「ばんそうこう」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

柔軟性、形状自在性（複雑な形状への折り曲げ追随性）を備え、主にＥＭＣ対策材料として応用展開が広く、また、高温高湿の環境下においても高い電磁波遮蔽能力が継続的に保持されるといった耐候性の材料的な安定性が格段に改善され、しかも、エラストマー材料基板との接合性（密着性）がより一層効果的に強化される等、より高い信頼性が得られる電磁波遮蔽体を提供する。例文帳に追加

To provide a reliable electromagnetic wave shielding body wherein, having flexibility and deformability (follows up bending into complex shape), applicable as, mainly, an EMC countermeasure material, the stability of material in weather-resistance is significantly improved as the electromagnetic wave shielding ability is kept high even at high-temperature and high-humidity, while the jointing characteristics (adhesion) to an elastomer material is further enhanced. - 特許庁

塗装工程または表面処理工程で生じる廃水の処理を行う廃水処理装置であって、廃水またはその処理物を電気分解処理する電気分解槽３を備え、この電気分解槽３は、当該電気分解槽３中の電気分解用電極板１０ｃ及び１０ｄが、当該電気分解槽３中での廃水処理液の流れに対して抵抗が少なくなるように配置された複数組の略平行電極群によって構成されている。例文帳に追加

The apparatus for treating wastewater generated in a coating process or a surface treatment process has an electrolytic cell 3 for electrolyzing the wastewater or the treated wastewater, and the electrolytic cell 3 is constituted by the sets of approximately parallel electrode groups in which electrode plates 10c and 10d for electrolysis in the electrolytic cell 3 are arranged so as to reduce resistance to the flow of a wastewater treating liquid in the electrolytic cell 3. - 特許庁

半導体基板１に不純物がイオン注入されて形成されたソース／ドレインとして機能するビットライン５と、ゲート電極として機能するワードライン７とが交差する構成の埋め込みビットライン型フラッシュメモリにおいて、ビットライン５を形成するための不純物のイオン注入及びその活性化のためのアニール処理を行った後に、シリコン酸化膜／シリコン窒化膜／シリコン酸化膜からなる３層構造のＯＮＯ膜６を成膜する。例文帳に追加

In a buried bit line type flash memory arranged such that a bit line 5 functioning as source-drain formed by implanting impurity ions into a semiconductor substrate 1 intersects a word line 7 functioning as a gate electrode, a three layer structure ONO film 6 of silicon oxide film/silicon nitride film/silicon oxide film is formed after impurity ions for forming the bit line 5 are implanted and annealing for activation is performed. - 特許庁

同一基板上に一体に形成された複数のアンテナ部を含む平面アンテナを中心に構成するものであって、各アンテナ部は、誘電体を導体で被覆し、前記誘電体の導体被覆面の一部に前記導体で覆われないパターンを有し、前記複数のアンテナ部の前記パターンは、それぞれ異なる方向の輻射偏波面を有することを特徴とする平面アンテナと結合層とＭＭＩＣ層から構成する積層構造アンテナを提供する。例文帳に追加

The laminated structure antenna is constituted of a planar antenna including a plurality of antenna parts integrally formed on the same substrate, a coupling layer and an MMIC layer, each antenna part has dielectric coated with a conductor and a pattern uncoated by the conductor in a part of a conductor-coated surface of the dielectric, the patterns of the plurality of antenna parts have radiation polarization surfaces in mutually different directions. - 特許庁

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３乃至１．２である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

A 2-layer structure antireflection coating is formed between a resist layer and a silicon oxide film formed on the surface of a silicon semiconductor substrate, and is used for exposing the resist layer by an exposure system whose numerical aperture is 0.93-1.2, with a wavelength of 190-195 nm. - 特許庁

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３を越え１．０以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate. - 特許庁

１つの設備を特定するための階層構造の複数の情報に各々付与した階層設備ＩＤと、該階層設備ＩＤのいずれかに対応して定義された設備仕様情報とが格納された設備仕様情報データベース１０と、前記階層設備ＩＤに該当する前記設備仕様情報データベース１０内の設備仕様情報を、最下層の階層設備ＩＤから上層の階層設備ＩＤへ順番に検索する管理制御部２０とを備える。例文帳に追加

The equipment information management system includes: an equipment specification information database 10 storing hierarchical equipment IDs assigned to a plurality of hierarchical information identifying a piece of equipment, and equipment specification information defined in association with any of the hierarchical equipment IDs; and a management control part 20 for searching the equipment specification information database 10 for the equipment specification information corresponding to the hierarchical equipment IDs from the bottom to the top. - 特許庁

このようなリンクを張られた原告らが、上記中国法人及び当該法人の日本の代理店である被告による上記行為は原告らの名誉及び信用を毀損する共同不法行為を構成するとともに、原告会社との関係では不正競争防止法第２条第１項第１４号所定の不正競争行為に該当するなどとして、被告に対し、損害賠償等を求めた事案がある。この点、裁判所は、被告が、中国法人において本件ウェブページを作成するに当たり、少なくともそのためのデータや資料を提供するなどして、これに関与していたものであり、ひいては同法人が本件表示行為をするに当たって関与したものと認めるのが相当であり、被告は、本件表示行為について、原告会社との関係で社会的信用を害する虚偽の事実を流布するものであるとして、不正競争防止法第2条第1項第14号の不正競争行為であることを認め、原告個人との関係で名誉・信用毀損、氏名権侵害を認めて、同法人と共同不法行為責任を負うものというべきであるなどとして請求の一部を認めた（大阪地裁平成 19年7月26日判決）。例文帳に追加

Further, the dissemination of false information detrimental to the reputation of another person's business may also constitute an unfair competition (Article 2 Paragraph 1 Item 14 of the same). In a case where the Plaintiffs (the Company (party P1) and its director (party P2)) filed a claim for compensation of damages etc. against the defendant (a Chinese company (party D1) and its agent in Japan (party D2)) on the ground that the D1, which was P1's competitor, indicated on D1's Japanese website as if P1 were an Japanese agent of the D1 and a link was set from D1's website to P1's website. Plaintiff alleged that the aforementioned acts committed by D1 and D2 disparaged P1's reputation and therefore constitute a joint tort. Further, such acts also amounts to unfair competition against P1 as defined in Article 2 Paragraph 1 Item 14 of the Unfair Competition Prevention Act (the "UCPA"). The court partially accepted the Plaintiffs' claim on the ground that D2 had at least provided data and materials for creating D1's website and D2 was also involved not only in creating such website but also in misrepresenting P1 in D1's website, thereby disseminating false information detrimental to the P1's reputation as referred to in Article 2 Paragraph 1 Item 14 of the ULPA. It was held that D1 and D2 are jointly liable to P2 for libel, defamation and infringement of name rights (Osaka District Court, July 26, 2007).  - 経済産業省

平膜の素材はセルロース誘導体およびそれをケン化した再生セルロース多層構造膜で、平均孔径が５ｎｍ〜５００ｎｍ膜厚は４０μｍ〜５００μｍ、空孔率０．７以上で１００層以上の積層体で１層の厚さが０．０５μｍ〜０．５μｍである膜を設計し、かつ膜の平均孔径の２倍の平均粒子径を持つ微粒子の平膜の表裏面での濾過による粒子捕捉量の比が１／５以下で１／１００以上であることを特徴とする平膜と、該平膜を作製する方法において乾式法のミクロ相分離法で製膜し、流延用溶液をミクロな凹凸を持つ固体平板状に流延することを特徴とする製膜方法を採用すれば該平膜が作製できる。例文帳に追加

The method for manufacturing the flat membrane includes producing the membrane by a dry-type micro-phase separation method and casting a coasting solution in a form of a solid flat plate with micro irregularities. - 特許庁

何れの所有者も，使用の排他権に基づいて，業として次の行為をする何人に対しても訴訟を提起する権利を有する。 (a) 限定された区域の原産でない生産品に関して，保護されている地理的表示又は混同を生じさせる虞がある名称を使用すること (b) 生産品の一覧に含まれていないが，生産品に類似しており，したがって保護されている地理的表示の評判を不当に利用するか又は侵害する生産品に関して，保護されている地理的表示を使用すること (c) 生産品の真の原産地が表示されている場合であっても，又は保護されている名称が翻訳されているか若しくは種々の付加物を伴っている場合であっても，如何なる方法によるかを問わず，保護されている地理的表示を模倣するか又は再現すること (d) 生産品の出所，原産地，性質又は本質的な特徴に関して何らかの虚偽の又は誤認を生じさせる表示を使用すること。当該表示が何に(例えば当該生産品に係る包装，広告材料又は書類に)表示されているかを問わない。 (e) 生産品の真の原産地に関して，公衆に誤認を生じさせる虞があるその他の行為をすること例文帳に追加

On the basis of the exclusive right of use, any of the holders shall be entitled to bring an action against any person who, in the course of trade: (a) uses the protected geographical indication or a denomination liable to create confusion with respect to products not originating in the defined geographical area; (b) uses the protected geographical indication with respect to products not included in the list of products, but similar to those and therefore takes unfair advantage of or infringes the repute of the protected geographical indication; (c) imitates or evokes in any manner whatsoever the protected geographical indication, even if the true origin of the product is indicated or if the protected name is translated or accompanied by various additions; (d) uses any false or misleading indication as to the provenance, origin, nature or essential characteristics of the product, no matter where it is indicated (e.g. on the packaging, advertising material or documents relating to the product concerned); (e) performs any other act liable to mislead the public as to the true origin of the product. - 特許庁