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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 英和専門語辞典 > The 39 Stepsの意味・解説 

The 39 Stepsとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 『三十九夜』(さんじゅうきゅうや、The 39 Steps)は、1935年のイギリスのサスペンス映画。、『陰謀の報酬』(いんぼうのほうしゅう、原題:The 39 Steps)は、2008年のイギリスのテレビ映画。


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「The 39 Steps」の意味

The 39 Steps


「The 39 Steps」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 17



例文

(2) If the appointment is not thus made and is not in accordance with Section 54 of the Act and Section 39 of these Regulations, any procedural steps taken by the agent, other than the filing of the application, shall be deemed not to have been taken.例文帳に追加

(2) 指定が前記のように行われず,また,法第54条及び本規則第39条に従っていない場合は,代理人が取った如何なる手続措置も,出願を除いては,取られなかったものとみなされる。 - 特許庁

Examination steps for the application, invalid application, grant of registration certificate, registration of new plant variety that becomes invalid shall be in accordance with Section 37, Section 38, Section 39, Section 41, Section 42 and Section 43 of this law.例文帳に追加

出願の審査手順、無効な出願、登録証の交付、無効となる新品種の登録は第37条、第38条、第39条、第41条、第42条及び第43条を準用する。 - 特許庁

The releasing method comprises the steps to integrally form a resin protuberance part 39 and the cull 38 and release the resin protuberance part 39 from the bottom force 10 simultaneously with the release of the moldings 37 and consequently release the cull 38 from the bottom force 10 simultaneously with the release of the molding 37.例文帳に追加

本発明の離型方法は、樹脂突起部39とカル38とを一体的に形成し、樹脂突起部39を成形品37と同時に下金型10から離型させることにより、カル38を成形品37と同時に下金型10から離型させる。 - 特許庁

When predicted saturation calculated from the average RGB values of the face image portion after the luminance conversion is out of an allowable range (between the upper limit saturation and the lower limit saturation) (step 35A), the luminance conversion function is modified so that the predicted saturation falls within the allowable range (steps 37 and 39).例文帳に追加

輝度変換後の顔画像部分の平均RGB値から算出される予想彩度が許容範囲(上限彩度と下限彩度の間)から外れる場合(ステップ35A),上記輝度変換関数が,上記予想彩度が許容範囲に収まることになるように修正される(ステップ37,39)。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes steps of forming an interlayer dielectric film 37 having an opening (contact holde 36), forming a conductor film 39 on the interlayer dielectric film 37 and in the opening, and applying and forming a first photosensitive organic film 1 on the conductor film 39.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、開口(コンタクトホール36)を有する層間絶縁膜37を形成する工程と、層間絶縁膜37上及び開口内に導体膜39を形成する工程と、導体膜39上に第1感光性有機膜1を塗布形成する工程を有する。 - 特許庁

Steps 38 and 39 having openings passing from the upper to the lower parts therethrough are arranged between the front wheel axle 12a and the rear wheel axle 15a of the traveling car body 2 on the rear side of the prime mover 20 and on the front side of the rear wheels 15, 16 and 17.例文帳に追加

また、走行車体2の前輪車軸12aと後輪車軸15aとの間で、上下に貫通する開口部を有するステップ38,39を原動機20より後側かつ後輪15,16,17より前側に配置する。 - 特許庁

例文

A control section 39 then automatically switches, in response to the recognized endoscope 2A, between cleaning or disinfecting steps in accordance with presence or absence of a front water supply conduit or switches brushing steps between a step corresponding to one treatment instrument channel and a step corresponding to two treatment instrument channels.例文帳に追加

そして、制御部39は、認識された内視鏡2Aに対応して前方送水管路の有無に対応した洗浄や消毒の工程の切替や、2つ或いは1つの処置具チャンネルに対応したブラシングの切替等を自動的に行う。 - 特許庁

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Weblio英和対訳辞書での「The 39 Steps」の意味

The 39 Steps (1935 film)


The 39 Steps (2008 film)

Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「The 39 Steps」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 17



例文

The method for manufacturing the optical semiconductor integrated circuit device comprises the steps of separately forming an n^+-type exudated region 38 of a pnp transistor 21 and an n^+-type diffused region 39 of a photodiode 22.例文帳に追加

本発明における光半導体集積回路装置の製造方法では、NPNトランジスタ21のN+型の浸み出し領域38とホトダイオード22のN+型の拡散領域39とを別工程で形成することに特徴がある。 - 特許庁

The step-down circuit section 39 steps down the voltage of 42V to 5V, which is applied via a male connection terminal 40 and a female connection terminal 28 to the printed wiring 24 on a printed board 14.例文帳に追加

降圧回路部39は42Vの電圧を5Vに降圧し、その電圧を雄形接続端子40及び雌型接続端子28を介してプリント基板14のプリント配線24に印加する。 - 特許庁

A method for punching the cylindrical slab comprises the steps of rotatably rotating the upper and lower engaging members 33, 47 around an axial center via bearings 37, 39 and bearings 51, 52, and free-running the inner mold m around the axial center in association with the upward movement of the slab s.例文帳に追加

上部及び下部係合部材33,47をそれぞれベアリング37,38及びベアリング51,52により軸心回りに回転可能にし、筒状スラブsの上昇移動に伴い、内金型mを軸心回りに連れ回りさせるようにする。 - 特許庁

The method for tender-raising of the veneer comprises the steps of initially forming the cutouts 37 at a predetermined interval in the fiber direction by protrusions on a crude veneer 35, and then forming cutouts 39 at positions of L23=2 mm by protrusions so as to be superposed with the cutouts 37 at both ends as seen from a direction perpendicular to the fiber direction.例文帳に追加

生単板35に、最初に突起部により繊維方向に切込37を所定間隔で形成し、次いで突起部によりL23=2mmとなる位置に切込39を、繊維方向と直交する方向から見て切込37と両端が重なり合う様に形成する。 - 特許庁

In addition, ink flow paths 37, 38 and 39 formed in the body 30 are respectively made into structures with steps with different inner diameters, so that the resonance frequencies of the fluid generated in the ink flow paths are made to be separated by20 kHz from the driving frequency of the nozzle.例文帳に追加

またボディ30内部に形成したインク流路37、38、39は、それぞれ内径が異なる段付構造とすることにより、インク流路で発生する流体共振周波数をノズル駆動周波数よりも20kHz以上離すようにした。 - 特許庁

This manufacturing method further includes steps of applying and forming a second photosensitive organic film 2 on the conductor film 39 so as to cover the first organic film 11 and forming a second organic film 12 at least on the first organic film 11 by curing the second photosensitive organic film 2 with ultraviolet light.例文帳に追加

この製造方法は更に、第1有機膜11を覆うように導体膜39上に第2感光性有機膜2を塗布形成する工程と、第2感光性有機膜2を紫外線により硬化させて第2有機膜12を少なくとも第1有機膜11上に形成する工程を有する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of then opening to include the first opening, forming a second photoresist pattern 37 having a second opening 37a of an overhanging-like sectional shape at the sidewall, and then coating a second metal layer 39 thereon.例文帳に追加

次に、第1の開口部を包含するようにして開口し且つその側壁がオーバーハング状の断面形状の第2の開口部37aを設けた第2のフォトレジストパターン37を形成した後、第2の金属層38を被着する。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a source electrode 38 and a drain electrode 39 disposed between a semiconductor film 34 and an upper shielding film 42 in a tabular state of a long longitudinal shape in a direction perpendicular to a channel direction of a metal, and forming both ends so as to have an inverted tapered shape.例文帳に追加

半導体膜34と上部遮光膜42との間に配置されるソース電極38及びドレイン電極39を金属によりチャネル方向に直交する方向に長い長方形の平板状に形成すると共に、その両端部を逆テーパー形状を有するように形成している。 - 特許庁

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