing exposure timeとは 意味・読み方・使い方

To provide an exposure apparatus and its manufacturing method, capable of maintaining superior exposure performance by considering the changes in exposure aberrations with passage of time due to solarization, and capable of preventing degradation in the throughput.例文帳に追加

ソラリゼーションによる経時的な露光収差の変化を考慮し、優れた露光性能を維持すると共に、スループットの低下を防止することができる露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing system that can improve the uniformity of the dimensions of resist patterns among wafers, by fixing wafer pulling and placing time, after exposure.例文帳に追加

露光後のウェハ引き置き時間を一定にして、ウェハ間のレジストパターン寸法の均一性を向上させる。 - 特許庁

To obtain a photomask for manufacturing a printed wiring board less liable to a dimensional change even when subjected to repetitive exposure over a long time.例文帳に追加

長時間繰り返し露光を行っても寸法変化の少ないプリント配線板作製用のフォトマスクを得る。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus with which a focus error at the time of exposure is avoided and an improvement of yield of the semiconductor device can be achieved, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

露光時のフォーカスエラーを回避し、半導体デバイスの歩留りの向上が実現可能な露光装置及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure method which enables an exposure process to be more accurately carried out in a shorter time than usual, a method of manufacturing a semiconductor device by the use of the same, and the semiconductor device.例文帳に追加

従来よりも正確に且つ短時間で行うことができる露光方法、それを用いた半導体装置の製造方法、及び半導体装置を提供すること。 - 特許庁

It is possible to optimize the exposure apparatus effectively in a short time without the use of the exposure apparatus for the appraisal of the conditions and without interrupting a manufacturing line.例文帳に追加

条件の評価に露光装置を使用する必要がなく、製造ラインを停止する必要なく、効率よく短時間で露光装置の最適化を行うことができる。 - 特許庁

To solve the problem that is takes a long time for exposure when manufacturing a rugged die for manufacturing a computer hologram, particularly when photo-etching in conventional technique.例文帳に追加

従来、計算機ホログラム製造用の凹凸型の製造、特にフォトエッチングの際の露光に長時間を要していた点を解消することを課題とする。 - 特許庁

To provide a master disk exposure apparatus and master disk exposure method for manufacturing an optical information recording medium with high recording density at a low cost by shortening an exposure time per a sheet of master disk for information recording medium.例文帳に追加

情報記録媒体用原盤の１枚当たりの露光時間を短縮し、高記録密度の光情報記録媒体をより低コストで製造するための原盤露光装置及び原盤露光方法を提供する。 - 特許庁