「アルミニウム真空蒸着」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

防湿層１１２は、５Ｐａ，３２３Ｋの装置内で真空蒸着法によってアルミニウムの厚みが３００ｎｍとなるように形成する。例文帳に追加

The dampproof layer 112 is formed in a device of 5 Pa and 323K by a vacuum vapor-deposition method so that the aluminum is 300 nm thick. - 特許庁

この後、マスター回折格子１２を真空蒸着室から取り出して大気中にさらし、第１アルミニウム薄膜２２の表面に酸化膜を形成させた後、再び真空蒸着室に戻し、膜厚が約２μｍの第２アルミニウム薄膜２４を形成する。例文帳に追加

Then the master diffraction grating 12 is taken out of a vacuum vapor-deposition chamber and exposed to the atmosphere to form an oxide film on a surface of the first aluminum thin film 22, and then the master diffraction grating 12 is put back in the vacuum vapor-deposition chamber again to form a second aluminum thin film 24 of about 2 μm in film thickness. - 特許庁

引き続き、蒸着源をチタンに切り替えると共に真空槽内の圧力を高くし、電子ビーム蒸着法により窒素雰囲気中でアルミニウム膜８の上に窒化チタンからなる側面保護膜１２を形成し、アルミニウム膜８の上面及び両側面を側面保護膜１２により覆う。例文帳に追加

Continuously, a vapor deposition source is switched to titanium, pressure in the vacuum tub is increased, a side face protecting film 12 composed of titanium nitride is formed on the aluminium film 8 in a gaseous nitrogen atmosphere through electron beam vapor deposition, and the upper surface and both the side faces of the aluminium film 8 are covered with the side face protecting film 12. - 特許庁

不純物ドーパントとして少なくともフッ化アルミニウムを０．０１〜１０重量％の割合で含む酸化亜鉛焼結体をターゲット材料とした真空蒸着法により、基板上に成膜されることを特徴とするアルミニウム添加酸化亜鉛系透明導電膜。例文帳に追加

The aluminum-added zinc oxide-based transparent conductive film is deposited on a substrate by a vacuum vapor deposition method while a zinc oxide sintered body containing at least 0.01-10 wt.% aluminum fluoride as impurity dopant is a target material. - 特許庁

したがって、金属蒸着防止膜に絶縁膜を追加的に蒸着することが不必要であり、工程中間に真空ブレークなしに進行するので、アルミニウム配線工程の生産性を向上させることができる。例文帳に追加

Consequently, additionally depositing an insulating film on a metal deposition preventing film is not needed, and then the productivity of an aluminum wiring process can be improved due to proceeding the aluminum wiring process without the intervening vacuum break during the process. - 特許庁

樹脂基材の表面に、３００μｍ／ｈ〜５００μｍ／ｈの蒸着速度でアルミニウムを真空蒸着することにより、装飾皮膜を形成する。例文帳に追加

Aluminum is vacuum-deposited on the surface of a resin base material at a deposition rate of 300 μm/h to 500 μm/h, thereby forming the decorative coating thereon. - 特許庁

１バッチの蒸着終了後、電子ビーム加熱装置６からの電子ビームによる蒸着原料である金属アルミニウムの加熱が停止し、真空排気が開始されると同時に加熱保温装置９が作動する。例文帳に追加

After the deposition of one batch is completed, heating of an aluminum metal which is a raw material for deposition by the electron beam from an electron beam heating device 6 is stopped, and a heating and heat- insulating device 9 is operated as soon as the evacuation is started. - 特許庁

アルミニウム含有層（３６）を蒸着する段階は、ニッケル基超合金基体（３４）を周囲大気条件に暴露することなく、炭素含有層（３２）を蒸着する段階と同じ蒸着装置（好ましくはＥＢ−ＰＶＤ装置のような真空蒸着装置）内で実施される。例文帳に追加

The step of depositing the aluminum-containing layer (36) is performed in the same deposition apparatus (preferably a vacuum deposition apparatus such as an EB-PVD apparatus) as that used in the step of depositing the carbon-containing layer (32) so as not to expose the nickel-based superalloy substrate (34) to an ambient atmospheric condition. - 特許庁

そして、このメタルバック膜は、アルミニウム等の金属粉体と高熱吸収率の金属酸化物粉体の混合物から成る棒状の芯材と、この芯材を覆い密接して設けられたアルミニウム等の金属から成る外装材とを有する蒸着用複合材料を、真空蒸着することにより形成することができる。例文帳に追加

And this metal back membrane can be formed by vacuum deposition of an deposition compound material comprising a bar-shape core material made of a mixture of a metal powder such as aluminum and a metal oxide powder having a high heat absorption, and an outer package material made of a metal such as aluminum and provided closely contacting this core material and covering it. - 特許庁

チタン、アルミニウムおよび窒素を含有して、基板に形成されたＴｉ−Ａｌ−Ｎ膜であって、プラズマ中で生成された窒素とチタンおよび／またはアルミニウムからなる微粒子を超音速ノズル３４から超音速フリージェットの気流に乗せて真空チャンバー３０中に噴出して、真空チャンバー３０中に配置した基板３３上に物理蒸着させて形成した膜とする。例文帳に追加

The Ti-Al-N film contains titanium, aluminum and nitrogen, and is deposited on a substrate in such a way that particulates composed of nitrogen, titanium and/or aluminum produced in plasma are jetted into a vacuum chamber 30 from a supersonic nozzle 34 in a state of being carried on the gas flow of an supersonic free jet, and are physically vapor-deposited on a substrate 33 arranged in the vacuum chamber 30. - 特許庁

本発明は、真空蒸着方式によりアルミニウム板に高純度のチタン、シリコンをコーティングさせることで反射率が９０％以上、かつ変色や剥れのない反射面を具備した照明器具を提供するものである。例文帳に追加

To provide a luminaire having a reflecting surface having reflectivity above 90% by coating an aluminum plate with high-purity titanium or silicon by a vacuum deposition method without causing discoloration or separation. - 特許庁

窒化アルミニウム(AlN) より形成されたサブマウント１０の上面（表側）には、リード電極１４、１６が、それぞれＡｕ／Ｍｏを真空蒸着することにより成膜されている。例文帳に追加

Lead electrodes 14, 16 are coated on an upper face (front side) of a sub mount made of aluminum nitride (AIN) through vacuum vapor- deposition of Au/Mo. - 特許庁

２５０ｇ／ｍ^２のポリエチレンテレフタレートからなる不織布の一方の面からアルミニウムを真空蒸着して不織布の繊維を高輝度膜で被覆した。例文帳に追加

Aluminum is vacuum-vapor-deposited from one surface of a nonwoven fabric made from a polyethylene terephthalate of 250 g/m^2, and the fiber of the nonwoven fabric is coated with a high brightness film. - 特許庁

続いて、中間に真空ブレークなしにアルミニウム膜をコンタクトホールまたは溝の内面上部に位置する層間膜の第２表面部位にのみ化学気相蒸着する（３０３）。例文帳に追加

Then, without an intervening vacuum break, an aluminum film is deposited with chemical vapor only over a second surface portion of the intermediate layer, which is located over the interior surface of the contact hole or recess (303). - 特許庁

本発明は、従来の真空蒸着設備を用い成膜することの出来る、導電性、透明性、及び外観に優れたアルミニウム添加酸化亜鉛系透明導電膜を提供する。例文帳に追加

To provide an aluminum-added zinc oxide-based transparent conductive film which is excellent in conductivity, transparency and appearance, and can be film-deposited by using a conventional vacuum vapor deposition apparatus. - 特許庁

マスター回折格子１０の格子面にフッ素系表面処理剤を塗布して離型剤層１３を設け、その後にアルミニウムを真空蒸着して薄膜２３を形成する（ｃ）。例文帳に追加

A fluorine-based surface treating agent is applied on the grating face of a master grating 10 to form a release agent layer 13, which is then subjected to vacuum vapor deposition of aluminum to form a thin film 23 (c). - 特許庁

マスター回折格子１２の格子面に、膜厚が０．２μｍ程度の金薄膜２１を真空蒸着によって形成した後、金薄膜２１の上に真空蒸着によって膜厚が０．０１μｍ程度の第１アルミニウム薄膜２２を形成する。例文帳に追加

After the gold thin film 21 of about 0.2 μm in film thickness is formed by vacuum deposition on a grating surface of a master diffraction grating 12, a first aluminum thin film 22 of about 0.01 μm in film thickness is formed by vacuum deposition on the gold thin film 21. - 特許庁

原反ロールから引き出されたフィルムの少なくとも片側の面に亜鉛もしくは亜鉛とアルミニウムの混合物を真空蒸着して製品ロールに巻き取る蒸着工程において、蒸着された面を酸素ガスに暴露した後に前記製品ロールに巻き取ることを特徴としている。例文帳に追加

In a deposition process in which zinc or mixture of zinc and aluminum is vacuum-deposited at least on one side of a film paid off from a raw material roll and taken up into a product roll, the film is taken up into the product roll after the deposition side of the film is exposed to oxygen gas. - 特許庁

チャンバ２内にウエハ９を収納し、１０^−５Ｐａ未満の真空度での電子ビーム加熱蒸着によりウエハ９に１０μｍ以下の線幅を有する配線を形成するアルミニウム膜を形成するに際し、チャンバ２内に残留ガス成分除去材料であるバナジウム膜を存在させた状態でアルミニウム膜を形成する。例文帳に追加

When a wafer 9 is accommodated in a chamber 2, and an aluminum film which forms a wire having line width of at most 10 μm is formed on the wafer 9 by using electron beam thermal vapor deposition at a degree of vacuum not lower than 10^-5 Pa, the aluminum film is formed in a state that a vanadium film as a residual gas component eliminating material exists in the chamber 2. - 特許庁

高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法などを提供すること。例文帳に追加

To provide a surface treatment method for stably vapor depositing an easily oxidizable vapor deposition material such as aluminum on an article to be treated such as a rare earth based permanent magnet without taking a long time for obtaining high vacuum degree and without using a special device. - 特許庁

半導体シリコンウェーハ上にショットキー接合された電極であって、半導体シリコンウェーハ上に酸化膜を介することなくアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）と金属アルミニウムを真空蒸着したものであることを特徴とする電極とその形成方法である。例文帳に追加

The electrode is connected in Schottky junction on the semiconductor silicon wafer, and is formed by vacuum-depositing alumina (Al_2O_3) and metal aluminum, without intermediary of an oxide film on the semiconductor silicon wafer. - 特許庁

原反ロールから引き出されたポリプロピレンフィルムの両面に亜鉛、もしくは亜鉛とアルミニウムの混合物を真空蒸着して製品ロールに巻き取る蒸着工程において、前記ポリプロピレンフィルムが製品ロールに接して巻き取られる内面側に酸化性ガスを吹き付けることを特徴としている。例文帳に追加

In a deposition process for allowing zinc or the mixture of zinc and aluminum to be subjected to vacuum deposition onto both the surfaces of a polypropylene film being withdrawn from a master roll for winding off in a product roll, an oxidizing gas is sprayed to the side of an inner surface where the polypropylene film is wound off in contact with the product roll. - 特許庁

高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法、この方法を実施するために好適な表面処理装置などを提供すること。例文帳に追加

To provide a surface treatment method for stably vapor depositing an easily oxidizable vapor deposition material such as aluminum on an article to be treated such as a rare earth based permanent magnet without taking a long time for obtaining high vacuum degree and without using a special device, to provide a surface treatment apparatus suitable for performing this method, and the like. - 特許庁

スパッタまたは真空蒸着などの真空成膜プロセスを使用して、酸化アルミニウムを含有したＡｇからなる導電性薄膜を形成すること、および異なる組成の導電性薄膜を複数積層する工程をさらに含み、テクスチャー構造の平均表面粗さおよび形状を制御することを特徴とするテクスチャー構造を有する導電性薄膜の形成方法。例文帳に追加

The method for depositing a conductive thin film having the texture structure further includes a step of depositing the conductive thin film formed of Ag containing aluminum oxide by using a vacuum film deposition process such as sputtering and vacuum vapor deposition, and a step of laminating a plurality of conductive thin films of different composition, and the mean surface roughness and the shape of the texture structure can be controlled. - 特許庁

亜鉛（Ｚｎ）またはＺｎを含む化合物を主原料とする固形物から成る蒸発源を用い、圧力差アークプラズマ真空蒸着法を用いてアルミニウム不純物添加酸化亜鉛系薄膜を形成する際に、Ａｌを含む化合物を気体の形態でアークプラズマ中に連続的または間欠的に導入すること。例文帳に追加

When depositing an aluminum-impurities added zinc oxide thin film by using an evaporation source comprising a solid formed mainly of zinc (Zn) or a compound containing Zn by a differential pressure arc plasma vacuum vapor deposition method, a compound containing Al is continuously or intermittently introduced into arc plasma in a gaseous mode. - 特許庁

有機膜の真空蒸着に用いられる酸化アルミニウムなどの多孔性セラミックス焼結体は有機膜特性を劣化させる要因となる不純物が多く、成膜する有機膜の安定性及び均一性の制御が難しいので、成膜する有機膜の安定性及び均一性を高めることである。例文帳に追加

To improve stability and uniformity of an organic film to be formed, by solving the problems that a porous ceramic sinter of oxidized aluminum or the like to be used for vacuum vapor deposition of the organic film contains much impurities that may cause deterioration of organic film characteristics, and it is difficult to control stability and uniformity of the organic film to be formed. - 特許庁

プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種の無機物質と、常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として、形成されるハイブリッド層である光学部材である。例文帳に追加

The optical member has the plastic substrate and the multilayer antireflection film formed by vacuum deposition, wherein at least one layer in the antireflection film is a hybrid layer formed using at least one inorganic material selected from silicon dioxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, yttrium oxide and niobium oxide and a silicon-free organic compound which is liquid at normal temperature and normal pressure as materials for vacuum deposition. - 特許庁