two seconds secondとは 意味・読み方・使い方

An image display device 6 displays a picture of a bison as a meaning image 10 for one second and an English word "bison" as a character image 11 for one second, and generates a pronunciation voice 12 of "bison" within a display time (two seconds) of the two images 10 and 11 in normal-speed mode.例文帳に追加

通常速では画像表示装置６には意味画像１０としての野牛の絵が１秒間、文字画像１１としての野牛の英単語である「ｂｉｓｏｎ」が１秒間、２つの画像１０，１１の表示時間（２秒間）内に「ｂｉｓｏｎ」の発音音声１２が流れる。 - 特許庁

The flue part 11 comprises a spiral two layered-second combustion chamber 12 and a second burner 33 to further burn the smoke discharged from the first combustion chamber 2 at high temperatures, and to keep the smoke at a temperature of 800°C or more for two seconds or more, whereby dioxin is completely decomposed to keep safety.例文帳に追加

煙道部１１は渦巻き状かつ２層に形成された第２燃焼室１２と第２バーナー３３を備え、第１燃焼室２から排出された煙をさらに高温燃焼させるとともに、８００℃以上の温度に２秒以上維持可能とすることにより完全にダイオキシンを分解して安全なものとする。 - 特許庁

In the case of reproducing the records by a projector or the like, the two and same records are reproduced at deviated timing, polarization filters having polarization transmission faces which are deviated by 90 degrees are mounted to the records, a time from 0.1 second to several seconds is selected, and the reproducing of one of the records is delayed in the direction of extending a base length.例文帳に追加

映写機等で再生する時にはその２つの同一の記録を時間をずらして再生し、各々に偏光透過面を９０度ずらした偏光フィルターを装着して、０、１秒から数秒の時間を選び、基線が長くなる方向に一方を遅らせる。 - 特許庁

If the announcement of the jackpot is determined to be provided in such a way that the number of characters that appear is from 1 to 3, with each character appearing twice and the characters appearing one after another in one to two seconds, a 'sun' character appears one second after displayed symbols start to vary.例文帳に追加

大当たり予告の態様が、たとえば、出現キャラクタ番号「１→３」、キャラクタ出現回数「２回」および出現タイミング「１→２秒後」に決定された場合、可変表示器５３の表示画面において、表示図柄変動開始から１秒後に太陽キャラクタが出現する。 - 特許庁

Adhesion by molecular bonding of two free surfaces of first and second substrates, for example formed by monocrystalline silicon wafers, comprises at least successively: a cleaning step of the two free surfaces with hydrofluoric acid in vapor phase to make the two free surfaces hydrophobic, a rinsing step of the free surfaces with deionized water with a time period less than or equal to 30 seconds, and a step of bringing the free surfaces into contact.例文帳に追加

例えば単結晶シリコン・ウエハによって形成される、第１および第２の基板の自由表面の分子接合による接着は、少なくとも連続して、自由表面を疎水性にするための、気相のフッ化水素酸での自由表面の洗浄ステップと、３０秒以下の時間の、脱イオン水での前記自由表面のすすぎステップと、前記自由表面を接触させるステップと、を含む。 - 特許庁

In the manufacturing process of a compound dual wavelength laser including two laser structures, or red and infrared, within a single chip, a GaAs substrate 1 is cleaned, before a second epitaxial growth, in such cleaning liquid as containing sulphuric acid 97 wt%, hydrogen peroxide solution 30 wt%, and water at the ratio of 1:1:50-250, at 20-25°C for 20-50 seconds.例文帳に追加

１チップ内に赤色と赤外の二つのレーザ構造を有する化合物二波長レーザの製造工程において、二回目のエピタキシャル成長前のＧａＡｓ基板１に対する洗浄の際、洗浄液を硫酸９７ｗｔ％、過酸化水素水３０ｗｔ％、水、１：１：５０〜２５０の割合で、温度２０〜２５℃にて２０〜５０秒処理する。 - 特許庁