ae Mとは 意味・読み方・使い方

Unit water quantity: 140 to 200 kg/m^3, Water/(cement + admixture): 25 to 70%, Coarse aggregate quantity: 200 to 350 L/m^3, High performance AE water reducing agent: 0.5 to 2 wt.% of cement quantity, Slump conditioner: 3 to 10 wt.% of high performance AE water reducing agent, Slump: 8 to 24 cm.例文帳に追加

単位水量：１４０〜２００Ｋｇ／ｍ^3， 水／（セメント＋混和材）：２５〜７０％， 粗骨材量：２００〜３５０Ｌ／ｍ^3， 高性能ＡＥ減水剤：セメント量の０.５〜２重量％， スランプ調整剤：高性能ＡＥ減水剤の３〜１０重量％， スランプ：８〜２４ｃｍ。 - 特許庁

When the work WK is subjected to the forging processing, the amplitude signal in the effective range set from the detected AE detection signal is extracted and the fractal dimension (m) of AE is calculated on the basis of the extracted amplitude signal to judge the life of a die 102.例文帳に追加

そして、ワークＷＫを鍛造加工する際、検出されたＡＥ検出信号から設定した有効範囲内の振幅信号を抽出し、抽出した振幅信号に基づいてＡＥのフラクタル次元ｍを計算してダイ１０２の寿命を判定する。 - 特許庁

The medium fluidity concrete is manufactured by mixing 300-330 L/m^3 of a paste prepared by mixing water and a hydraulic binder, 280-360 L/m^3 of a coarse aggregate, and a high performance AE water reducing agent comprising a thickener.例文帳に追加

中流動コンクリートは、水と水硬性結合剤とを混合してなり、３００リットル／ｍ^３以上３３０リットル／ｍ^３以下のペーストと、２８０リットル／ｍ^３以上３６０リットル／ｍ^３以下の粗骨材と、増粘剤を有する高性能ＡＥ減水剤と、を混合することにより製造される。 - 特許庁

A traverse speed of dresser 22 during rough dressing is set to be low (200 m/min), and the flatness of the grindstone 13 is detected by an AE sensor 25, then the rough dressing is continued for a predetermined time while traversing at a low speed.例文帳に追加

粗ドレス中のドレッサ２２のトラバース速度を低速（２００ｍｍ／ｍｉｎ）で行い、ＡＥセンサ２５により砥石１３の平坦度が検出された後、低速でトラバースしながら粗ドレスを所定時間だけ継続する。 - 特許庁

Correction is made for each of images G1 to Gk shown by A/D converted image data acquired by AE bracket shooting so that brightness of any image other than a first image whose exposure is the lowest coincides with brightness of the first image, and exposure adjustment processing is carried out by performing bit extension from m bits to n bits (n>m).例文帳に追加

ＡＥブラケット撮影により取得されたＡ／Ｄ変換後の画像データにより表される画像Ｇ１〜Ｇｋのそれぞれに対して、最も露出が低い第１の画像以外の他の画像の明るさを第１の画像の明るさに合わせるように補正するとともに、ｍビットからｎビット（ｎ＞ｍ）にビット拡張することにより露出調整処理を行う。 - 特許庁

The MR element 16 is mounted on a substrate 22 so that two base materials 20, 21 on which the same resistance patterns R1, R2 exhibiting a magnetic resistance effect by ae vapor deposition thin film of ferromagnetic material metal are placed side by side along the moving direction of a magnet M where the resistance patterns R1, R2 move integrally with a piston 13.例文帳に追加

ＭＲ素子１６は、強磁性体金属の蒸着薄膜によって磁気抵抗効果を奏する同じ抵抗パターンＲ１，Ｒ２が形成された２つの基材２０，２１が、抵抗パターンＲ１，Ｒ２がピストン１３と一体移動する磁石Ｍの移動方向に沿って並ぶように基板２２上に実装されるとともに、２つの抵抗パターンＲ１，Ｒ２が電気的に直列に接続されている。 - 特許庁