surface condition analysisとは 意味・読み方・使い方

To facilitate the element division of space for performing merchandise flow analysis and also to share analysis results by providing the setting condition of a boundary surface based on unified knowledge/experience in regard to various pieces of merchandise.例文帳に追加

この発明は、商品の流体解析を行うための空間の要素分割を容易に行えるようにすること、また、様々な商品に関して統一した知識・経験に基づく境界面の設定条件を提供することで、解析結果の共有化を図ることを課題とするものである。 - 特許庁

A rigidity analyzing apparatus 108 calculates a force applied on the mold 72 for molding by the back surface 54 caused by deformation of the material 50 under the semi-solidifying condition by utilizing the result of the deformation analysis, the rigidity data and restricting conditions.例文帳に追加

剛性解析装置１０８は、変形解析結果と剛性データと拘束条件とを利用して、半凝固状態の材料５０が変形しようとすることに起因してその裏面５４が成形型７２に加える力を算出する。 - 特許庁

An abnormal value extraction part 13 extracts an evaluation point which satisfies an extraction condition predetermined by value of an analysis result from among a plurality of evaluation points on a surface constructing a three-dimensional shape model.例文帳に追加

異常値抽出部１３は、３次元の形状モデルを構成する面上の複数の評価点の中から、解析結果の値が予め定める抽出条件を満たす評価点を抽出する。 - 特許庁

Since the hair shafts projecting from the skin surface are used as a specimen of the gene expression analysis, the hair condition evaluation method of the invention is noninvasive and becomes easily implementable.例文帳に追加

皮表に出た毛幹を遺伝子発現解析の試料として用いることから、本発明の毛髪状態評価法は非侵襲的であり且つ容易に実施可能なものとなる。 - 特許庁

By using actually measured data for which thresholds to a plurality of the MOS FETs of different gate lengths manufactured under the same process condition are actually measured and the analysis model of the threshold of the MOS FET, the impurity density distribution within the substrate of the channel surface of the MOS FET is calculated.例文帳に追加

同一プロセス条件で製造されたゲート長の異なる複数のMOS FET に対する閾値を実測した実測データとMOS FET の閾値の解析モデルを用いて、MOSFET のチヤネル表面の基板内不純物濃度分布を算出する。 - 特許庁

According to this surface roughness evaluating method of a component for an image forming device, a cross- section curve defined by JIS B0601 is found on the surface condition of the component to perform multiple resolution analysis on positional data rows in a surface roughness direction at equally spaced positions on the cross-section curve, and the state of the surface roughness is evaluated at least based on the result.例文帳に追加

画像形成装置用部品の表面の状態についてＪＩＳ Ｂ０６０１に定める断面曲線を求め、その断面曲線上の等間隔位置における表面粗さ方向の位置データー列の多重解像度解析を行い、少なくともその結果に基づいて表面粗さの状態を評価することを特徴とする画像形成装置用部品の表面粗さ評価方法。 - 特許庁

To efficiently treat surface of a sample for analyzing a component in metal under a vacuum condition by arc plasma, and to prevent contamination and the like in the sample to enhance analytical precision of analysis by a component-in-metal analyzer.例文帳に追加

金属中成分分析用の試料を、真空中でアークプラズマによる表面処理を能率よく行うと共に、試料のコンタミ等を防止し金属中成分分析装置による分析精度を向上させることができる金属中成分分析用試料の調整方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The interference waveform analysis means 15, together with a means of measuring a temperature from temperature change of a interference peak position of the interference waveform, measures film quality, surface condition, etc. of the object to be measured by cutting out an interference peak corresponding to an intended surface of the object to be measured, from the interference waveform, and obtaining a Fourier transformed spectrum of the cut out waveform.例文帳に追加

干渉波形解析手段１５は、干渉波形の干渉ピーク位置の温度変化から温度を測定する手段と、干渉波形から測定物の所望の面に対応する干渉ピークを切り出し、その切り出した波形をフーリエ変換したスペクトル図を求めることで、測定物の膜質、表面状態などを測定する。 - 特許庁