「大きい試料」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

光ファイバ４の出射端面の瞳面状態の「光量ムラ」が比較的大きい場合に、焦点切換用レンズ３１により、ＣＣＤカメラ１８の撮像面の焦点を、ウェハ１４の試料から、光ファイバ４の出射端面の照明瞳面に切り換える。例文帳に追加

In the case that light intensity irregularities in a pupil plane state of a light emission end face of an optical fiber 4 are relatively large, a focal point of an imaging plane of a CCD camera 18 is switched from a sample of a wafer 14 to an illumination pupil plane of the light emission end face of the optical fiber 4 by a lens 31 for switching focal points. - 特許庁

電子線装置は、Ｔａ等の遷移金属の炭化物からなるカソード２１から放出される熱電界放出電子線のうち、光軸とのなす角度が大きい方の電子線を開口３２に入射させ、該開口の縮小像を試料面に縮小投影する。例文帳に追加

In this electron beam device, an electron beam, within thermal field emission electron beams emitted from the cathode 21 formed of carbide of a transition metal such as Ta, having a relatively larger angle formed between an optical axis and itself is entered into openings 32, and each reduced image of the openings is reductively projected on the surface of a sample. - 特許庁

Ｚマップの作製を不要とし、高スループットを実現すると共に、高価なステージを必要とせず、また、軸上色収差を補正して大きい開口角を用いた電子光学系を用いてもフォーカスずれを少くして試料の評価ができる電子線装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam device capable of achieving high throughput by obviating the need to manufacture a Z-map and of evaluating a sample by reducing deviation of a focus even when an electron optical system using a large aperture angle is used by correcting chromatic aberration on an axis without needing an expensive stage. - 特許庁

液体試料が噴霧される大気圧空間１１と減圧された分析空間１２との間に設けられた脱溶媒管１３の中間部に、脱溶媒管１３の内径よりも大きい断面積を有するバッファ空間１５を設ける。例文帳に追加

A buffer space 15 having a larger sectional area than an inner diameter of a desolvent tube 13 is set to a middle part of the desolvent tube 13 arranged between an atmospheric pressure space 11 where a liquid sample is sprayed and a pressure-reduced analysis space 12. - 特許庁

酸化膜等のドライエッチングに関し、試料内におけるエッチングレートの面内バラツキが大きいために試料外周部に加工量の不足部分が発生して加工精度や品質面において問題発生の恐れがあるという課題を解決し、エッチングレートの面内バラツキを低減して加工精度や品質面において優れた加工を行うことができるドライエッチング方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a dry etching method in which machining with superior machining precision and quality can be performed by reducing in-plane variance in etching rate, by solving the problem that the outer periphery of a sample is insufficiently machined because of in-plane variance in etching rate in the sample is large as to dry etching of an oxide film etc., is large to possibly generate problems of machining precision and quality. - 特許庁

金属基体試料２２の表面に無電解めっきする際に、無電解めっき液は、二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方と界面活性剤を含み、平均粒径が１００μｍより大きい金属粉末を金属粉末が溶解しなくなる量以上に添加して分散させたものを、超臨界状態又は亜臨界状態で無電解めっきを行う。例文帳に追加

When performing the electroless plating on the surface of a metallic base sample 22, electroless plating liquid contains at least one of carbon dioxide and inert gas, and a surfactant, metal powder having the average particle diameter larger than 100 μm is added by the amount at which no more metal powder is dissolved therein, and dispersed, and the electroless plating is performed in a supercritical or subcritical state. - 特許庁

ＲＨＥＥＤ観察により、薄膜の応力・歪の測定、及び薄膜の構造解析を同時に行うことが有効であるが、従来のような構造の試料ホルダーでは、その厚みが大きいとＲＨＥＥＤ像に大きな影を生じさせ、観察の妨げとなるにもかかわらず、製造上の制約によりその厚みを小さくすることは難しい。例文帳に追加

To solve a problem, in a sample holder having a common structure, wherein a large thickness of a sample holder interferes with RHEED observation, which is effective to measure stress and distortion of a thin film and conduct structural analysis of the thin film at the same time, due to a large shadow in a RHEED image, however it is difficult to reduce the thickness thereof due to structural constraints. - 特許庁

体積が大きい試料の放射能測定において、高効率なガンマ線検出器に放射性核種分析用検出器を貫通挿入すると同時に補助検出器を用いることにより、コンプトン抑制機能を与えたことからなる、放射性核種の分析機能の付加及びその分析性能を向上させた高効率ガンマ線測定装置。例文帳に追加

In the measurement of radioactivity of a sample having a large volume, a detector for analyzing a radioactive nuclide is inserted through a high efficiency gamma ray detector and an auxiliary detector is employed at the same time in order to impart a Compton suppressing function thus obtaining a high efficiency gamma ray measuring apparatus to which a function for analyzing a radioactive nuclide is added or of which analyzing performance is enhanced. - 特許庁

実際の試料注入を受けてデータ収集開始信号をネットワークを介して検出器に送り、検出器ではこの信号を受けて検出データに保持時間のタイムスタンプを実行する場合に、ネットワークで伝送遅延が大きいと検出データと保持時間との関係にずれが生じ、正確なクロマトグラムが作成できなくなる。例文帳に追加

To solve a problem wherein a lag is generated in a relation between a detection data and a retention time when a transmission delay is large in a network not to allow an accurate chromatogram to be prepared, when transmitting a data collection start signal via the network after injecting a sample actually and when receiving the signal in a detector to execute time stamping of the retention time to the detection data. - 特許庁

電子顕微鏡の観察用試料作製用マスクは、観察対象領域１３Ａを有する半導体基板１１上に、観察対象領域１３を電子線が透過できる厚みに相当する幅Ｗ１で形成された第１マスク１３と、半導体基板１１上に、少なくともその一部が第１マスク１３よりも大きい幅Ｗ２で形成された第２マスク１４とを具備している。例文帳に追加

The mask for manufacturing the observation mask of the electron microscope is provided with a first mask 13 formed on a semiconductor substrate 11 with the observed region 13A and having a width W1 corresponding to a thickness for transmitting an electron beam through the observed region 13 and a second mask 14 formed on the semiconductor substrate 11 and having a width W2 partially larger than the first mask 13. - 特許庁

欠陥検査装置は、複数のビームを試料上に合焦させ、該ビームの最大間隔より十分大きい距離にわたって、複数のビームを同時に走査し、各走査点から放出された二次電子を拡大光学系で拡大してそれぞれの複数のビームからの二次電子を検出する装置であることが好ましい。例文帳に追加

The defect inspecting device focuses a plurality of beams on a sample, scans simultaneously the plurality of the beams over a sufficiently longer distance than the maximum interval of the beams, and preferably detects secondary electrons from the plurality of the beams by magnifying the secondary electrons emitted from each scanning point by a magnifying optical system. - 特許庁

そして、新たに取得したスライス画像を構成する画素の輝度値と、該画素と同一位置の画素であって既に取得していたスライス画像の各々を構成しているものの輝度値の最大値とで大きい方を該位置の画素の輝度値とすることで得られる最大輝度画像を、スライス画像を新たに取得する度に更新することで、試料１０１の全焦点画像を作成していく。例文帳に追加

All focal images of the sample 101 are prepared by updating, whenever a slice image is newly acquired, the maximum luminance image acquired by setting, as the luminance value of the pixel at the position, the larger one of the luminance value of the pixel constituting a newly acquired slice image and the maximum value of luminance values of pixels that are at the same position as the former pixel and constitute respective already acquired slice images. - 特許庁