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波面を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 1545



例文

光学素子の波面収差測定方法及び波面収差補正方法例文帳に追加

METHOD OF MEASURING WAVE ABERRATION OF OPTICAL ELEMENT, AND METHOD OF CORRECTING WAVE ABERRATION - 特許庁

光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING WAVE FRONT ABERRATION IN OPTICAL SYSTEM - 特許庁

波面切替共用アンテナ及び偏波面切替方法例文帳に追加

ANTENNA SHARED FOR SWITCHING POLARIZATION SURFACE, AND POLARIZATION SURFACE-SWITCHING METHOD - 特許庁

波面保持光ファイバの製造方法および偏波面保持光ファイバ例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING POLARIZATION-PLANE-HOLDING OPTICAL FIBER AND POLARIZATION-PLANE-HOLDING OPTICAL FIBER - 特許庁

例文

光の波面の状態を測定する波面測定装置及び波面測定方法に関し、簡単な構成、処理で波面の測定が可能となる波面測定装置及び波面測定方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a wavefront measuring device and a wavefront measuring technique capable of measuring the wavefront in simple constitution and processes for wavefront measuring devices and wavefront measuring techniques measuring states of wavefront of light. - 特許庁


例文

波面補正素子制御装置15は、測定された波面収差に基づき、波面補正のための制御信号を形成し、波面補正素子71に出力して波面を補正させる。例文帳に追加

A wavefront correction element control device 15 generates control signals for the wavefront correction based on the measured wavefront aberration and outputs the signals to the wavefront aberration element 71 to correct the wavefront. - 特許庁

導電性素子は、第1の波面、第2の波面および第3の波面を有する基体と、第1の波面上に設けられた第1の層と、第2の波面上に形成された第2の層とを備える。例文帳に追加

The conductive element comprises a substrate having a first, a second and a third wave surfaces, a first layer formed on the first wave surface, and a second layer formed on the second wave surface. - 特許庁

比較器が所望される波面により誘起された波面を変化させて矯正された波面を形成し、また比較器は矯正された波面を変形された波面と比較してエラー信号を発生する。例文帳に追加

A comparing device changes the induced wave front into a corrected wave front according to a desired wave front, and also generates error signals after comparing the corrected wave front with the deformed wave front. - 特許庁

波面収差Bを用いて波面収差A1を補正して、レーザ光照射装置10からのレーザ光の波面収差Aを計算する。例文帳に追加

The wavefront aberration A1 is corrected, by using the wavefront aberration B to calculate the wavefront aberration A of the laser light from the laser light irradiating device 10. - 特許庁

例文

波面収差測定方法、波面収差測定系の校正方法、波面収差測定装置、及び投影露光装置例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, CALIBRATION METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT EQUIPMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

例文

複屈折のあるレンズのリターディションと複屈折により分離した波面の平均波面が測定できる波面測定装置を得ること例文帳に追加

To obtain a measuring apparatus capable of measuring the average wave surface of a liquid surface separated by retardation and double refraction of a lens with double refraction. - 特許庁

露光装置、波面計測装置、反射レチクル、波面計測用マスク、露光方法、波面計測方法及びマイクロデバイスの製造方法例文帳に追加

EXPOSURE APPARATUS,WAVE MEASUREMENT APPARATUS, REFLECTIVE RETICLE, MASK FOR WAVE MEASUREMENT, EXPOSURE METHOD, WAVE MEASUREMENT METHOD, AND MICRO DEVICE MANUFACTURING METOD - 特許庁

波面分割素子を用いながらもその波面分割素子に起因した誤差の影響を受けずに被検光学系の波面収差を測定する。例文帳に追加

To measure a wavefront aberration of a tested optical system, without being influenced by aberrations caused by a wavefront splitting element, while using it. - 特許庁

また装置に波面制御素子を搭載することで、参照光の波面を事前に最適な波面に補正する。例文帳に追加

Further, by mounting a wavefront control element in the device, a wavefront of the reference light is corrected to obtain an optimum wavefront in advance. - 特許庁

簡便な構成でありながら、光の波面測定を適切に行うことを可能とした波面測定方法及び波面測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wavefront measuring method and a wavefront measuring device which can measure a wavefront of light properly with a simple constitution. - 特許庁

導電性素子は、第1の波面および第2の波面を有する基体と、第1の波面上に形成された導電層とを備える。例文帳に追加

A conductive element includes a base body with a first wave surface and a second wave surface, and a conductive layer formed on the first wave surface. - 特許庁

被測定波面の基準面に対して、波面検出部を正確に位置決めして設置することを可能とする波面計測装置を得る。例文帳に追加

To obtain a device for measuring wave front capable of accurately positioning and setting a wave front detecting section for the reference plane of the wave front to be measured. - 特許庁

波面制御器、波面制御器の調整装置、波面制御器の調整方法、およびその調整方法で実行する処理プログラムを記録した記録媒体例文帳に追加

WAVE FRONT CONTROLLER, REGULATING DEVICE AND METHOD FOR WAVE FRONT CONTROLLER, AND RECORD MEDIUM RECORDING PROCESSING PROGRAM FOR EXECUTING REGULATING METHOD - 特許庁

不適正領域A_1,A_2を除く他の領域の波面形状情報を、開口合成法により互いに繋ぎ合わせることにより、透過波面全域の波面形状情報を求め、この透過波面全域の波面形状情報に基づき透過波面の収差を求める。例文帳に追加

Each wavefront shape information in other domains excluding the improper domains A_1, A_2 is linked mutually by a synthetic aperture method to determine wavefront shape information of the whole transmission wavefront area, and an aberration of the transmission wavefront is determined based on the wavefront shape information of the whole transmission wavefront area. - 特許庁

眼の屈折収差測定に好適な波面検知システム及び波面検知方法を提供する。例文帳に追加

To provide a wavefront detection system suitable for refraction aberration measuring for an eye and a wavefront detection method. - 特許庁

波面変動検出部11は、造波体9の前面位置での波の波面変動η0を検出する。例文帳に追加

The wavefront variation detection section 11 detects wavefront variations ηO in waves at the front position of the wave-making board 9. - 特許庁

SLMは第一放射ビームの波面を成形して光学表面に対応する成形波面にする。例文帳に追加

The SLM shapes a wavefront of the first beam of radiation resulting in a shaped wavefront corresponding to an optical surface. - 特許庁

波面検出部60は、入力された光を受光して、その光の波面を検出する。例文帳に追加

The wavefront detector 60 receives the input light to detect the wavefront of the light. - 特許庁

波面測定物の全領域の波面を一度に測定することができる干渉計を提供する。例文帳に追加

To provide an interferometer capable of measuring wavefronts at one sitting of the whole domain of an object whose wavefront is to be measured. - 特許庁

波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING APPARATUS, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

波面収差測定方法、マスク、波面収差測定装置、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD, MASK, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

その際、波面曲率の評価にバイアス値を与えることで、波面曲率の微調整が可能となる。例文帳に追加

In this step, the wavefront curvature can be finely adjusted by adding a bias to the evaluation of the wavefront curvature. - 特許庁

波面収差計測装置、波面収差計測方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

前記波面分布制御部は、前記透過率制御素子における前記参照光の波面分布を制御する。例文帳に追加

The wavefront distribution controller controls a wavefront distribution of the reference light in the transmittance control element. - 特許庁

波面制御パターン生成装置及び光波面制御パターン生成方法例文帳に追加

OPTICAL WAVEFRONT CONTROL PATTERN GENERATING APPARATUS AND OPTICAL WAVEFRONT CONTROL PATTERN GENERATING METHOD - 特許庁

実質的に収差のない波面が、波面解析器に導かれる光路に沿って通される。例文帳に追加

A substantially unaberrated wavefront is passed along an optical path leading to a wavefront analyzer. - 特許庁

波面誤差計測方法、波面誤差調整方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MEASURING WAVEFRONT ERROR, METHOD OF ADJUSTING WAVEFRONT ERROR, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

波面曲率変調装置及び波面曲率変調装置を備えた画像表示装置例文帳に追加

WAVEFRONT CURVATURE MODULATING DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH WAVEFRONT CURVATURE MODULATING DEVICE - 特許庁

波面収差測定装置用光源装置、波面収差測定装置及び極端紫外線露光装置例文帳に追加

WAVE ABERRATION MEASURING APPARATUS, LIGHT SOURCE DEVICE THEREFOR, AND EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DEVICE - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法。例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

波面収差測定装置、波面収差測定方法、及び被検レンズ保持調整機構例文帳に追加

WAVE ABERRATION MEASURING DEVICE, WAVE ABERRATION MEASURING METHOD AND INSPECTION LENS HOLDING ADJUSTING MECHANISM - 特許庁

マイクアレーよりも音源側にある波面を再現する波面合成法の技術を提供する。例文帳に追加

To provide a wavefront synthesis technique for reproducing a wavefront on the sound source side of a microphone array. - 特許庁

波面保持光ファイバの偏波面光学主軸決定方法及び光ファイバ融着接続装置例文帳に追加

POLARIZATION-PLANE OPTICAL MAIN AXIS DETERMINATION METHOD OF POLARIZATION-PLANE-HOLDING OPTICAL FIBER AND OPTICAL FIBER FUSION CONNECTION DEVICE - 特許庁

上記の平行な波面は、基準波面とは異なる角度でホログラフィ光学素子に当たる。例文帳に追加

The holographic optical element is exposed to the above parallel wave surface at a different angle from the exposure angle of the reference wave surface. - 特許庁

各コイルは、互いに直交する偏波面、従って互いに相関を持たない偏波面を有している。例文帳に追加

The coils each have polarization planes perpendicular to each other, i.e. polarization planes having no correlation of each other. - 特許庁

波面収差測定装置及び波面収差測定方法、並びに、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加

WAVE-FRONT ABERRATION MEASURING APPARATUS AND METHOD, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

波面測定システム、EUVフォトリソグラフィシステム、及び光学系の波面を測定する方法例文帳に追加

WAVE FRONT MEASURING SYSTEM, EUV PHOTOLITHOGRAPHIC SYSTEM, AND METHOD OF MEASURING WAVE FRONT OF OPTICAL SYSTEM - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス例文帳に追加

WAVE FRONT ABERRATION MEASURING METHOD, WAVE FRONT ABERRATION MEASURING INSTRUMENT, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE - 特許庁

波面測定用干渉光学系およびこれを備えた波面測定用干渉計装置例文帳に追加

INTERFERENCE OPTICAL SYSTEM FOR MEASURING WAVE FRONT, AND INTERFEROMETER PROVIDED THEREWITH FOR MEASURING WAVE FRONT - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法例文帳に追加

METHOD AND DEVICE OF MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

デジタルデータ記録波面補正装置及びデジタルデータ記録波面補正方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DIGITAL DATA RECORDING WAVE FRONT - 特許庁

波面収差の変化が大きい被測定眼に対しても波面収差の測定を可能とする。例文帳に追加

To enable the measurement of wave aberration even of an eye subject to measurement, in which the wave aberration greatly varies. - 特許庁

例文

波面という,波動が伝播するときにできる面例文帳に追加

a phase of a wave in motion  - EDR日英対訳辞書

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