「感ガス素子」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ガスセンサ素子（１）の触媒部（４２）は、アスペクト比が２．０以上となる粒子（感応層４１との密着状態が良好となる粒子）の割合が少なくとも２０％以上に規定されており、感応層（４１）からの剥離を抑制できる。例文帳に追加

Since in the catalytic section (42) of the gas sensor element (1), fraction of particles (particles by which adhesion condition with the induction layer 41 is in good) with aspect ratio of 2.0 or more is specified to at least be 20% or more, exfoliation from the induction layer (41) can be suppressed. - 特許庁

測定電極保護層に付着した被毒物質を含む溶液が、測定電極の気孔内にまで到達するのを防止し、被毒物質による測定電極の劣化と気孔の閉塞とにより生じる感度低下が抑制された、耐久性の高いガスセンサ素子を提供する。例文帳に追加

To provide a gas sensor element of high durability which prevents a solution containing a poisoning substance adhered to a measurement electrode protective layer from reaching at the inside of the pores of a measurement electrode and being suppressed from the lowering of sensitivity, produced by the deterioration in the measurement electrode and the closure of the pores of the measurement electrode caused by the poisoning substance. - 特許庁

感応部の温度が変化しても水素濃度を正確に測定することができ、また酸素がない雰囲気下での検知が可能であると共に、水素検知の繰り返しによる劣化もなく、かつＨ_２Ｏ、ＣＯ、ＣＨ_４、ＣＯ_２などの被毒性ガスに対する耐性に優れる水素検知素子を提供する。例文帳に追加

To provide a hydrogen detection element capable of accurately measuring a hydrogen concentration even when a temperature of a sensitive part is changed, detecting under an atmosphere having no oxygen, and preventing deterioration by repetition of hydrogen detection, and having excellent durability against a poisoning gas such as H_2O, CO, CH_4 or CO_2. - 特許庁

貴金属線を覆って、酸化インジウムを主成分とする半導体から形成される感応層を設けてあるガス検知素子であって、前記感応層にランタニド金属から選ばれる少なくとも一種以上の金属の酸化物を０．４〜１０ｍｏｌ％添加してあるとともに、感応層表面に緻密なシリカ薄膜を形成してある。例文帳に追加

In this hydrogen-gas detecting element, a sensitive layer 2 which covers a noble metal wire 1 and which is formed of a semiconductor composed mainly of indium oxide is formed, 0.4 to 10 mol% of the oxide of at least one kind of a metal selected from among lanthanide metals is added to the sensitive layer 2, and a dense silica this film 3 is formed on the surface of the sensitive layer. - 特許庁

ダイアフラム型のシリコン基板１と、ＳｎＯ_2等の酸化物半導体からなるガス感応膜５と、Ｐｔ等からなる一対の櫛歯電極４と、Ｐｄ、Ｐｔ等からなる触媒クラスタ６と、ＳｉＯ_2からなる部分被毒体７と、を備え、部分被毒体がＳｉ膜を加熱せずに酸化させて形成された水素ガス検出素子を得る。例文帳に追加

This hydrogen gas detecting element is provided with a diaphragm type silicon substrate 1, a gas sensitive membrane 5 comprising an oxide semiconductor such as SnO_2, a pair of comb-toothed electrodes 4 comprising Pt or the like, a catalyst cluster 6 comprising Pd, Pt or the like, and a patially poisoned body 7 comprising SiO_2 which is formed by oxidizing a Si film without heating. - 特許庁

ガス封入により接触部位の酸化や汚れが防止でき、温度上昇によりバイメタル８が変形すると可動電極３を押し上げるので接点３ａが固定電極２から離れ、可動電極３と固定電極２とを回路と直列に接続した状態に感熱作動素子１を配設すると温度上昇したとき回路を遮断することができる。例文帳に追加

Oxidization and contamination of a contact part can be prevented by enclosing the gas; when the bimetal 8 is deformed by temperature rise, the movable electrode 3 is pressed up to separate a contact 3a from the fixed electrode 2; and when this thermosensitive operation element 1 is installed with the movable electrode 3 and the fixed electrode 2 serially connected to a circuit, the circuit can be cut off when temperature rises. - 特許庁

耐熱性基板１３が低熱膨張性で低熱伝導性であるので、ヒータ薄膜１４で発生した熱はその上部に積層した薄膜の方に多く伝達され、その最上部に配置されたガス感受素子薄膜１６は、耐熱性基板１３の熱膨張に追随してひび割れや破壊を生じることがなく短時間で暖気される。例文帳に追加

Because the heatproof base board 13 has low thermal expansibility coefficient and low thermal conductivity, most of heat generated in the heater thin film 14 is transmitted to the thin film layered on it, and the gas sensitive element thin film 16 arranged on the uppermost part of the layered thin films 16 can be warmed up in a short time without causing any crack or breakage accompanying thermal expansion of the heatproof base board 13. - 特許庁

露光光源１からの露光光により照明光学系を介して原版としてのマスク８を照明し、マスク８に形成されたパターンを投影レンズ１１を介して感光基板としてのウエハ１２上に投影露光する露光装置であって、露光光源１から投影レンズ１１に至る露光光の光路上に配置される光学系素子を内部に配置した複数の筐体３，４，５，６，７と、該複数の筐体３〜７をガス置換するガス置換手段とを有する。例文帳に追加

In this enclosed aligner, an exposure light from an exposure light source 1 is projected via an illuminating optical system on a mask 8 serving as the original plate, and the pattern formed on the mask 8 is then projected via a projection lens 11 on a wafer 12 for the exposure of the wafer 12 serving as the photosensitive substrate. - 特許庁