electron beam deflection systemとは 意味・読み方・使い方

The CPU 18 controls a deflection system control part 15 so as to irradiate the analyzing points contained in the reference image with finely throttled electron beam.例文帳に追加

ＣＰＵ１８は基準画像に含まれる分析点に、細く絞った電子ビームを照射するように偏向系制御部１５を制御する。 - 特許庁

To suppress lowering of writing accuracy due to unexpected deflection of an electron beam caused directly or indirectly by a part of noise source flowing from a structure, e.g. a metal mesh floor, in a clean room to the earth of an electron beam writing system.例文帳に追加

クリーンルーム内の金属メッシュ床等の構造物に流れているノイズ源の一部が、電子ビーム描画装置のアースに流れ、直接的、間接的に電子ビームに対し予期せぬ偏向作用を与え、描画精度を低下させるので、これを低減させる。 - 特許庁

To obtain a high correction accuracy and improve writing accuracy, by eliminating a drift influence for adjusting accurately and exactly a deflection correction gain in an electron beam lithography system.例文帳に追加

電子線描画機において、ドリフトの影響を排して高精度かつ正確に偏向補正のゲインを調節し、高い補正精度を得ることで、描画精度を向上する。 - 特許庁

The deflection of an electron beam caused by eddy currents generated by leakage magnetic fields from the electronic oven of the electron beam exposure system and the deflection of the beam caused by the influence of charge up by secondary electrons are reduced sufficiently by constituting a mobile guide 3 journaled by the static-pressure bearing 10 of a conductive material having a volume resistance of about 1E^-3 Ωcm or higher.例文帳に追加

静圧軸受１０に軸支される可動ガイド３を略１Ｅ^−３Ω・ｃｍ以上の体積抵抗を有する導電性材料で構成することにより、電子ビーム露光装置の電子レンズからの漏れ磁場によって発生する渦電流によるビームの振れ、２次電子によるチャージアップの影響によるビームの振れを十分小さくする。 - 特許庁

In conducting calibration of the beam, the deflection center of the electron optics system is positioned at the center of the group of sub- fields 66-1 to 66-20, the sub-fields 66-1 to 66-20 are sequentially scanned by the beam, and the beam property is measured at each position.例文帳に追加

ビームの較正を行う際には、まず、電子光学系の偏向中心をサブフィールド群６６−１〜６６−２０の中央に位置させ、サブフィールド６６−１〜６６−２０に順次ビーム走査し、各位置においてビーム性状の測定を行う。 - 特許庁

To reduce deflection power, to improve focus performance of a display image, and to improve correcting efficiency of a convergence error in a single electron beam system projection type cathode-ray tube used for a projection TV or a projector.例文帳に追加

プロジェクションＴＶまたはプロジェクター等に使用される単電子ビーム方式投射形ブラウン管の、偏向パワーを低減させ、表示画像のフォーカス性能を向上させると共に、色ずれ補正効率を向上させる。 - 特許庁

To improve the throughput of an electron beam exposure system and its operating method by shortening the time required for deflection and exposure without degrading the exposing accuracy when the deflection by a main deflector is transferred to a region in which exposure is possible by a sub-deflector at a high speed by using a feedback deflector.例文帳に追加

電子ビーム露光及びその操作方法に関し、フィードバック偏向器を用いて主偏向器による偏向を副偏向器の露光可能範囲に高速に持っていく場合に、露光精度を劣化させることなく偏向及び露光に必要とする時間を短くしてスループットを向上させる。 - 特許庁

To provide a forming method of a deflecting voltage can copy with both of PVC mode and NVC mode, and to provide a testing device can improve detection sensitivity by reducing scanning deviation of an electron beam caused by noises of a deflection control circuit in an electron beam type testing device based on an electrostatic deflector system of a multi-stage and multi-pole constitution.例文帳に追加

複数段多極構成の静電偏向器方式に基づいた電子ビーム式検査装置において、ＰＶＣモードとＮＶＣモードのいずれにも対応できる偏向電圧生成方法を提供すると共に、偏向制御回路のノイズに起因する電子ビームの走査ずれを低減して検出感度を向上できる検査装置を提供する。 - 特許庁