「感光性マスク」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及び永久マスクレジスト例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND PERMANENT MASK RESIST USING THE SAME - 特許庁

感光性樹脂組成物及び感光性フィルム、並びに、永久マスクレジスト及びその製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT MASK RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及びその製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT MASK RESIST AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

マスクフィルム、感光性樹脂印刷版の製造方法、感光性樹脂印刷版例文帳に追加

MASK FILM, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE, AND PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE - 特許庁

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及びその製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT MASK RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

感光性転写材料、フォトマスク材料、並びにフォトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, PHOTOMASK MATERIAL, PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

着色感光性樹脂組成物、フォトマスク作製材料、フォトマスク及びその製造方法例文帳に追加

COLORING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOMASK PRODUCTION MATERIAL, PHOTOMASK, AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

フォトマスクブランクス、感光性転写材料およびフォトマスクの製造方法例文帳に追加

PHOTOMASK BLANKS, PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD FOR PHOTOMASK - 特許庁

顔料分散組成物、着色感光性樹脂組成物、感光性転写材料、フォトマスク材料、及びフォトマスク例文帳に追加

PIGMENT DISPERSION COMPOSITION, COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, PHOTOMASK MATERIAL, AND PHOTOMASK - 特許庁

マスクまたは感光性基板への入射光の偏光状態を安定化させ、その後にマスク上のパターンを感光性基板上に露光する。例文帳に追加

The polarized state of an incident light to the mask or the substrate is stabilized, and the pattern on the mask is exposed on the substrate. - 特許庁

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム、永久マスクレジスト及び永久マスクレジストの製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT MASK RESIST AND METHOD FOR PRODUCING PERMANENT MASK RESIST USING THE SAME - 特許庁

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及び永久マスクレジストの製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT MASK RESIST AND METHOD FOR PRODUCING PERMANENT MASK RESIST - 特許庁

グレートーン露光用フォトマスク及び感光性樹脂の塗布方法例文帳に追加

PHOTOMASK FOR GRAY TONE EXPOSURE AND METHOD FOR APPLYING PHOTOSENSITIVE RESIN - 特許庁

感光性ポリイミド樹脂をエッチング加工用マスクとして用いる。例文帳に追加

A light-sensitive polyimide resin is used as a mask for etching machining. - 特許庁

フォトマスク、その製造方法、フォトマスク材料およびフォトマスク材料のための感光性転写材料例文帳に追加

PHOTOMASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND PHOTOMASK MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL FOR THE PHOTOMASK MATERIAL - 特許庁

水性アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物、フォトマスクおよび電子デバイスの製造方法例文帳に追加

AQUEOUS ALKALI-SOLUBLE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

低階調のグレースケールマスク３を用いて感光性樹脂２を露光し、頂上部に平坦部をもつ感光性樹脂層２ａを形成する。例文帳に追加

A photosensitive resin 2 is exposed by using a low gradation gray scale mask 3 and a photosensitive resin layer 2a having a flat part on its top part is formed. - 特許庁

有機金属化合物を含有する感光性ペーストを塗布した後ベークして、基板１上に感光性マスク層を形成する。例文帳に追加

A photosensitive mask layer is formed on a substrate 1 by baking after coating a photosensitive paste including an organic metallic compound. - 特許庁

感光性樹脂組成物並びにこの感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法およびＸ線マスクの製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD AND PRODUCTION OF X-RAY MASK USING THAT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION - 特許庁

感光性ガラス基板１２上にマスクパターン１４を形成し、感光性ガラス基板１２を２０Ｊ／ｃｍ^2のエネルギーで露光する。例文帳に追加

A mask pattern 14 is formed on a photo-sensitive glass substrate 12 and the photo-sensitive glass substrate 12 is exposed by energy of 20 J/cm2. - 特許庁

この場合、本発明では、マスクおよび感光性基板の走査方向を投影光学系に対して位置合わせし、位置合わせした状態においてマスクと感光性基板とを走査方向に沿って移動させて、感光性基板の各露光領域にマスクのパターン像を走査露光する。例文帳に追加

In this case, a scanning direction of the mask and the photosensitive substrate is aligned with the projection optical system, and the mask and the photosensitive substrate are moved along the scanning direction in a condition where alignment have been performed, and the pattern image of the mask is scanned and exposed on each exposure area of the photosensitive substrate. - 特許庁

第一のマスクパターンは複数の金属ワイヤー３３からなり、第二のマスクパターンは複数の直方体状の感光性乳剤３４からなる。例文帳に追加

The first mask pattern comprises a plurality of metal wires 33, and the second mask pattern comprises a plurality of rectangular parallelepiped photosensitive emulsions 34. - 特許庁

光源（１）からの露光光に基づいてマスク（Ｍ）を照明し、マスク上のパターンを感光性基板（Ｗ）上に露光する。例文帳に追加

A mask (M) is illuminated on the basis of the exposure light from a light source (1), and a pattern on the mask is exposed on the photosensitive substrate (W). - 特許庁

マスクフィルム用部材、それを用いたマスクフィルムの製造方法及び感光性樹脂印刷版の製造方法例文帳に追加

MEMBER FOR MASK FILM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FILM USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE - 特許庁

マスクフィルム用部材、それを用いたマスクフィルムの製造方法及び感光性樹脂印刷版の製造方法例文帳に追加

MEMBER FOR MASKING FILM, METHOD OF MANUFACTURING MASKING FILM USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE - 特許庁

マスクフイルム用部材、それを用いたマスクフイルムの製造方法及び感光性樹脂印刷版の製造方法例文帳に追加

MEMBER FOR MASK FILM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FILM BY USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE - 特許庁

感光性樹脂によって形成された樹脂層に、フォトマスク２０を用いて、露光機による露光を行う。例文帳に追加

A resin layer formed by photosensitive resin is exposed by an exposure device through the photomask 20. - 特許庁

次に露光工程（Ｓ２）で、感光性着色レジスト膜を所定のマスクパターンを介して露光する。例文帳に追加

In an exposure process S2, the photosensitive color resist film is exposed to light through a specified mask pattern. - 特許庁

フォトマスクには、感光性材料に転写する主パターン遮光部１が形成されている。例文帳に追加

A main pattern light shielding part 1, which transfers a pattern to a photosensitive material, is formed on the photomask. - 特許庁

さらに、ブラックパターン３１をマスクにしてポジ型感光性樹脂層２１を露光する。例文帳に追加

Then, the positive photosensitive resin layer 21 is exposed by using the black pattern 31 as a mask. - 特許庁

感光性樹脂膜４を多階調マスク５を用いて露光した後で現像する。例文帳に追加

The photosensitive resin film 4 is exposed using a multi-gradation mask 5 and then developed. - 特許庁

ポジ型の感光性樹脂21の表面にマスク22を配設して露光し、現像する。例文帳に追加

The surface of the positive photosensitive resin 21 is exposed while a mask 22 is disposed on the surface thereof and developed. - 特許庁

支持体部を除くメタルマスク１の表面には感光性乳剤が塗布されている。例文帳に追加

A photosensitive emulsion is applied to the surface, except the support part, of the metal mask 1. - 特許庁

マスクおよび感光性基板の走査方向を投影光学系に対して位置合わせする。例文帳に追加

To align a scanning direction for a mask and a photosensitive substrate with a projection optical system. - 特許庁

フォトマスクブランクを用いてハーフトーン膜上に感光性レジスト８を塗布して、感光性レジストを所定のパターンで感光させて現像し、感光性レジストに所定のパターンを形成する。例文帳に追加

A photosensitive resist 8 is applied on the halftone film by using the obtained photomask blank, and the photosensitive resist is exposed and developed into a specified pattern to form the specified pattern. - 特許庁

次に、感光性樹脂層１に露光機によって、貫通口３のマスクを用い感光し、貫通口３を形成する。例文帳に追加

Subsequently, through-holes 3 are formed in the photosensitive layer 1 by sensitizing by an exposure machine by using a mask of the through-holes 3. - 特許庁

熱圧着時のジグ貼り付きを抑制し、特に可とう性及び耐めっき性に優れた永久マスクレジストを形成可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム及び永久マスクレジストを提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which suppresses sticking to a tool in thermocompression bonding and can form a permanent mask resist excellent particularly in flexibility and plating resistance, and a photosensitive film and a permanent mask resist using the same. - 特許庁

感光性樹脂組成物の安定性（ポットライフ）、硬化膜の耐折性及び耐めっき性に優れた感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition superior in the stability (pot life) thereof and in the folding and plating resistances of a cured film thereof, to provide a photosensitive film, and to provide a permanent mask resist and a method of manufacturing the permanent mask resist. - 特許庁

そのデータに基づいて、マスクブランクスの感光性材料を所定の条件（焦点深度、ビーム径）で描画し、そのマスクブランクスを現像・リンスして三次元の感光性材料パターンを得る。例文帳に追加

The sensitive material of the mask blank is patterned on the basis of the data under prescribed conditions (focal depth and beam diameter) and the mask blank is developed and rinsed to obtain a three-dimensional sensitive material pattern. - 特許庁

感光性樹脂及び該感光性樹脂を用いたレジスト組成物、並びに該レジスト組成物を用いた半導体装置・露光用マスクの製造方法及び該方法により製造された半導体装置・露光用マスク例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN, RESIST COMPOSITION USING SAME, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK FOR EXPOSURE USING SAID RESIST COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND MASK FOR EXPOSURE PRODUCED BY SAID PRODUCTION - 特許庁

感光性基板（Ｐ）上にマスク（Ｒ）の転写用パターンを重複露光することにより、マスク上の転写用パターンよりも大きなパターンを感光性基板に露光する露光装置。例文帳に追加

An aligner is provided, where a transfer pattern of a mask (R) is exposed duplicatively on a photosensitized board (P) so that a pattern larger than a transfer pattern on the mask is exposed on the photosensitized board. - 特許庁

ベースフィルムの上に逐次クッション層、厚みが０．１〜５０μｍの感光層、カバーフィルムを有し、パターンマスクと密着する面がマスク汚染性のない回路形成用感光性フィルム。例文帳に追加

The photosensitive film for circuit formation has a cushion layer, a photosensitive layer of 0.1 to 50 μm in thickness, and a cover film in order on a base film and the surface which comes into contact with the pattern mask does not contaminate the mask. - 特許庁

乳剤層あるいは感光性層の上に、たとえば塵埃、ゴミ等が付着せず、また感光性層に傷がつかないフォトマスクブランクス、そのための感光性転写材料を提供することにあり、さらに前記フォトマスクブランクスあるいは感光性転写材料を用いるフォトマスクの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide photomask blanks in which, for example, no dust is adhered on an emulsive layer or a photosensitive layer and no damage is caused to the photosensitive layer, photosensitive transfer material for the purpose and to further provide a manufacturing method for the photomask using the photomask blanks or the photosensitive transfer material. - 特許庁

光透過性の基材の上に、少なくとも、遮光層、感光性層および仮支持体をこの順に設けたフォトマスクブランクス、このための感光性転写材料および前記フォトマスクブランクスを用いるフォトマスクの製造方法。例文帳に追加

The photomask blanks formed by providing at least a light shielding layer, the photosensitive layer and a virtual supporting body on a light transmissive substrate in this order, the photosensitive transfer material for the purpose and the manufacturing method of the photomask using the photomask blanks are provided. - 特許庁

（Ａ）１層目の感光性塗布膜を形成する工程、 （Ｂ）１層目の感光性塗布膜を第１のフォトマスクを介して露光する工程、 （Ｃ）２層目の感光性塗布膜を１層目の感光性塗布膜幅よりも広く形成する工程、 （Ｄ）２層目の感光性塗布膜を第２のフォトマスクを介して露光する工程。例文帳に追加

The sub-processes are: (A) forming a first layer of photosensitive coating film; (B) exposing the first layer of the coating film through a first photomask; (C) forming a second layer of photosensitive coating film wider than the first layer; and (D) exposing the second layer of the photosensitive coating film through a second photomask. - 特許庁