NANO-INDENTATIONとは 意味・読み方・使い方

As for hardness of the secondary transfer roller 115 measured by pushing a tip indenter into the surface layer 115c, hardness specified by universal hardness is within 0.15 to 0.45 GPa, and hardness measured by a nano indentation method is within 1.5 to 3.0 GPa.例文帳に追加

表面層１１５ｃに先端圧子を押し込んで測定した２次転写ローラ１１５の硬度は，ユニバーサル硬度で規定した硬度が０．１５〜０．４５ＧＰａの範囲内であり，ナノインデンテーション法により測定した硬度が１．５〜３．０ＧＰａの範囲内である。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor 1 having at least a substrate 11, a photosensitive layer 13 and a protective layer 16 is characterized in that the protective layer has a hardness of 2 to 7 GPa measured by a nano-indentation method and an absorbance of ≥1.0 at a wavelength from 300 to 400 nm.例文帳に追加

少なくとも基体１１と感光層１３と保護層１６を有する電子写真感光体１において、該保護層のナノインデンテーション法により測定した硬度が２〜７ＧＰａであり、且つ、波長３００〜４００ｎｍの光の吸光度が１．０以上であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor having at least a substrate, an organic photosensitive layer and a protective layer is characterized in that the protective layer has a hardness of 2 to 7 GPa measured by a nano-indentation method and an ozone permeability of ≤10%.例文帳に追加

少なくとも基体と有機感光層と保護層を含む電子写真感光体において、該保護層のナノインデンテーション法により測定した硬度が２〜７ＧＰａであり、且つ、オゾン透過率が１０％以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

This aqueous dispersing element for polishing a chemical machine can suppress the occurrence of scratches of a specific size to a specific number or below even on a soft interlayer insulating membrane having the elastic modulus measured by the nano-indentation method at 20 Gpa or below, particularly 10 Gpa or below, and further 5 Gpa or below.例文帳に追加

ナノインデンテーション法により測定した弾性率が２０ＧＰａ以下、特に１０ＧＰａ以下、更には５ＧＰａ以下である柔らかい層間絶縁膜であっても、特定の大きさのスクラッチの発生が特定の個数以下に抑えられる化学機械研磨用水系分散体を得る。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor comprises at least a substrate, an organic photosensitive layer and a protective layer, wherein the protective layer comprises a rough layer containing particles having a number average particle diameter of 5 to 200 nm and a deposited layer having a hardness of 2 to 7 GPa measured by a nano-indentation method.例文帳に追加

少なくとも基体と有機感光層と保護層を有する電子写真感光体であって、該保護層が数平均粒径５〜２００ｎｍの粒子を含有する粗さ層と、ナノインデンテーション法で測定した硬度が２〜７ＧＰａの堆積層から形成されていることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

One surface of the lens base is coated with photochromic liquid containing photochromic coloring matter and a photocurable component, and the photochromic liquid is irradiated with light at least through the lens base to cure at least a part of the photocurable component, thereby forming the photochromic film whose outermost surface has a nano indentation hardness of ≥800 nm.例文帳に追加

フォトクロミック色素および光硬化性成分を含むフォトクロミック液をレンズ基材の一方の面上に塗布し、前記フォトクロミック液に対して、少なくともレンズ基材を介して光を照射し、前記硬化性成分の少なくとも一部を硬化させることにより、最表面が８００ｎｍ以上の超微小押し込み硬さを有するフォトクロミック膜を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the surface-treated electron-emitting material comprises a process of obtaining an electron-emitting material in which carbon nano-fiber is dispersed in matrix metal, a process of flattening the surface of the electron-emitting material, and a surface treatment process forming fine indentation on the surface of the flattened electron-emitting material.例文帳に追加

本発明にかかる表面処理された電子放出材料の製造方法は、マトリクス金属中にカーボンナノファイバーが分散された電子放出材料を得る工程と、電子放出材料の表面を平坦化する工程と、平坦化された電子放出材料の表面に微細な凹凸を形成する表面処理工程と、を有する。 - 特許庁

A substrate for electron source forming has a layer 1b containing SiO_2 as a main component on a substrate 1a, wherein the SiO_2 layer has a hardness higher than 5 GPa measured by the nano indentation method at room temperature, or an etching rate not higher than 10 nm/min in the solution containing 0.4 wt% of ammonium hydrogen fluoride at room temperature.例文帳に追加

基板１ａ上にＳｉＯ_２を主成分とする層１ｂを有し、該ＳｉＯ_２層の室温におけるナノインデンテーション法により測定される硬度が５ＧＰａ以上、あるいは、該ＳｉＯ_２層の室温における０．４ｗｔ％フッ化水素アンモニウム水溶液でのエッチングレートが１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする。 - 特許庁