Strain energyとは 意味・読み方・使い方

A strain energy gradient is calculated from strain energy of the whole structure calculated by elastic finite element analysis, and the structure is stiffened along the strain energy gradient about a part having the large energy gradient.例文帳に追加

弾性有限要素解析により計算された構造物全体のひずみエネルギからひずみエネルギ勾配を算出し、ひずみエネルギ勾配の大きい箇所について、ひずみエネルギ勾配に沿って構造物を補剛する。 - 特許庁

In the quantum well layer with the small strain amount, the difference of energy between an electron and hole is made smaller than that of the energy in the quantum well layer with the large strain amount.例文帳に追加

小さい歪量の量子井戸層において、電子とホールのエネルギー差を、大きい歪量の量子井戸層におけるそれより小さくする。 - 特許庁

To provide an impact absorbing material which has a strain rate sensitivity where deformation stress increases in proportion to strain rate, and is excellent in energy absorption capacity.例文帳に追加

歪み速度に比例して変形応力が大きくなる歪み速度感受性を示し、エネルギー吸収能に優れた衝撃吸収材を提供する。 - 特許庁

For each of a plurality of finite elements, strain energy density U' and kinetic energy density T' are computed.例文帳に追加

複数の有限な要素のそれぞれについて、ひずみエネルギー密度Ｕ´と運動エネルギー密度Ｔ´を演算する。 - 特許庁

A first energy loss property for generating a first energy loss, based on the amount of strain and a second energy loss property for generating a second energy loss, based on the rate of strain are defined in a first cycle of deformation, comprising loading deformation and unloading deformation in the viscoelastic material model.例文帳に追加

粘弾性材料モデルには、負荷変形及び除荷変形からなる変形１サイクルにおいて、ひずみ量に基づいて第１のエネルギーロスを生成させる第１のエネルギーロス特性と、ひずみ速度に基づいて第２のエネルギーロスを生成させる第２のエネルギーロス特性とが定義される。 - 特許庁

The analysis execution step includes a stiffness matrix creation step and a stress calculation step, and in the stiffness matrix creation step, two strain energy functions having different coefficients on the extension side and the compression side are provided and the strain energy function corresponding to the extension side or the compression side out of the two strain energy functions is applied.例文帳に追加

解析実行ステップは、剛性マトリックス作成ステップと、応力計算ステップとを備え、前記剛性マトリックス作成ステップでは、ひずみエネルギー関数としてひずみの伸長側と圧縮側とで異なる係数を有する二つのひずみエネルギー関数を備え、伸長側か圧縮側かに応じて前記二つのひずみエネルギー関数のうち対応するひずみエネルギー関数を適用する。 - 特許庁

An RF electric power is applied to a substrate holder while preventing damage of a strain lattice film to be formed by an oxygen negative ion and an epitaxial strain lattice having excellent crystallizability is formed by irradiation with a positive ion having a proper energy.例文帳に追加

形成される歪格子膜の酸素負イオンによる損傷を防止しながら、基板ホルダーにRF電力を印加して、適切なエネルギを有する正イオンの照射により、結晶性の良いエピタキシャル歪格子を形成させる。 - 特許庁