「"basic-pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DRAWING OF FIGURE FOR DART TREATMENT USING BASIC PATTERN OF CLOTHES例文帳に追加

衣服の原型を用いたダーツ処理作図方法 - 特許庁

A film particle basic pattern 86 in which histogram of random noise is regarded as almost the same as film particle basic pattern information 53 is generated by a basic pattern generator 81.例文帳に追加

基本パターン生成装置８１によって、ランダムノイズのヒストグラムがフィルム粒子基本パターン情報５３とほぼ同一とされたフィルム粒子基本パターン８６が生成される。 - 特許庁

The electronic watermark includes at least one basic pattern.例文帳に追加

電子透かしは、少なくとも１つの基底パターンを含む。 - 特許庁

The same pattern row as a basic pattern is arranged on a part of 1 of a basic pattern P0, and a 0-pattern having the same number of digits as the basic pattern is arranged on a 0-part, to thereby acquire a primary developed pattern P1.例文帳に追加

基本パターンＰ０の１の部分に、基本パターンと同じパターン列を配置し、０の部分に、基本パターンと同じ桁数の０パターンを配置し、１次展開パターンＰ１を得る。 - 特許庁

Additionally, one selected basic pattern data is selected from the plurality of the basic pattern data based on the comparison of both (S20).例文帳に追加

そして、両者の比較に基づいて、複数の基本パターンデータの中から一つの選択基本パターンデータを選択する（Ｓ２０）。 - 特許庁

The beam-setting pattern is composed of one basic pattern and a plurality of deformed patterns that uses the beam-control data of the basic pattern.例文帳に追加

このビームセッティングパターンは、１つの基本パターンと、この基本パターンのビーム制御データを用いた複数の変形パターンからなる。 - 特許庁

Then, based on a comparison of the two, one set of selected basic pattern data is selected from among the multiple sets of basic pattern data (S20).例文帳に追加

そして、両者の比較に基づいて、複数の基本パターンデータの中から一つの選択基本パターンデータを選択する（Ｓ２０）。 - 特許庁

METHOD FOR MAKING BASIC PATTERN PAD, AND METHOD FOR MAKING GARMENT PAD例文帳に追加

原型パッド製造方法および衣料用パッド製造方法 - 特許庁

When it becomes prescribed time, the management computer 21 extracts stylist's basic pattern data specified from a basic pattern data storage part 26.例文帳に追加

管理コンピュータ２１は、所定時刻になると、基本パターンデータ記憶部２６から指定されたスタイリストの基本パターンデータを抽出する。 - 特許庁

In the basic pattern, the main character is a fireman with young people relating to him. 例文帳に追加

鳶職を主役にそえ、これに若衆がからむのが基本。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A basic pattern resetting unit 24 sets the basic pattern again in accordance with a channel usage method of a bit transfer order in the high-speed serial transfer device.例文帳に追加

基本パターン再設定部２４は高速シリアル転送デバイスにおけるビット転送順序のチャネル使用方法に合わせて基本パターンを再設定する。 - 特許庁

A basic pattern setting unit 22 sets a basic pattern while considering a byte order scheme and an RD value of code conversion in the high-speed serial transfer device.例文帳に追加

基本パターン設定部２２は、高速シリアル転送デバイスにおけるバイト順序方式と符号変換のＲＤ値を考慮したうえで基本パターンを設定する。 - 特許庁

The watermark image is correlated with the basic pattern to provide a resulting image.例文帳に追加

電子透かし画像は、基底パターンと相関させられて結果画像を提供する。 - 特許庁

A basic pattern adjustment section 26 adjusts the coefficients P'hij to generate P'hij1-P'hijn.例文帳に追加

基本パターン調整部２６は、Ｐ’hijの係数を調節してＰ’hij1〜Ｐ’hijnを生成する。 - 特許庁

A coordinate transformation part transforms the return map 202 to a fan-shaped basic pattern 210.例文帳に追加

座標変換部は、リターンマップ２０２を扇形の基本パターン２１０へ変換する。 - 特許庁

The binary-coding pattern creating method of this invention includes: a basic pattern shape creating step F10 of creating a basic pattern shape of a binary-coding pattern; a lighting sequence determining step F20 of determining the lighting sequence of pixels configuring the basic pattern; and a rectangular pattern creating step F30 of creating a rectangular pattern acting like the binary-coding pattern on the basis of the basic pattern.例文帳に追加

二値化用パターンの基本パターンの形状を演算により作成する基本パターン形状作成ステップＦ１０と、基本パターンを構成するピクセルの点灯順序を決定する点灯順序決定ステップＦ２０と、基本パターンに基づいて、二値化用パターンとして機能する矩形状パターンを作成する矩形状パターン作成ステップＦ３０とをそなえる。 - 特許庁

A pattern discrimination section 143 discriminates whether the nine pixels around the target pixel correspond to a basic pattern of defective pixels or a basic pattern of normal pixels on the basis of a result of the discrimination by the comparison section 142.例文帳に追加

比較部１４２の結果に基づいて、パターン判定部１４３において、注目画素を中心とする９画素が欠陥画素、正常画素の基本パターンに対応するかが判定される。 - 特許庁

By interposing a shield plate 10 between the basic pattern pad 20 and the flat surface part 6a of a female mold 6, a cutting cutter 15 comes in contact with the basic pattern pad 20 first when starting to cross the recessed surface part 6b of the female mold 6, and then, starts to cut the basic pattern pad 20.例文帳に追加

遮断プレート１０が原型パッド２０と雌型６の平坦面部６ａとの間に介在することによって、切断カッター１５は、雌型６の凹面部６ｂを横切り始めるときに、初めて原型パッド２０と接触して原型パッド２０を切断し始める。 - 特許庁

Each basic pattern 1, 2 has its own decided available Duty (areas 1a, 1b, 2).例文帳に追加

各基本パターン１，２は、それぞれ使用可能なＤｕｔｙが決められている（エリア１ａ，１ｂ，２）。 - 特許庁

The defect detection sensitivity is inspected by using a mask for defect inspection having a photomask pattern which includes a basic pattern and a pattern defect comprising a resist pattern at a specified position of the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンと、基本パターンの所定の位置に、レジストパターンにより形成されたパターン欠陥とを含むフォトマスクパターンを有する欠陥検査用マスクを用いて、欠陥検出感度検査を行う。 - 特許庁

Furthermore, the same pattern as the basic pattern P0 is arranged on a 1-part of the primary developed pattern, and the 0-pattern having the same number of digits as the basic pattern is arranged on a 0-part, to thereby acquire a secondary developed pattern P2.例文帳に追加

さらに、１次展開パターンの１の部分に、基本パターンＰ０と同じパターンを配置し、０の部分に、基本パターンと同じ桁数の０パターンを配置することによって、２次展開パターンＰ２を得る。 - 特許庁

The TEG pattern is formed on the basis of the set basic pattern and variation condition.例文帳に追加

設定されたＴＥＧパターンの基本形状、及びバリエーション条件に基づいて、ＴＥＧパターンを作成する。 - 特許庁

To make a basic pattern composed of a greater number of pixels and also to minimize moire and artifacts.例文帳に追加

より多くの画素で基本パターンが構成され、且つ、モアレやアーティファクトを軽減することができるようにする。 - 特許庁

The peaks in the resulting image correspond with the positions in which the basic pattern has been detected in the watermarked image.例文帳に追加

結果画像のピークは、基底パターンが電子透かし入り画像において検出された位置と一致する。 - 特許庁

An on-dot position decoder 18-4 detects an on-dot position in one line based on this basic pattern.例文帳に追加

ＯＮドット位置デコーダ１８−４はこの基本パターンに基づいて１ライン中のオンドット位置を検出する。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING BASIC PATTERN OF GARMENT, DESIGN-ASSISTING SOFTWARE AND RECORDING MEDIUM ON WHICH PROGRAM OF THE SOFTWARE IS RECORDED例文帳に追加

服ベーシックパターンの設計方法、該設計支援ソフト及び該ソフトのプログラムが記録された記録媒体 - 特許庁

Second, a basic pattern registration means is set up to register basic patterns used in ball arrangement patterns.例文帳に追加

第２に、ボール配置パターンに用いられる基本パターンを登録する基本パターン登録手段を設ける。 - 特許庁

The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁

The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.例文帳に追加

また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁

Since the pattern formation data 91 include a basic pattern part 911 and the correction rule part 913, the basic pattern and the correction rule on pattern formation are defined individually, which easily improves design efficiency of a pattern.例文帳に追加

パターン形成用データ９１は、基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上を容易に行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for drawing a figure, etc., for preparing a basic pattern by numerically converting the shape of the basic pattern adaptable to more persons in the tolerance of one size of clothes (e.g. No.9 size of JIS Standards) and drawing the figure.例文帳に追加

衣服のワンサイズ（例えば、ＪＩＳ規格の９号サイズ等）の許容範囲の中でより多数の人に適合できる原型の形状を数値化して作図し、原型を作成する作図方法等を提供すること。 - 特許庁

Similarly, the same pattern as the basic pattern P0 is arranged on a 1-part of the (N-1)-th developed pattern, and the 0-pattern having the same number of digits as the basic pattern is arranged on a 0-part, to thereby acquire the N-th developed pattern Pn.例文帳に追加

同様に、Ｎ−１次展開パターンの１の部分に、基本パターンＰ０と同じパターンを配置し、０の部分に、基本パターンと同じ桁数の０パターンを配置することによって、Ｎ次展開パターンＰｎを得る。 - 特許庁

IMAGE PROCESSOR, IMAGE RECOGNITION DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS, METHOD FOR EXTRACTING BASIC PATTERN, COMPUTER PROGRAM AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

画像処理装置、画像認識装置、画像形成装置、基本パターン抽出方法、コンピュータプログラム及び記録媒体 - 特許庁

Furthermore, the spread frequency which is the inverse of the cycle T of the basic pattern is set to audible frequency or more.例文帳に追加

更に、この基本パターンの周期Ｔの逆数である拡散周波数を可聴周波数以上に設定する。 - 特許庁

Multiple sets of basic pattern data that respectively include a plurality of basic coefficients representing basic patterns of color change are prepared.例文帳に追加

色の変化の基本パターンを表す複数の基本係数をそれぞれ含む複数の基本パターンデータを準備する。 - 特許庁

Then an inspection pattern is formed on the basis of the basic pattern, the variation condition and the inspection condition.例文帳に追加

また、ＴＥＧパターンの基本形状、バリエーション条件、及び検査条件に基づいて、検査用パターンを作成する。 - 特許庁

Consequently, even if the display magnification is changed, the plurality of basic pattern elements are displayed with the same position relation.例文帳に追加

よって、表示倍率が変更されたとしても、これら複数の基本図形要素は、同じ位置関係で表示される。 - 特許庁

Whether or not the trend of the change in an image control voltage value deviates from a basic pattern is judged, based on these information.例文帳に追加

この情報を基に例えば、画像制御電圧値の変化の傾向が基本パターンを外れていないかを判断する。 - 特許庁

Fourth, basic patterns used in the ball arrangement patterns are selected from the basic pattern registration means based on the memory means.例文帳に追加

第４に、ボール配置パターンに用いられている基本パターンを記憶手段を基に基本パターン登録手段から選択する。 - 特許庁

Four or more of reference points corresponding to a basic pattern are detected from a distortion detecting image obtained by the TV camera (S4).例文帳に追加

ＴＶカメラで得られた歪み検出画像から基本図形に対応した４個以上の基準点を検出する（Ｓ４）。 - 特許庁

A basic pattern P1 with N poles on two surfaces and S poles on the remaining surfaces and a basic pattern P2 with reversed N and S poles are alternately assigned to block members 11-18 of an assembly 100, and an expansion plan is created.例文帳に追加

組み立て体１００において、ブロック部材１１〜１８に関して、２つの表面がＮ極であり残りの表面がＳ極である基本パターンＰ１と、Ｎ極及びＳ極が逆転した基本パターンＰ２とを交互に割り当て、展開図を作成する。 - 特許庁

The device pattern PT12 is formed by forming a basic pattern PT having preset fixed width and length, and then forming a projection pattern PT13 to be coupled with the basic pattern PT at least partially.例文帳に追加

このデバイスパターンＰＴ１２の形成は、予め設定した一定の幅および長さを有する基本パターンＰＴを形成すると共に、基本パターンＰＴの少なくとも一部に連結されるように突出パターンＰＴ１３を形成することにより行う。 - 特許庁

For this purpose, the drawing data of the basic pattern consisting of one recessed groove 26 and one projected line 27 is formed as a basis, and the patterns consisting of the recessed grooves 26 and the projected lines 27 varying in the pitches are continuously drawn by changing the scale of the drawing data of the basic pattern.例文帳に追加

そのために、１つの凹溝２６と凸条２７からなる基本パターンの描画データを基本とし、その基本パターンの描画データの縮尺を変えてピッチが異なる凹溝２６と凸条２７からなるパターンを連続的に描画する。 - 特許庁

The roll position control element signal ΔSd and the compensation pattern Δh1d are obtained based on the basic pattern Δhc.例文帳に追加

この基本パターンΔｈｃに基づいてロール位置制御要素信号ΔＳｄと、さらに補償パターンΔｈ１ｄとを求める。 - 特許庁

The generated basic pattern 10 is temporarily stored, and is transmitted to an image forming device 59 via a network I/F 57.例文帳に追加

生成された基本パターン１０は一時格納された後、ネットワークＩ／Ｆ５７を介して画像形成装置５９へ送信される。 - 特許庁