「"脱保護"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

脱保護された部分と脱保護されない部分の溶解度差を利用してアルカリ現像液で現像すると微細パターンを作ることができる。例文帳に追加

When the composition is developed with an alkali developer by utilizing solubility difference between deprotected and un-deprotected parts, a fine pattern can be formed. - 特許庁

ｔ−ブトキシカルボニルで保護された窒素原子の脱保護方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for deprotecting nitrogen atoms protected with t-butoxycarbonyl. - 特許庁

ベンジル保護基等の水素添加反応による選択的脱保護例文帳に追加

SELECTIVE DEPROTECTION BY HYDROGENATION REACTION OF BENZYL PROTECTIVE GROUP OR THE LIKE - 特許庁

ペプチド合成におけるマイクロ波により向上されたＮ−ＦＭＯＣ脱保護例文帳に追加

N-FMOC DEPROTECTION ENHANCED BY MICROWAVE IN PEPTIDE SYNTHESIS - 特許庁

イソプロピリデン基で保護した化合物の選択的脱保護方法例文帳に追加

METHOD FOR SELECTIVELY DEPROTECTING COMPOUND PROTECTED WITH ISOPROPYLIDENE GROUP - 特許庁

酸中に、酸で脱保護されうるＮ−保護アミノ化合物を添加し脱保護反応を行うと共に、生成する脱保護されたアミノ化合物と酸との塩を晶析することを特徴とする、アミノ化合物と酸との塩の結晶の製造方法。例文帳に追加

This method for producing the crystal of salt of the amino compound with the acid is characterized by performing de-blocking reaction of the N-blocked amino compound capable of being de-blocked with the acid by adding the amino compound into the acid, and also crystallizing the salt of the de-blocked amino compound with the acid. - 特許庁

緩和な条件下でアルデヒド由来のアセタールを選択的に脱保護する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for selective deprotection of an acetal originated from aldehyde under a mild condition. - 特許庁

アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法例文帳に追加

DEPROTECTION OF CARBOXYL GROUP AND HYDROXY GROUP PROTECTED WITH ALKYNYLMETHYL GROUP - 特許庁

更に脱保護することにより、高純度の光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンを製造する。例文帳に追加

The optically active 3-(1-pyrrolidinyl)pyrrolidine having high purity is produced by deprotecting the above derivative. - 特許庁

アルキニルメチルオキシカルボニル基で保護したアミノ基および水酸基の脱保護方法例文帳に追加

DEPROTECTION OF AMINO GROUP AND HYDROXY GROUP PROTECTED WITH ALKYNYLMETHYLOXYCARBONYL GROUP - 特許庁

本プロセスによれば、従来のようなヒドロキシ基の保護ならびに脱保護は全く必要としない。例文帳に追加

The protection and deprotection of a hydroxy group are not required at all according to the process as opposed to the conventional process. - 特許庁

中性条件下で脱保護可能な核酸塩基のアミノ基の保護基を提供する。例文帳に追加

To provide a nucleic acid base amino group-protecting group which can be removed under neutral conditions. - 特許庁

ｔ−ブトキシカルボニル基で保護したフェノール性水酸基の脱保護方法例文帳に追加

METHOD OF DEPROTECTING PHENOLIC HYDROXYL GROUP PROTECTED WITH TERTIARY-BUTOXYCARBONYL GROUP - 特許庁

分離の煩雑さの原因となる塩基を実質的に使用せず、基質の分解を抑制し、短時間、高収率にて、9−フルオレニルメトキシカルボニル基を脱保護する脱保護基法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for deprotecting 9-fluorenylmethoxycarbonyl group from a substrate protected with 9-fluorenylmethoxycarbonyl group in a short time and high yield by suppressing decomposition of the substrate without substantially using a base causing complicatedness of separation. - 特許庁

脱保護反応に対してマイクロ波照射を適用すると同時に、Ｆｍｏｃ保護アミノ酸をピペラジンにより脱保護することを含む、ペプチド合成を実施するための方法を開示する。例文帳に追加

The method for carrying out synthesis of peptide comprises application of microwave irradiation to the deprotection reaction and simultaneously deprotecting an Fmoc-protected amino acid with piperazine. - 特許庁

ボロオキサゾリドンのより穏和で、簡便で、かつ所望の脱保護体（α−アミノ酸）に高い効率で変換し得る、開環・脱保護方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for moderately and simply ring-opening and removing boroxazolidone to convert into a desired protecting group-removed compound (α-amino acid) in high efficiency. - 特許庁

脱保護によりイオン交換基に変換可能な官能基を有するブロックと、脱保護によりイオン交換基に変換可能な官能基を実質的に有しないブロックとを有する共重合体を製膜した後、前記官能基を、酸、塩基および塩からなる群より選ばれる１種以上を含む液中で脱保護によりイオン交換基に変換することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。例文帳に追加

In the manufacturing method, a copolymer which has a block having a functional group capable of being converted into an ion exchange group by deprotection and a block which does not have, in substance, a functional group capable of converting into the ion exchange group by deprotection is film-formed and thereafter, the functional group is converted into the ion exchange group by deprotection in a liquid containing one kind or more selected from acid, base and salt. - 特許庁

また、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル保護ベンゼンスルホンアミド誘導体にメタンスルホン酸を作用させてベンジルオキシカルボニル保護基を脱保護する。例文帳に追加

Further, methanesulfonic acid is allowed to act on N-benzyloxycarbonyl- protected benzenesulfonamide derivative to deprotect the benzyloxycarbonyl group. - 特許庁

脱ボラン化により脱保護することで、光学活性なビス（アルキニルホスフィノ）エタン誘導体が得られる。例文帳に追加

An optically active bis(alkynylphosphino)ethane derivative is obtained by the deprotection of the optically active bis(alkynylphosphino)ethane-borane derivative by deboranation. - 特許庁

中性条件下でより簡便に脱保護が可能な１．２−ジオールおよび１，３−ジオールの保護剤を提供する。例文帳に追加

To provide a protecting agent for 1,2-diol and 1,3-diol, more easily deprotectable under neutral conditions. - 特許庁

反応は固相支持体で行われ、各結合反応の間の亜リン酸結合を酸化する必要はあるが、酸性の脱保護条件が避けられる。例文帳に追加

Reactions are conducted on a solid phase support and acidic deprotection conditions are avoided, as is the necessity of oxidizing the phosphite linkage between each coupling reaction. - 特許庁

脱保護工程を必要とせず、所望の光学活性β−アミノ酸誘導体を光学純度よく、収率よく製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a desired optically active β-amino acid derivative in high optical purity and high yield without needing a deprotection process. - 特許庁

本発明は、簡便な工程によってラセミ化等を伴わずに脱保護し得るホスフィンボランからホスフィンを遊離する方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for liberating phosphine from a phosphineborane deprotective in a simple process without being accompanied with racemization, etc. - 特許庁

一般式(II)で表される化合物を脱保護することを特徴とする、一般式(I)で表されるホスホン酸ジエステル誘導体の製造法：例文帳に追加

The production method of a phosphonic acid diester derivative expressed by general formula (I) comprises deprotecting a compound expressed by general formula (II). - 特許庁

エチルニトリル保護基を有するホスフェート基の脱保護中に生成したアクリロニトリルを捕獲する化合物に関する。例文帳に追加

Compounds that scavenge acrylonitrile produced during the deprotection of phosphate groups bearing ethylnitrile protecting groups, are provided. - 特許庁

この露光後処理は、好ましくは、室温からやや高い温度と脱保護反応依存共反応体（例えば、水）の存在を伴う。例文帳に追加

The post-exposure processing preferably involves ambient to moderately elevated temperature and the presence of a deprotection reaction-dependent co-reactant (e.g. water). - 特許庁

前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。例文帳に追加

The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process. - 特許庁

完全に脱保護された合成オリゴヌクレオチドから保護されている合成オリゴヌクレオチドを分離する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for separating synthetic oligonucleotides protected from fully deprotected synthetic oligonucleotides. - 特許庁

ペプチド合成の化学、具体的には固相ペプチド合成（ＳＰＰＳ）における脱保護化学を改良することを目的とする。例文帳に追加

To improve peptide synthesis chemistry, specifically improving deprotection in solid phase peptide synthesis (SPPS). - 特許庁

該２′−ハロゲン−チミジン化合物は、脱ハロゲン化及び脱保護化を経て、チミジンへと誘導することができる。例文帳に追加

The 2'-halogen-thymidine compound can be derived into thymidine through dehalogenation and the removal of a protecting group. - 特許庁

スルホニルエチルカーバメト基を有し、下記一般式（Ｉ）で表される、非プロトン性溶媒中で脱保護可能なインドール基用保護基。例文帳に追加

The protecting group for an indole group, comprising a sulfonylethylcarbamate group is represented by formula (I): CH_3COOCH_2CH_2SO_2R, which protective group can be removed in an aprotic solvent. - 特許庁

これら保護化メルカプトケイ素化合物のカップリング反応は、適切な脱保護化剤の添加により誘発される。例文帳に追加

The coupling reaction of the blocked mercaptosilicon compound is triggered by the addition of an appropriate deblocking agent. - 特許庁

非破壊的であり、いったん最終脱保護または検出が行なわれたら、さらなる工程を必要とせず、脱保護の割合の評価ならびに後の使用に自由に利用し得るバイオポリマーの品質の評価を可能にする方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a nondestructive method capable of evaluating the ratio of deprotection, which is freely used for further use, and evaluating the quality of biopolymers, without the need for further processing, once final deprotection or detection is performed. - 特許庁

支持体表面に、色素前駆体と前記色素前駆体と反応して色素を生成する脱保護剤とを含む画像形成層を有する画像形成材料であって、前記脱保護剤が、求核剤であることを特徴とする画像形成材料。例文帳に追加

The image forming material has an image forming layer containing a dye precursor and a deprotecting agent which reacts with the dye precursor to form a dye on the surface of a support, wherein the deprotecting agent is a nucleophilic agent. - 特許庁

更にこの化合物の２’−β位のフッ素以外のハロゲン原子を還元し、５’位水酸基の脱保護を行い、必要に応じ核酸塩基の保護、脱保護、修飾を行うことにより、３’−α位がフッ素化され、２’位が脱オキシ化されたヌクレオシド誘導体を合成することができる。例文帳に追加

Further the halogen atom except the fluorine atom at the 2'-β position of the compound is reduced, a hydroxy group at the 5'-position is deprotected and, if required, protection, deprotection and modification of nucleic acid base are carried out to synthesize the objective nucleoside derivative fluorinated at the 3'-α position and deoxidized at the 2'-position. - 特許庁

アシル基により保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を少なくとも含む保護ポリマーと、ＣｌｏｇＰの値が１．００以下である第１級または第２級アミン化合物から選ばれる脱保護試薬（但し、第２級アミン化合物はアミノ基の窒素原子に結合する二つの炭素原子がいずれも第３級ではない）とを、有機溶剤に溶解して脱保護するステップを少なくとも含む、保護ポリマーの脱保護方法が提供できる。例文帳に追加

The method for deprotecting a protected polymer includes at least a step of dissolving in an organic solvent the protected polymer comprising at least a unit structure having a phenolic hydroxy group protected with an acyl group and a deprotecting reagent selected from primary or secondary amine compounds each having a ClogP value of 1.00 or less, with the proviso that in the secondary amine compound, neither of the two carbon atoms coupled to the nitrogen atom of the amino group is tertiary. - 特許庁

アシル基によって保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を有する単位構造を含むポリマーの脱保護反応において、より短時間に、他の部分構造を保存したまま脱アシル化を行うことができ、かつポリマーとして取出した際、反応に係わるポリマー以外の物質による汚染を高度に抑制可能な保護ポリマーの脱保護方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for deprotecting a protected polymer, by deacylating a polymer in a short period of time in the deprotection reaction of the polymer comprising a unit structure having a phenolic hydroxy group protected with an acyl group, while maintaining the other structure, and by taking out the deacylated polymer while highly suppressing contamination of the deacylated polymer with a substance other than the polymer taking part in the reaction. - 特許庁

保護された化学的官能基を有する分子に近接する電極をその表面に有する基質を準備する工程、該分子の保護された化学的官能基を脱保護できる電気化学的試剤を生成させるのに充分に該電極に電位を適用する工程、および脱保護された化学的官能基をモノマーまたは予め形成された分子と結合する工程を含んでなる方法。例文帳に追加

The method comprises the step of preparing a substrate having electrodes on its surface close to a molecule having a protected chemical functional group, the step of applying between the electrodes an electric potential large enough to form an electrochemical reagent capable of deprotecting the protected chemical functional group of the molecule, and the step of bonding the deprotected chemical functional group to a monomer or a preformed molecule. - 特許庁

ペプチドまたはペプチド模倣分子を−Ｓスルホネート基及び酸不安定保護基で保護化された−ＳＨ基を含有する線状前駆体に変換し、無水非プロトン性非極性有機溶媒中、ｐＨ３未満で、少なくとも１つのカルボカチオンスカベンジャーの存在下でこの保護されたＳＨ基を選択的に脱保護し、脱保護された線状前駆体をｐＨ５〜９で溶解し、環化させる。例文帳に追加

The method comprises converting the peptide or the peptide analogous molecule to a linear precursor containing an -S sulfonate group and an -SH group protected by an acid-unstable protective group, selectively deprotecting the protected SH group in an anhydrous aprotic nonpolar organic solvent at pH<3 in the presence of at least one carbocation scavenger, and dissolving the deprotected linear precursor at pH 5-9 to cyclize the precursor. - 特許庁

アミノ酸が塩を作らない条件下で脱保護、入手の容易な２−ニトロフェニルスルフェニル基（ＮＰＳ）を用い、テアニンの有用な中間体であるNPS−グルタミン酸−γ−エチルアミドを合成し、さらにチオアミド類を用いた脱保護工程を有する、テアニンを安全にかつ、高収率、高純度で製造する。例文帳に追加

The method for safely manufacturing the theanine of high purity in the high yield comprises a step of synthesizing NPS-glutamic acid-γ-ethylamide, a useful intermediate of theanine, using a readily available 2-nitrophenylsulfenyl group (NPS) which can be deprotected under a condition such that an amino acid forms no salts, and a deprotection step using a thioamide compound. - 特許庁

本発明は、トリチルカンデサルタンシレキセチルの脱保護とカンデサルタンシレキセチルの結晶化および／または再結晶化により、実質的に純粋なカンデサルタンシレキセチルを調製することを特徴とする。例文帳に追加

Substantially pure candesartan cilexetil can be prepared by removing a protecting group from cilexetil trityl candesartan and crystallizing and/or recrystallizing the candesartan cilexetil. - 特許庁

ｔ−ブトキシカルボニルで保護された窒素原子を有する有機化合物は、フッ素化アルコール溶液中で加熱することにより効率的に脱保護される。例文帳に追加

An organic compound having the nitrogen atoms protected with t-butoxycarbonyl is effectively deprotected by heating in a fluorinated alcohol solution. - 特許庁

このアセタールを１，２−ジオール，１，３−ジオールと反応させることにより得られる環状アセタールは，テトラフルオロボレートアニオンの存在下，中性条件で容易に脱保護が可能である。例文帳に追加

A cyclic acetal as the protecting agent obtained by reaction of the above acetal with a 1,2-diol or 1,3-diol is easily deprotectable under neutral conditions in the presence of tetrafluoroborate anion. - 特許庁

６−デオキシ−６−ハロゲン化キトサン誘導体からアジド化、ホスフィンイミド化、ならびにヒドラジン処理によるホスフィンイミド基の加水分解およびＣ−２位アミノ基の脱保護を経由して製造することができる。例文帳に追加

The 6-amino-6-deoxy chitosan is manufactured by azidizing and phosphine-imidizing a 6-deoxy-6-halogenated chitosan derivative, hydrolyzing the phosphine imide group by hydrazine treatment and deprotecting the amino group at the C-2 position. - 特許庁

アルキルアルコキシシリル基により保護された水酸基を含有し、脱保護により脱離したシリル基がシルセスキオキサン骨格に組み込まれるアルコキシシランを提供する。例文帳に追加

To provide an alkoxysilane comprising a hydroxy group protected by an alkylalkoxysilyl group wherein a silyl group detached from the alkylalkoxysilyl group by deprotection is integrated into its silsesquioxane skeleton. - 特許庁