「プラズマ酸化物」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

耐プラズマ性に優れ、安定した酸化物膜を提供する。例文帳に追加

To provide a consistent oxide film having excellent plasma resistance. - 特許庁

プラズマディスプレイパネル用金属酸化物ペースト及びプラズマディスプレイパネルの製造方法例文帳に追加

METAL OXIDE PASTE FOR PLASMA DISPLAY PANEL AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL - 特許庁

プラズマ処理によるリチウム遷移金属酸化物薄膜の結晶化方法例文帳に追加

METHOD FOR CRYSTALLIZATION OF LITHIUM TRANSITION METAL OXIDE THIN FILM BY PLASMA TREATMENT - 特許庁

放電プラズマ焼結法により製造した酸化物熱電素子例文帳に追加

OXIDE THERMOELECTRIC ELEMENT MANUFACTURED BY DISCHARGE PLASMA SINTERING METHOD - 特許庁

過酸化水素プラズマ滅菌処理の完了をより正確に検知できる過酸化水素プラズマ滅菌検知用インキ組成物及びそれを用いたプラズマ滅菌検知用インジケータを提供する。例文帳に追加

To provide an ink composition for detecting the hydrogen peroxide plasma sterilization and an indicator for detecting the plasma sterilization using the same, for accurately detecting the completion of the hydrogen peroxide plasma sterilization treatment. - 特許庁

プラズマ処理容器内にプラズマを発生させて有機金属ガス及び酸化性ガスをプラズマにて分解させ、被処理基板１に金属酸化物膜を形成する。例文帳に追加

By generating a plasma in the plasma processing vessel, the organic metal gas and the oxidizing gas are resolved by the plasma to form a metal oxide film on a substrate to be processed 1. - 特許庁

プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネル用金属酸化物ペーストの製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL, AND METHOD OF MANUFACTURING METAL OXIDE PASTE FOR PLASMA DISPLAY PANEL - 特許庁

ヘリウムガスを用いてプラズマ励起シラン酸化物プロセス、プラズマ励起シランオキシナイトライドプロセス及びプラズマ励起シランナイトライドプロセスの堆積速度を下げる。例文帳に追加

A helium gas is used to lower the deposition rate of plasma-enhanced silane oxide, silane oxynitride, and silane nitride processes. - 特許庁

プラズマによる有機ハロゲン化合物の分解装置の窒素酸化物除去装置例文帳に追加

NITROGEN OXIDE REMOVING UNIT OF APPARATUS FOR DECOMPOSING HALOGENATED ORGANIC COMPOUND BY PLASMA - 特許庁

プラズマ処理による酸化物又は他の還元可能な汚染物質の基板からの除去例文帳に追加

REMOVAL OF OXIDE OR OTHER REDUCIBLE CONTAMINANTS FROM SUBSTRATE BY PLASMA TREATMENT - 特許庁

トンネル酸化物層を基板上に堆積させるステップと、トンネル酸化物層をプラズマに曝し、その結果、プラズマがトンネル酸化物の表面と近傍表面の形態を変化させ、プラズマ変化した近傍表面を形成するステップと、を含む。例文帳に追加

The method includes: a step of depositing a tunnel oxide layer on a substrate; and a step of forming a plasma-altered near surface by exposing a tunnel oxide layer to a plasma and consequently allowing the plasma to alter the morphology of the surface and the near surface of the tunnel oxide. - 特許庁

タンタル又は窒化タンタル膜は、酸化性プラズマ化学物質を用いて選択的に取り除かれる。例文帳に追加

The tantalum or the tantalum nitride film is selectively removed, using an oxidative plasma chemical substance. - 特許庁

プラズマ触媒反応器、空気浄化装置、窒素酸化物浄化装置、及び燃焼排ガス浄化装置例文帳に追加

PLASMA CATALYST REACTOR, AIR CLEANER, NITROGEN OXIDE CLEANER AND WASTE COMBUSTION GAS CLEANER - 特許庁

（１）真空設備内で、アルゴンプラズマにより電気錫めっき表面の酸化物を除去する。例文帳に追加

(1) In vacuum equipment, oxide on a surface electroplated with tin is removed by argon plasma. - 特許庁

プラズマディスプレイパネルで使用するための金属酸化物膜を製造する方法例文帳に追加

PRODUCTION OF METAL OXIDE FILM FOR USE IN PLASMA DISPLAY PANEL - 特許庁

このプラズマ技術を通して、二酸化炭素は、プラスチックや燃料等の有用な物質に変換される。例文帳に追加

Through this plasma technology, carbon dioxide is converted into useful materials such as plastics or fuels. - 特許庁

特に、誘導結合プラズマＣＶＤ法を用いてケイ素酸化物膜３を形成することが好ましい。例文帳に追加

Particularly, the silicon oxide film 3 is preferably deposited by using an inductively coupled plasma CVD method. - 特許庁

平坦化後アンモニアプラズマ処理還元により表面の酸化物を除去する。例文帳に追加

After flattening, an oxide on a surface is removed by ammonia plasma treatment reduction. - 特許庁

表面層１１５ｃは，大気圧プラズマＣＶＤ法により薄膜形成された無機酸化物である。例文帳に追加

The surface layer 115c is an inorganic oxide formed as a thin film by an atmospheric pressure plasma CVD method. - 特許庁

二酸化シリコン層のリモート・プラズマ窒化が行われ、酸化に対する耐性を有するシリコン酸化窒化物層（１０６）をつくる。例文帳に追加

The silicon dioxide layer is subjected to remote plasma nitriding, so that a silicon oxide/nitride layer 106 of oxidation resistance is formed. - 特許庁

プラズマ励起用のガスを用いてプラズマを発生させ、処理用ガスを前記プラズマ内に導入して被処理物を処理するプラズマ処理方法で、処理用ガスは亜酸化窒素ガスを含み、かつ前記亜酸化窒素ガスを電子温度が２．２４ｅＶ未満のプラズマ中に導入することで絶縁膜にダメージを与えるイオンの発生を軽減させることで、高品質な酸窒化を実現できるプラズマ処理方法、及びこのプラズマ処理方法を使った電子装置の製造方法を実現できる。例文帳に追加

The manufacturing method of an electronic device can be realized using the plasma processing method. - 特許庁

コンデンサを搭載した化合物半導体装置であって、該コンデンサの絶縁体は、プラズマＣＶＤシリコン酸化膜上にプラズマＣＶＤシリコン窒化膜を形成することにより、下層のプラズマＣＶＤ酸化膜中のシリコン原子の余った結合手により水素原子が捕獲され信頼性の悪化を招かない。例文帳に追加

Since hydrogen atoms are captured by excess bonds of silicon atoms in the underlying plasma CVD silicon oxide film, the reliability is not deteriorated. - 特許庁

マグネシウム酸化物粒子が表面に付着されたマグネシウム酸化物含有膜を含んだプラズマディスプレイパネル用保護膜、その製造方法、及び該保護膜を具備したプラズマディスプレイパネル例文帳に追加

PLASMA DISPLAY PANEL PROTECTION FILM COMPRISING A MAGNESIUM-OXIDE CONTAINING FILM WHOSE SURFACE IS COVERED WITH MAGNESIUM OXIDE PARTICLES, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PLASMA DISPLAY PANEL EQUIPPED WITH PROTECTION FILM - 特許庁

これら酸化膜を水素プラズマ若しくは水素混成プラズマにより、還元反応あるいは物理作用により、形成酸化膜を正確に且つ簡単に削除する。例文帳に追加

These formed oxidized films are correctly and easily removed by a reducing reaction or a physical action using hydrogen plasma or hydrogen mixed plasma. - 特許庁

この方法のいくつかの局面において、薄膜酸化物層は、酸化された第２のシリコン層の上に重なり、４００℃未満の温度で、高密度プラズマ励起化学蒸着処理および誘導結合プラズマソースによって形成される。例文帳に追加

In several aspects of the method, a thin-film oxide layer is superposed on the second silicon layer oxidized and formed by a high-density plasma excitation chemical vapor deposition treatment and the inductively coupled plasma source at a temperature lower than 400°C. - 特許庁

選択的に、銅酸化物ナノワイヤに還元ガスと熱またはプラズマ処理を通じて前記銅酸化物または銅ナノワイヤに還元させる。例文帳に追加

The copper oxide nanowire is selectively reduced to the copper oxide or the copper nanowire by passing it through a reduction gas and heat or a plasma process. - 特許庁

金属酸化物微粒子層に接して金属層を積層し、これにプラズマを照射して、機能性金属酸化物層を形成してもよい。例文帳に追加

The functional metal oxide layer may be formed by laminating a metal layer in contact with the metal oxide fine particle layer, and irradiating the laminate with a plasma. - 特許庁

前記過酸化物非吸着性被覆層は、プラズマＣＶＤにより形成されたアモルファスカーボン含有被膜または酸化珪素含有被膜である。例文帳に追加

The covering layer on which peroxides do not adsorb is a covering film containing amorphous carbon or a covering film containing silicon oxide, formed by plasma CVD. - 特許庁

溶滴となった粒子表面の酸化を低減することで、酸化物が少ない溶射皮膜を形成することが可能なプラズマ溶射装置の提供。例文帳に追加

To provide a plasma spray apparatus that can form a sprayed coating with few oxides by reducing the oxidation on a particulate surface of a droplet. - 特許庁

プラズマＣＶＤ法により、シリコン化合物と過酸化水素とを反応させて、第１のシリコン酸化膜４２を形成している。例文帳に追加

In a semiconductor device manufacturing method, a first silicon oxide film 42 is formed by causing a silicon compound and hydrogen peroxide to react to each other by the plasma CVD method. - 特許庁

不活性ガスの熱プラズマを生成するプラズマ反応炉に酸化マグネシウム粉末と、メタン及び／又は水素とを供給し、酸化マグネシウム粉末をマグネシウムにプラズマ還元し、プラズマ還元された気体のマグネシウムを凝縮させることによって、マグネシウム粉末又は水素化マグネシウム粉末の混合物或いは水素化マグネシウム粉末を生成する。例文帳に追加

Magnesium oxide powder and methane and/or hydrogen are supplied to a plasma reaction furnace in which thermal plasma of an inert gas is generated, the magnesium oxide powder is plasma-reduced to magnesium, and the plasma-reduced gaseous magnesium is condensed, thereby producing magnesium powder, a mixture of magnesium and magnesium hydride powders, or magnesium hydride powder. - 特許庁

チタン含有酸化物超微粒子の製造方法であって、酸素を含むプラズマ中に、出発原料として少なくともチタン原料を供給し、供給された出発原料を前記プラズマ炎中にて分解後、プラズマ中に存在する酸素と反応させることを特徴とする。例文帳に追加

The method of manufacturing the titanium-containing oxide superfine particle is performed by supplying at least a titanium raw material as a starting raw material in plasma containing oxygen, decomposing the supplied starting raw material in plasma flame and reacting with oxygen existing in the plasma. - 特許庁

真空引き可能になされた処理容器４内にて被処理体Ｗに対して所定のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置の汚染物の除去方法において、表面にシリコン酸化膜が形成された基板を用いて汚染除去用のプラズマ処理を行う。例文帳に追加

In the removing method of the contaminant in the plasma processor where a prescribed plasma processing is performed on a workpiece W in the vacuumed processing container 4, the plasma processing for removing contaminant is performed by using a substrate where a silicon oxide film is formed on a surface. - 特許庁

ボロン酸化物等の異物を生じさせることなくプラズマ処理装置の処理室表面におけるＴｉ系堆積物の除去が可能なプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing method capable of removing Ti-based sediment on the surface of a processing chamber of a plasma processing apparatus without generating a foreign body such as an boronic oxide. - 特許庁

不活性ガス雰囲気において、一酸化炭素を含む原料ガスをプラズマ分解し、発生したプラズマ生成成分のうちのイオンの少なくとも一部で炭素原料をスパッタし、プラズマの生成成分の少なくとも一部とスパッタされた炭素原子との反応物を基板上に堆積させることで、酸化炭素薄膜、酸化窒化炭素薄膜および酸化ダイヤモンド状炭素薄膜を製造する。例文帳に追加

The carbon oxide thin film, the carbon oxynitride thin film and the diamond-like carbon oxide thin film are manufactured by plasma-decomposing gaseous starting materials including CO in an inert gaseous atmosphere, sputtering a carbonaceous material with at least part of ions in the generated plasma-forming components, and depositing the reaction product of at least part of the plasma-forming components and sputtered carbon atoms on a substrate. - 特許庁

プラズマ燃料改質装置は、プラズマを発生させて酸素および炭化水素燃料の混合物を、特に水素ガス及び一酸化炭素を多く含む改質ガスに変える装置。例文帳に追加

To provide a plasma fuel reforming apparatus which converts a mixture of oxygen and a hydrocarbon fuel into a reformed gas especially comprising much hydrogen gas and carbon monoxide by generating a plasma. - 特許庁

従って、イオン化したナトリウム（Ｎａ）及びイオン化されていない中性物質、例えば水素（Ｈ）及び一酸化炭素（ＣＯ）を含むプラズマジェットが、プラズマトーチによって生成する。例文帳に追加

Thereby, a plasma jet which contains ionized sodium (Na) and non-ionized neutrals such as hydrogen (H) and carbon monoxide (CO) is generated by the plasma torch. - 特許庁

２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面をマイクロ波でプラズマ化した窒素ガスによりプラズマ処理し、さらに無機酸化物を積層することを特徴とする透明蒸着フィルムの製造方法を提供する。例文帳に追加

In the production method for the transparent vapor-deposited film, the surface of a biaxially oriented polyethylene terephthalate film is subjected to plasma treatment with a gaseous nitrogen made into plasma by microwaves, and further an inorganic oxide is layered on the film. - 特許庁

そして、開口部を介して酸化物半導体膜２６を還元性プラズマあるいはドーピング元素を含むプラズマに曝すことにより、接続用端子部１８、１７、ソース・ドレイン部１５、１６、画素電極１３を同時に低抵抗化する。例文帳に追加

The oxide semiconductor film 26 is exposed through the opening to reducing plasma or plasma containing doping elements to simultaneously decrease the resistance in the connection terminals 18, 17, the source-drain parts 15, 16 and the pixel electrode 13. - 特許庁

反応性プラズマ１０４、たとえば、還元ガスを有するプラズマを用いた処理で事前クリーニングを実行して、基板１００上の不純物および自然酸化膜１０３を除去する。例文帳に追加

Pre-cleaning is performed in a treatment, using reactive plasma 104 such as plasma with reducing gas, and impurities and a natural oxide film 103 on a substrate 100 are removed. - 特許庁

還元性ガスのプラズマジェット照射よる金属材料の表面酸化物の還元処理に際し、プラズマ照射表面に表面溶融を生じさせることなく、還元処理を均一かつ効果的に行う方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for uniformly and effectively reducing a surface oxide of a metallic material by irradiating plasma jet of reducing gas without generating any surface melting on the surface irradiated with plasma. - 特許庁

大気圧プラズマ処理は、^-Ｈｅ＋Ｏ_2 プラズマガス雰囲気により、図示しないが、Ａｌパッド表面上に付着した自然酸化膜を含む有機物やパーティクルなどが除去される。例文帳に追加

By the atmospheric pressure plasma treatment, organic matters or particles which includes a natural oxide film attaching to the surfaces of the Al pads are removed in a -He+O2 plasmas gas atmosphere, even though this is not shown. - 特許庁

ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に、プラズマ処理面を設け、更に、該プラズマ処理面の面に、化学気相成長法による膜厚４〜１０ｎｍの無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルム。例文帳に追加

A plasma treatment surface is provided on one surface of a polyamide resin film and a vapor deposition film of an inorganic oxide with a thickness of 4-10 nm due to a chemical vapor phase growing method is provided on the plasma treatment surface to constitute a transparent barrier film. - 特許庁

プラズマを用いて酸素や水等から活性酸素ラジカルを生成させ、これをプラズマ発生反応器１０に導入して酸化剤として使用し、基板１２上に化学吸着されたβ−ジケトンの配位子を有する有機金属錯体を酸化させて金属酸化物原子層を形成させる。例文帳に追加

The method for forming the atomic layer of metal oxide comprises generating the free radicals of active oxygen from oxygen, water, and the like, by using plasma, introducing them into a plasma-generating reaction vessel 10, and oxidizing the organometallic complex having the ligand of β-diketone, which has been chemically adsorbed on the substrate 12, by utilizing the free radicals as an oxidant. - 特許庁

過酸化水素プラズマ滅菌において発生するラジカルにより変色するライトグリーンＳＦ黄色、ギネアグリーン及びブリリアントミリンググリーン等の染料を用いることを特徴とする過酸化水素プラズマ滅菌検知用インキ組成物とすることで、過酸化水素プラズマ滅菌処理の完了をより正確に検知できる。例文帳に追加

This ink composition for detecting the hydrogen peroxide plasma sterilization uses dyes such as light green SF yellow, guinea green and brilliant milling green, discolored by radical generated in the hydrogen peroxide plasma sterilization, so that the completion of the hydrogen peroxide plasma sterilization treatment can be accurately detected. - 特許庁