「"basic-pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

That is, the opening section electrode forming mask 110 has the elongated groove-like translucent pattern 114 as a basic pattern part, and the translucent patterns 116 and 118 which expand each of the two elongated longitudinal groove-like edges as correction pattern parts.例文帳に追加

すなわち、透光パターンとしては、基本パターン部として細長い溝状形状の透光パターン１１４と、補正パターン部として細長い溝状形状の長手方向の両端部のそれぞれの部分を拡張する透光パターン１１６，１１８とを有する。 - 特許庁

(3) In pattern matching processing, absolute differences between pixels in the basic pattern 10x in which a temporal interpolation value is set in a missing pixel X(A_n) by the processing (2) and the corresponding pixels in the comparative pattern 10y1, both pixels being in the same positional relation to each set, are summed up.例文帳に追加

（３）パターンマッチング処理は、上記（２）の処理にて欠落画素Ｘ（Ａ_ｎ）に仮補間値が挿入された基本パターン１０ｘと比較パターン１０ｙ１の同じ位置関係にある画素同士のそれぞれの差分を絶対値で合計する計算を行う。 - 特許庁

A part where a diffusion layer 1 of a transistor and a basic pattern OP of a gate pattern overlap with each other is computed, patterns of specific width are formed on both the sides of the overlap part, and both the sides of the pattern are extended to outside the diffusion layer 1 to obtain a pattern P3 of the phase shifter.例文帳に追加

トランジスタの拡散層１とゲートパターンの基本パターンＯＰとの重複部分を算出し、重複部分の両側に所定幅のパターンを生成し、前記パターンの両側を拡散層１外まで延長して、位相シフタのパターンＰ３として生成する。 - 特許庁

Output of the basic pattern generator G_0 and output of the k-pieces of preferential pattern generators G_k are connected to signal inputs of corresponding selector circuits T_k, respectively, and output of the preferential pattern selection conditions S_k is connected to an on/off control input of each selector circuit T_k.例文帳に追加

基本パターン発生器（Ｇ_0）の出力およびｋ個の優先パターン発生器（Ｇ_k）の出力は、それぞれ対応するセレクタ回路Ｔ_kの信号入力に接続され、優先パターン選択条件（Ｓ_k）の出力は、各セレクタ回路Ｔ_kのＯＮ／ＯＦＦの制御入力と接続される。 - 特許庁

As the driving pattern, there are; a type A of basic pattern which includes a bit arrangement which instructs a liquid crystal element to turn on or turn off for one gradation level for each subfield; and types B, C of shift pattern which shift the phase of the bit arrangement with respect to the type A in units 'six' which means the number of the subfields.例文帳に追加

駆動パターンには、一の階調レベルに対しサブフィールド毎に液晶素子をオン駆動またはオフ駆動を指示するビット配列からなる基本パターンのタイプＡと、当該タイプＡに対しサブフィールド数の「６」を単位としてビット配列の位相をシフトさせたシフトパターンのタイプＢ、Ｃとがある。 - 特許庁

A basic pattern 8 being a light-transmitting region where a projection image by an exposure device is formed in the size corresponding to the resolution limit is combined with an auxiliary pattern 10 that shields part of the light-transmitting region against light and divides the residual light-transmitting region into a plurality of partial light-transmitting regions 16.例文帳に追加

露光装置による投影像が解像限界に応じた大きさに形成される透光領域である基本パターン８に、透光領域内の一部を遮光して残りの透光領域を複数の部分透光領域１６に分割する補助パターン１０を合成する。 - 特許庁

The electrodes are formed on the upper and lower sides of a dielectric plate, and further, for example a plurality of four-aperture four-sided basic patterns are arranged thereon, and the strip-like conductor of a two- aperture circuit is determined so that adjacent two-aperture circuits of each basic pattern should exhibit band-stop filter characteristics.例文帳に追加

誘電体板の上下面に電極を形成するとともに、例えば４開口で四角形状の基本パターンを複数個配置し、各基本パターンの隣接２開口回路が帯域阻止フィルタ特性を示すように、その２開口回路のストリップ状導体を定める。 - 特許庁

In this verification support device, a logic expression which expresses operation of a pattern generator G comprising one basic pattern generator G_0, k-pieces of preferential pattern generators G_k, k-pieces of preferential pattern selection conditions S_k, and k-pieces of selector circuits T_k for connecting them can be obtained.例文帳に追加

検証支援装置では、一つの基本パターン発生器（Ｇ_0）と、ｋ個の優先パターン発生器（Ｇ_k）と、ｋ個の優先パターン選択条件Ｓ_kと、これらを接続するｋ個のセレクタ回路Ｔ_kと、から構成されているパターン発生器（Ｇ）の動作を表現する論理式を得ることができる。 - 特許庁

Consequently, at the process until the cutting cutter 15 reaches the recessed surface part 6b of the female mold 6b, the movement of the cutting cutter 15 is not disturbed by the portion of the basic pattern pad 20 projecting toward the flat surface part 6a of the female mold 6, and also, the track of the cutting cutter 15 is not vibrated during cutting.例文帳に追加

このため、切断カッター１５が雌型６の凹面部６ｂに達するまでの過程で、切断カッター１５の動きが雌型６の平坦面部６ａにはみ出た原型パッド２０の部分に邪魔されることもなく、切断カッター１５の切断時の軌道が振れ動くこともなくなる。 - 特許庁

In this method for forming the textile design, the textile design is drawn by being overlapped with a basic pattern for the textile design of which the front view 10 and the rear view 12 are each formed by projecting proportion of the human body, using a reduced scale similar to a scale used in forming the paper pattern of clothing, and jointly using designing ability.例文帳に追加

意匠図原型正面図１０、及び背面図１２は、人体プロポーションを投影して作成した意匠図原型であり、この意匠図原型に重ねて、被服の型紙の作成に用いるのと同様の縮尺定規を使用し、かつデッサン力も併用しながら、意匠図を描く。 - 特許庁

A virtual base point is set on an image plane, and, concerning the plurality of basic pattern elements having a specific relative position relation, the position of the base point thereof is set by the relative position on a relative coordinate on a screen where the relative position with the virtual base point on the image plane becomes constant regardless of the display magnification.例文帳に追加

画面上に仮想基点を設定し、特定の相対位置関係にある複数の基本図形要素についてはその基点の位置を、画面上における仮想基点との相対位置が表示倍率に関わらず一定となるスクリーン上相対座標における相対位置で設定する。 - 特許庁

When the manufacturing process of the sample substrate progresses subsequently and variation is detected in the shape of the basic pattern, a new pattern used for correcting the mounting position of the sample substrate on the supporting base is recorded temporarily, and the positional shift is corrected when mounting the sample substrate on the supporting base using the new pattern recorded temporarily.例文帳に追加

その後、試料基板の製造処理が進行し、基本パターンの形状に変化があった場合に、試料基板を支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる新たなパターンを仮記録し、仮登録された新たなパターンを用いて、試料基板を支持台に載置する際の載置位置のズレを補正する。 - 特許庁

An opening section electrode forming mask 110 as an exposure mask for manufacturing a liquid crystal display device has a translucent pattern 114 same as a translucent pattern 104 of a conventional opening section electrode forming mask 100 as a basic pattern part, and translucent patterns 116 and 118 for partial correction as correction pattern parts at the point where disclination may occur.例文帳に追加

液晶表示装置製造用露光マスクとしての開口部電極形成マスク１１０は、従来技術の開口部電極形成マスク１００の透光パターン１０４と同じ透光パターン１１４を基本パターン部として、さらに、ディスクリネーションの発生する箇所に補正パターン部である部分補正用の透光パターン１１６，１１８を有する。 - 特許庁

The game music processing means conducts the processing of creating the game music piece as rooter's song of each team of two or more teams appearing in a game according to a basic pattern selected by a player from two or more previously provided basic patterns having each theme, which is performed as the game music piece in the course of the game by the game operation means.例文帳に追加

ゲーム音楽処理手段は、その各々が少なくとも旋律を有する予め用意された複数の基本パターンの中からプレーヤにより選択された基本パターンに基づいて、ゲームに登場する複数のチームの各チームの応援歌であるゲーム音楽を、ゲーム演算手段により進行するゲーム中に演奏するゲーム音楽として作成する処理を行う。 - 特許庁

A display control board 32 forming a display control means of a game machine has an image ROM 46 holding the basic stationary image data showing basic pattern of an image, a video display processor(VDP) 45 having the function of reducing and enlarging image data in the x and y directions, a CPU 41 computing the y direction position of the image data and the target values of expansion and reduction ratios.例文帳に追加

遊技機の表示制御手段を構成する表示制御基板３２は、画像の基本姿態を表わした基本静止画像データを保持する画像ＲＯＭ４６と、画像データをｘｙ両方向に縮小及び拡大する機能を持つビデオディスプレイプロセッサ（ＶＤＰ）４５と、画像データのｙ方向位置及び拡縮倍率の目標値を演算するＣＰＵ４１とを備える。 - 特許庁

A data generating apparatus converts a description format of basic pattern CAD data into XML to generate pattern formation data 91, adds a rule addition index 912 representing pattern formation conditions and an object pattern element to the pattern formation data 91, and further adds a correction rule as a correction rule part 913 acquired from a database, based on the rule addition index 912.例文帳に追加

データ生成装置では、基礎パターンＣＡＤデータの記述形式がＸＭＬに変換されてパターン形成用データ９１が生成され、パターン形成用データ９１には、パターン形成条件および対象パターン要素を示すルール付加用インデックス９１２が付加され、さらに、ルール付加用インデックス９１２に基づいてデータベースから取得された補正ルールが補正ルール部９１３として付加される。 - 特許庁

Among SMEs, on the other hand, which make up for shortages of business resources through divisions of labor and business collaboration with local enterprises, the emphasis on "proximity to related enterprises" is certainly not falling and the role of industrial clusters in reducing invisible costs such as time and labor is as important as ever. There has thus been no decline in the basic pattern of clusters giving rise to clusters (Fig. 2-3-7).例文帳に追加

一方、経営資源の不足を、地域内企業間の分業体制や事業提携等で補っている中小企業について見ると、「関連企業への近接性」を重要視する度合いは決して低下しておらず、時間や手間などの目に見えないコストを削減するという産業集積の役割は依然として重要であり、集積が集積をもたらす基本的な構図は失われていないことが分かる（第2-3-7図）。 - 経済産業省

The pattern detection means 43 has a regulation plate 48 provided in a protruding condition from its reading surface 47; and by having the basic pattern at detection, the tip part of the regulation plate 48 abuts against the recording paper P, the distance between the recording paper P and the pattern detection means 43 is maintained to be the focal distance F of the pattern detection means 43.例文帳に追加

画像形成装置１は、基本パターン検知時に基本パターンが形成され定着された記録紙Ｐを読取位置で停止させる停止手段４２と、停止手段４２により読取位置で停止された記録紙Ｐ上の基本パターンを検知する移動可能なパターン検知手段４３とを備え、パターン検知手段４３は、その読取面４７から突設された規制板４８を有し、基本パターン検知時には、規制板４８の先端部分が記録紙Ｐに当接されることで記録紙Ｐとの距離がパターン検知手段４３の焦点距離Ｆに維持される。 - 特許庁