「収差計」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

レンズユニット、収差補正用素子、及び収差補正用素子の設計方法例文帳に追加

LENS UNIT, ELEMENT FOR ABERRATION CORRECTION, AND DESIGNING METHOD OF ELEMENT FOR ABERRATION CORRECTION - 特許庁

干渉計装置及び収差計測方法例文帳に追加

INTERFEROMETER DEVICE AND ABERRATION MEASURING METHOD - 特許庁

コマ収差自動計測用マークと計測方法例文帳に追加

MARK AND METHOD FOR AUTOMATICALLY MEASURING COMA- ABERRATION - 特許庁

波面収差計測装置、波面収差計測方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

収差計測装置、収差計測方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法例文帳に追加

ABERRATION MEASURING DEVICE, ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

収差計測装置、露光装置、デバイス製造方法、および収差計測方法例文帳に追加

ABERRATION MEASURING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE, AND METHOD FOR MEASURING ABERRATION - 特許庁

波面収差計測方法及び装置、並びに露光装置例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION INSTRUMENTATION METHOD AND EQUIPMENT, AND ALIGNER - 特許庁

投影露光装置及び収差の計測方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER AND METHOD OF MEASURING ABERRATION - 特許庁

少ない労力で、かつフィールド内を細分化してレンズの収差を計測できる収差計測用フォトマスク、収差計測方法、収差計測用装置および装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photmask for aberration measurement which makes it possible to measure an aberration of a lens with small trouble by subdividing a field, an aberration measuring method, an instrument for aberration measurement, and a manufacturing method for the instrument. - 特許庁

収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE EQUIPMENT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

収差計測方法及び投影露光装置例文帳に追加

METHOD OF MEASURING ABERRATION AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

収差計測方法、露光方法及び露光装置例文帳に追加

ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE METHOD AND ALIGNER - 特許庁

マスク、収差計測方法、調整方法及び露光方法例文帳に追加

MASK, METHOD FOR MEASURING ABERRATION, ADJUSTMENT METHOD AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

制御装置５は、収差計測装置６からの収差情報を得てレンズ３を移動させてもよい。例文帳に追加

The control device 5 may move the lens group 3 by obtaining aberration data from an aberration measuring device 6. - 特許庁

波面収差Ｂを用いて波面収差Ａ１を補正して、レーザ光照射装置１０からのレーザ光の波面収差Ａを計算する。例文帳に追加

The wavefront aberration A1 is corrected, by using the wavefront aberration B to calculate the wavefront aberration A of the laser light from the laser light irradiating device 10. - 特許庁

投影光学系ＰＬの波面収差を、検査用波面収差測定装置１１０で計測するとともに、露光装置に搭載した後に波面収差測定ユニットで計測し、両波面収差の第２の差分を求める。例文帳に追加

A wavefront aberration of a projection optical system PL is measured with the inspecting wavefront aberration measuring device 110, and further, after mounting on the exposure device, measured with the wavefront aberration measuring unit to find a second difference of both the wavefront aberration. - 特許庁

干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検光学系の波面収差を計測することのできる波面収差計測装置。例文帳に追加

To provide a wavefront aberration measuring device capable of measuring the wavefront aberration of an optical system under test by a relatively simple constitution without using an interferometry. - 特許庁

ここで、ＤＶＤに関する設計上の波面収差Ｄ１よりもＣＤに関する設計上の波面収差Ｄ２の方を大きくした。例文帳に追加

In this case, the wavefront aberration D2 on design relating to the CD is made larger than the wavefront aberration D1 on the design relating to the DVD. - 特許庁

アライメン系の波面収差を極めて正確に計測することが可能な波面収差計測装置を有する露光装置を提供することである。例文帳に追加

To provide an aligner having a wave front aberration measuring apparatus capable of very accurately measuring the wave front aberration of an alignment system. - 特許庁

ノイズ光による干渉縞の影響を抑えて被検光学系の波面収差を高精度に計測することのできる波面収差計測装置。例文帳に追加

To obtain a wavefront aberration measuring device which allows for high-precision measurement of the wavefront aberration of a tested optical system by suppressing the impact of interference pattern due to noise light. - 特許庁

光源波長によらず被検光学系の波面収差を高精度に計測することが可能な構成の波面収差計測装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wavefront aberration measuring apparatus, configured capable of accurately measuring the wavefront aberrations of an optical system to be inspected, regardless of the light source wavelength. - 特許庁

投影光学系の収差を計測するために使用する収差計測用パターンを短時間で位置合わせしうる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that allows quick alignment of aberration measurement patterns used for measuring the aberration of a projection optical system. - 特許庁

1953年、Hallが磁界レンズに対する合計8つの3次の収差を一覧表にした。例文帳に追加

In 1953, Hall listed a total of eight third-order aberrations for a magnetic lens.  - 科学技術論文動詞集

収差測定装置、透明平行平面板保持器、及び、多波長干渉計例文帳に追加

ABERRATION MEASURING DEVICE, TRANSPARENT PLANE-PARALLEL PLATE HOLDER, AND MULTI-WAVELENGTH INTERFEROMETER - 特許庁

収差計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びにマスク例文帳に追加

ABERRATION MEASURING METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND MASK - 特許庁

投影光学系の収差計測方法及び装置、並びに露光装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR ABERRATION MEASUREMENT FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

投影光学系の収差計測に要する時間を短縮する。例文帳に追加

To decrease the time required to measure the aberration in a projection optical system. - 特許庁

波面収差計測装置、該装置の校正方法、及び露光装置例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, METHOD OF CALIBRATING THE SAME, AND ALIGNER - 特許庁

収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS OF MEASURING ABERRATION AND OF EXPOSURE - 特許庁

波面収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR WAVE FRONT ABERRATION MEASUREMENT, AND METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE - 特許庁

カラー画像読取装置の色収差計測装置および方法、記憶媒体例文帳に追加

INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING CHROMATIC ABERRATION OF COLOR IMAGE READER, AND STORAGE MEDIUM - 特許庁

予め波面収差が確認されている基準光学系ＢＬの波面収差を、検査用波面収差測定装置１１０と、露光装置に装着される波面収差測定ユニットとで計測し、両波面収差の第１の差分を求める。例文帳に追加

The wavefront aberration of an reference optical system BL whose wavefront aberration is confirmed in advance is measured with an inspecting wavefront aberration measuring device 110, and a wavefront aberration measuring unit attached to the exposure to find a first difference between both the wavefront aberrations. - 特許庁

計測方向の色収差と他方向の色収差を完全に分離して、かつ、読取装置の読取位置ずれ成分の影響を排除して、色収差を迅速に高精度に計測することができるようにする。例文帳に追加

To speedily and with highly accurately measure a chromatic aberrations, by completely separating a chromatic aberration in a measuring direction and a chromatic aberration in the other direction and excluding the influence of the reading position deviation component of a reader. - 特許庁

この際に、投影光学系ＰＬの像面上での収差の計測点数を少なくするために、同じ次数の収差の中では像面座標次数が低い収差を優先的に計測する。例文帳に追加

On this occasion, in order to decrease the number of measurement points of aberrations on an image plane of the projection optical system PL, measurements are preferentially made on an aberration having a lower coordinate order in the image plane for aberrations of the same order. - 特許庁

コマ収差、球面収差、光束ケラレの量を正確に計測することが可能な検査用基板を提供することである。例文帳に追加

To provide a substrate capable of measuring accurately a comatic aberration, a spherical aberration and the amount of a luminous flux vignette. - 特許庁

Ｓ２０で算出された波面収差がＳ１０で算出された波面収差より小さければ，設計解として認め，次の段階の検討に入る。例文帳に追加

When wave surface aberration calculated by S20 is smaller than that calculated by S10, this is recognized as the resolution according to the design, so that the operation of a next stage is started for consideration. - 特許庁

投影光学系の収差計測装置及び計測方法、それに用いられるマスク並びに露光装置例文帳に追加

ABERRATION MEASURING DEVICE AND METHOD IN PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MASK AND EXPOSURE DEVICE USED FOR THEM - 特許庁

干渉計装置のシステム誤差に起因するシステム固有のアス収差成分やコマ収差成分を解析的に求めて、被検レンズの波面収差の測定結果を補正し得るようにする。例文帳に追加

To correct measurement results in wavefront aberrations of tested lenses by analytically obtaining system-inherent astigmatism and coma aberration components caused by system error of interferometers. - 特許庁

周囲の温度又はレーザの波長が変化した場合であっても収差を低減することができるレンズユニット、収差補正用素子、及び収差補正用素子の設計方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a lens unit and an element for correcting aberration for reducing aberration even when ambient temperature or the wavelength of a laser is changed, and to provide a design method of the element for correcting aberration. - 特許庁

設計が容易で、且つ、六回非点収差も補正可能な荷電粒子線装置の球面収差補正装置及び球面収差補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device for correcting spherical aberration of a charged particle beam device, which is easy in design and can also perform six-fold astigmatisms, and to provide a method for correcting the spherical aberration of the charged particle beam device. - 特許庁

投影光学系ＰＬの諸収差の対称成分を補正した後、投影光学系ＰＬの諸収差の残存収差のランダム成分（非対称成分）を計測する。例文帳に追加

After correcting symmetrical components of various aberrations of a projection optical system PL, random components (asymmetrical components) of the residual aberrations of the system PL are measured. - 特許庁

軸上色収差や倍率色収差を補正しつつ、設計基準波長における球面収差と色の球面収差などの色フレア成分を少なくすると共に、不要回折光に基づくフレアの発生を抑えた、回折光学素子及びそれを有する光学系を得ること。例文帳に追加

To obtain a diffractive optical element capable of reducing spherical aberration at a designed reference wavelength and color flare components of spherical aberration in color while compensating axial chromatic aberration and transverse chromatic aberration, and also, suppressing the occurrence of a flare due to unnecessary diffracted light, and to obtain an optical system having the diffractive optical element. - 特許庁

面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法例文帳に追加

INTERFEROMETER FOR MEASURING SHAPE OF SURFACE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING MACHINE, MANUFACTURE OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM USING THIS INTERFEROMETER AND MACHINE, AND METHOD FOR CALIBRATING THIS INTERFEROMETER - 特許庁

Deltrapは1964年、磁界四極子と八極子で構成される球面収差補正装置を設計した。例文帳に追加

Deltrap designed in 1964 a spherical-aberration corrector consisting of magnetic quadrupoles and octopoles.  - 科学技術論文動詞集