意味 | 例文 (98件) |
プラズマイオンを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 98件
プラズマイオン源装置例文帳に追加
PLASMA ION SOURCE DEVICE - 特許庁
プラズマイオン注入システム例文帳に追加
PLASMA ION IMPLANTATION SYSTEM - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置例文帳に追加
レーザプラズマイオン源用ターゲットおよびレーザプラズマイオン発生装置例文帳に追加
TARGET FOR LASER PLASMA ION SOURCE, AND LASER PLASMA ION GENERATING APPARATUS - 特許庁
プラズマイオン源三次元四重極質量分析装置例文帳に追加
PLASMA ION SOURCE THREE-DIMENSIONAL QUADRUPOLE MASS SPECTROSCOPE - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置及び分析方法例文帳に追加
APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA ION SOURCE MASS SPECTROMETRIC ANALYSIS - 特許庁
四重極型プラズマイオン源質量分析装置例文帳に追加
プラズマイオン注入方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ION IMPLANTATION - 特許庁
プラズマイオン注入・成膜方法および装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE OF PLASMA ION IMPLANTATION AND FILM FORMING - 特許庁
低電圧放電形プラズマイオン成膜装置例文帳に追加
LOW-VOLTAGE DISCHARGE-TYPE PLASMA ION FILM FORMING DEVICE - 特許庁
大気圧プラズマイオン化源質量分析装置例文帳に追加
ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA IONIZING SOURCE MASS SPECTROMETER - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置およびイオン保持機構例文帳に追加
PLASMA ION SOURCE MASS SPECTROMETER AND ION HOLDING MECHANISM - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置及びイオン源位置調整方法例文帳に追加
PLASMA ION SOURCE MASS SPECTROSCOPE AND ION SOURCE POSITION ADJUSTING METHOD - 特許庁
金属内包炭素クラスター製造装置用プラズマイオン源例文帳に追加
PLASMA ION SOURCE FOR METAL-CONTAINING CARBON CLUSTER MANUFACTURING APPARATUS - 特許庁
プラズマイオン注入中にドーパント濃度を測定するための方法例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING DOPANT CONCENTRATION DURING PLASMA ION IMPLANTATION - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置を用いた同位体比分析例文帳に追加
ISOTOPE-RATIO ANALYSIS USING PLASMA ION SOURCE MASS ANALYZER - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置を用いた同位体比分析方法例文帳に追加
ISOTOPE RATIO ANALYSIS METHOD USING PLASMA ION SOURCE MASS SPECTROSCOPE - 特許庁
イオン注入法がプラズマイオン注入法であることが好ましい。例文帳に追加
It is also preferable that the ion implantation method is the plasma ion plantation method. - 特許庁
プラズマイオン源3次元4重極型質量分析装置例文帳に追加
PLASMA ION SOURCE THREE-DIMENSIONAL QUADRUPOLE MASS SPECTROMETER - 特許庁
高周波誘導結合プラズマイオントラップ質量分析装置例文帳に追加
HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA ION TRAP MASS SPECTROMETRY DEVICE - 特許庁
プラズマイオン源質量分析装置における定性分析結果の自動判定方法例文帳に追加
METHOD FOR AUTOMATICALLY JUDGING QUALITATIVE ANALYSIS RESULT IN PLASMA ION SOURCE MASS SPECTROMETER - 特許庁
プラズマイオン源部2で生成されたプラズマ中には試料1が導入され、イオン化される。例文帳に追加
A sample 1 is introduced into plasma generated in a plasma ion source part 2, and ionized. - 特許庁
半導体基板の表面付近がプラズマイオンによるダメージを受ける恐れをなくす。例文帳に追加
To reduce the risk of a semiconductor substrate receiving damages in the vicinity of its surface due to plasma ions. - 特許庁
これにより開口部13を介して金属接合部にプラズマイオンが照射される。例文帳に追加
In this way, the plasma ions are emitted to the metal joint via the opening part 13. - 特許庁
被膜は、プラズマイオン注入成膜法により金属イオン及び反応ガスイオンを含むプラズマイオンと基材とを接触させることにより形成することが好ましい。例文帳に追加
The film is desirably formed by bringing the base material into contact with metal ions and plasma ions including reactive gas ions by a plasma ion implantation film-forming method. - 特許庁
歯ブラシA、B、C、Dを保管する歯ブラシ保管容器内12に、プラズマイオンを発生するプラズマイオン発生手段23を形成した歯ブラシ除菌装置11。例文帳に追加
This toothbrush sterilizing apparatus 11 is constituted by forming a plasma ion generation means 23 generating plasma ions in a toothbrush storage case 12 storing toothbrushes A, B, C and D. - 特許庁
重イオンを加速して更に高速に放出することができるレーザプラズマイオン源用ターゲットおよびレーザプラズマイオン発生装置を提供する。例文帳に追加
To provide a target for a laser plasma ion source capable of accelerating heavy ions to discharge the heavy ions at a further accelerated speed, and to provide a laser plasma ion generating apparatus. - 特許庁
基板表面をプラズマイオンで処理し、前記プラズマイオン処理された基板面上に導電性高分子溶液を塗布し、前記基板上に導電性高分子厚膜を形成する。例文帳に追加
A substrate surface is treated with plasma ions, a conductive polymer solution is applied to the substrate surface subjected to the plasma ion treatment to form a conductive polymer thick film on the substrate. - 特許庁
質量スペクトルデ−タから元素の濃度を直感的に推定するのに適したプラズマイオン源質量分析装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a plasma ion source mass spectroscope suitable for estimating intuitively the concentration of an element from mass spectrum data. - 特許庁
プラズマイオン密度均一性を制御するため可変高さ接地リターンパスを備えたプラズマリアクタにおいてワークピースを処理する方法例文帳に追加
METHOD FOR PROCESSING WORKPIECE IN PLASMA REACTOR WITH GROUNDED RETURN PATH OF VARIABLE HEIGHT FOR CONTROLLING UNIFORMITY OF PLASMA ION DENSITY - 特許庁
マグネチックコイルブロックを利用してプラズマイオンのドリフティングを防止してウエハー面内均一性を向上する。例文帳に追加
To enhance the etching uniformity over a wafer surface by preventing drifting of plasma ions through utilization of magnetic coil blocks in a magnetron plasma etching apparatus. - 特許庁
ウォーム32の歯部表面の硬質炭素系被膜をプラズマCVD法、プラズマイオン注入法等により形成する。例文帳に追加
The hard carbonic film at the surface of the tooth of the worm 32 is formed by a plasma CVD process and a plasma ion implanting process and the like. - 特許庁
アルミニウム合金製の部品本体10表面には、着色アルマイト処理により形成されたカラーアルマイト11と、カラーアルマイト11の表層側にプラズマイオン注入処理により特定の元素が傾斜状に形成された傾斜層12と、傾斜層12の表層側にプラズマイオン成膜処理により形成されたDLC層13とが形成されている。例文帳に追加
On a surface of a fitting main body 10 made of aluminum alloy, a color alumite 11 formed by color alumite treatment, an inclined layer 12 inclinatorily formed with a specific element on the surface of the color alumite layer 11 by a plasma ion injection treatment, and a DLC (Diamond Like Carbon) layer 13 formed by a plasma ion filming treatment on the surface of the inclined layer 12, are formed. - 特許庁
この方法は、各VHF周波数f1及びf2の各RF電源を、(a)電極の夫々か、(b)電極の共通する1つに結合する工程であって、中心が高い不均一なプラズマイオン分布を生成するのにf1が十分に高く、中心が低い不均一なプラズマイオン分布を生成するのにf2が十分に低い工程を含む。例文帳に追加
The method for processing a workpiece comprises a step for coupling the respective RF power supplies of VHF frequencies f1 and f2 with (a) respective electrodes or (b) one common electrode where the f1 is high enough to generate uneven plasma ion distribution of high center, and the f2 is low enough to generate uneven plasma ion distribution of low center. - 特許庁
アルミニウム合金製の部品本体10表面には、アルマイト処理により形成されたアルマイト11と、アルマイト11の表層側にプラズマイオン注入処理により特定の元素が傾斜状に形成された傾斜層12と、傾斜層12の表層側にプラズマイオン成膜処理により形成されたDLC層13とが形成されている。例文帳に追加
An anodized aluminum film 11 formed by anodized aluminum film treatment, a gradient layer 12 formed with a specific element in a gradient form by plasma ion implantation treatment on a surface layer side of the anodized aluminum film 11, and a DLC layer 13 formed by plasma ion deposition treatment on the surface layer side of the gradient layer 12 are formed on the surface of the main body 10 of the parts made of an aluminum alloy. - 特許庁
シリコーン、ポリウレタン、ポリプロピレン又はポリテトラフルオロエチレン(PTFE)から選択される材料から構成され、表面の少なくとも一部がプラズマイオン注入により改質されてなる、医療用カテーテル。例文帳に追加
The medical catheter is made of a material selected from silicone, polyurethane, polypropylene or polytetrafluoroethylene (PTFE), and at least a part of the surface of the catheter is reformed by injecting plasma ions. - 特許庁
イオン透過率を維持しつつ、光子および中性粒子の除去率が従来に比べて向上したイオン偏向レンズを備えるプラズマイオン源質量分析装置の提供例文帳に追加
To provide a plasma ion source mass spectrometer with an ion deflector lens having an improved removal ratio of photons and neutral particles as compared with the prior art while an ion transmittance is maintained. - 特許庁
プラズマイオンを発生させたのち、高電圧にて加速されたイオン流を基板にドーピングするイオンドーピング方法において、大面積表示素子用基板に一度に均一性を維持しながらドーピングを行うこと。例文帳に追加
To dope a substrate for large-area display elements at once while keeping uniformity in an ion doping process of doping the substrate with an ion flow accelerated by a high voltage after generating plasma ions. - 特許庁
カーボンナノチューブ合成において、基板加熱を行うことなく、プラズマイオンのエネルギー制御により、常温下において達成できる作製方法および作製装置を得る。例文帳に追加
To provide a method and apparatus for producing carbon nanotubes, by which the synthesis of carbon nanotubes can be attained at normal temperature by energy control of plasma ions without performing heating of a substrate. - 特許庁
プラズマイオンをFRC内に閉じ込め、外部に印加した磁場を調整することによって発生させた深いエネルギー井戸内に、プラズマ電子を静電気的に閉じ込めることが好ましい。例文帳に追加
Preferably, plasma electrons are electrostatically confined in a deep energy well, created by tuning an externally applied magnetic field while plasma ions are confined in the FRC. - 特許庁
プラズマイオン源質量分析計や液体クロマトグラフ/質量分析計において、イオン源に起因するノイズを低減させるとともに、シグナル量の低下を抑え、メンテナンス性を改善したイオンレンズを提供する。例文帳に追加
To provide a plasma ion source mass spectrometer or a liquid chromatograph/mass spectrometer with an ion lens which reduces noise that comes from an ion source, prevents reduction in a signal amount, and improves maintenance characteristics. - 特許庁
プラズマイオンの速度を容易に調節でき、異方性、選択性、膜均質度及び工程再現性に優れるエッチング工程に利用可能な電磁気誘導加速器を提供する。例文帳に追加
To provide an electromagnetic induction accelerator capable of easily adjusting the velocity of plasma ion and excellent in anisotropy, selectivity, film homogeneity and process reproducibility, and usable for an etching process. - 特許庁
キャパシタで短時間で起こる、大量のプラズマイオン電荷のチャージを抑制することで、コンタクトの導通不良を防止する半導体装置を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device in which incomplete conduction of a contact can be prevented by suppressing a large quantity of plasma ion charges occurring in a capacitor in a short time. - 特許庁
このようにする場合、プラズマイオン注入法でimpurityの濃度を精密に制御しつつも直接に半導体基板にimpurityをイオン注入しないために基板の結晶構造を損傷させない。例文帳に追加
In this case, impurity concentration is precisely controlled by a plasma ion implantation method, but impurity ions are not implanted directly into the semiconductor substrate, so that the crystalline structure of the substrate is not damaged. - 特許庁
高いイオン透過効率を有し、かつ簡単な構造であって、しかも簡単に制御することができるイオン偏向レンズ系を有する大気圧プラズマイオン化源質量分析装置を提供する。例文帳に追加
To provide an atmospheric pressure plasma ionizing source mass spectrometer which has an ion deflection lens system that has a high ion transmission efficiency and a simple structure, and further, can be controlled easily. - 特許庁
プラズマイオン注入法により、表面部にイオン注入層が形成された基材フィルムと、該基材フィルムのイオン注入層上に形成された剥離層とを有することを特徴とする剥離フィルム。例文帳に追加
The release film comprises a substrate film 1 the surface of which an ion-implanted layer is formed by plasma-based ion implantation and a release layer formed on the ion-implanted layer of the substrate film. - 特許庁
基材を浸炭処理又は浸炭窒化処理を減圧下で行い、不活性ガスで急冷処理し、プラズマイオンを用いて基材表面の酸化物を除去し、硬質皮膜を被覆して摺動部材を製造する。例文帳に追加
The sliding member is manufactured by carburizing or carbonitriding a substrate under a reduced pressure, quenching it with an inert gas, removing oxides from a substrate surface with the use of a plasma ion, and forming the hard coating. - 特許庁
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