「ACID-FORMING」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a new acid generator for a resist composition, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の新規酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for synthesizing a polyester imide resin by bringing an acid component, an alcohol component and imidic acid forming components into a reaction in the absence of solvent.例文帳に追加

酸成分、アルコール成分、およびイミド酸形成成分を無溶剤下で反応させてポリエステルイミド樹脂を合成する方法を提供する。 - 特許庁

This bile acid specific recognition polymer has a specific recognition site, which is formed by the molecular imprinting method, to at least one kind of bile acid or at least one kind of bile acid or a bile acid complex micelle composed of at least one kind of bile acid and a compound capable of forming a micelle together with bile acid.例文帳に追加

少なくとも一種の胆汁酸、または、少なくとも一種の胆汁酸及び該胆汁酸とミセル形成可能な化合物からなる胆汁酸複合ミセルに対する、分子インプリンティング法により形成された特異的認識部位を有することを特徴とする胆汁酸特異的認識ポリマー。 - 特許庁

A solution of a polyamic acid derived from amic acid forming compounds of p-phenylenediamine and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid is cast on a smooth substrate, immersed in a 1-6C lower alcohol and the obtained polyamic acid porous membrane is imidated.例文帳に追加

パラフェニレンジアミンと３、３’、４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸のアミド酸形成化合物から由来するポリアミド酸の溶液を平滑な基板上にキャストし炭素数１〜６の低級アルコールに浸漬させ、得られたポリアミド酸多孔膜をイミド化させる。 - 特許庁

In forming succinic acid by using an organism, since a glyoxylate cycle for promoting energy metabolism even without using succinic acid, succinic acid is obtained while maintaining growth and proliferation of an organism to form succinic acid.例文帳に追加

生物を用いてコハク酸を生成させる際、コハク酸を使用しなくてもエネルギー代謝を進めることができるグリオキシル酸回路を使用するので、コハク酸を生成する生物の成長や増殖を維持させながらコハク酸を得ることができる。 - 特許庁

The coating liquid comprises a poly(meth)acrylic acid or an acrylic or a methacrylic acid/an acrylic ester or a methacrylic ester copolymer containing ≥10 mass% of the acrylic acid or methacrylic acid and a polyurethane-urea resin having ether bonds as film-forming components.例文帳に追加

ポリ（メタ）アクリル酸、または（メタ）アクリル酸を１０質量％以上含む（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル共重合体と、エーテル結合を持つポリウレタン・ウレア樹脂とを皮膜形成成分として含有することを特徴とする塗工液。 - 特許庁

As the N-acylated amino acid, ester of the N-acylated amino acid or oligomer of the N-acylated amino acid, an N-acylated glutamic acid diester is preferable, and also it is preferable to contain the nitrocellulose as the film-forming agent.例文帳に追加

前記Ｎ−アシル化アミノ酸、Ｎーアシル化アミノ酸のエステル乃至はＮ−アシル化アミノ酸のオリゴマーとしては、Ｎ−アシル化グルタミン酸のジエステルであることが好ましく、ニトロセルロースを皮膜形成剤として含有することが好ましい。 - 特許庁

This film-forming agent consists of a first film-forming agent which is an aqueous solution consisting mainly of a montanic acid alkali metal salt, and a second film-forming agent which is an aqueous dispersion consisting mainly of calcium montanate and a montanic acid ester.例文帳に追加

当該皮膜形成剤の第１の皮膜形成剤は、モンタン酸アリカリ金属塩を主要成分とする水溶液であり、第２の皮膜形成剤は、モンタン酸カルシウムおよびモンタン酸エステルを主要成分とする水分散液である。 - 特許庁

To keep track, in real time, of a reaction status in a reaction tank where an acid forming process is performed.例文帳に追加

酸生成過程を行う反応槽内の反応状況をリアルタイムで把握可能とする。 - 特許庁

To provide a lactic acid-based resin composition capable of forming a molded article excellent in weld strength.例文帳に追加

ウェルド強度に優れた成形品を形成可能な乳酸系樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

It is favorable that the fiber forming the net is formed of a polylactic acid system polymer.例文帳に追加

ネットを構成する繊維がポリ乳酸系重合体からなる繊維であることが好適である。 - 特許庁

To provide a carboxylic acid compound forming a resin with low relative dielectric constant and to provide a derivative of the same.例文帳に追加

低比誘電率樹脂を合成できるカルボン酸化合物およびその誘導体を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに化合物及びそれからなる酸発生剤 - 特許庁

Provided is a composition which comprises an aqueous dispersion liquid containing a polythiophene and a colloid forming polymer acid.例文帳に追加

ポリチオフェンとコロイド形成ポリマー酸との水性分散液を含んでなる組成物が提供される。 - 特許庁

SUBSTITUTED ACRYLIC ACID-BASED COMPOUND, AND SENSITIZING PIGMENT FOR FORMING SEMICONDUCTOR ELECTRODE OF PHOTOELECTRIC CONVERTING ELEMENT例文帳に追加

置換アクリル酸系化合物、及び光電変換素子の半導体電極形成用増感色素 - 特許庁

SULFONIUM SALT, ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME, PHOTOMASK BLANK AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

スルホニウム塩、酸発生剤及びこれを用いたレジスト材料、フォトマスクブランク、並びにパターン形成方法 - 特許庁

There is provided a composition including an aqueous dispersion of a polythienothiophene and colloid-forming polymer acid.例文帳に追加

ポリチエノチオフェンおよびコロイド形成性ポリマー酸の水性ディスパージョンを含む組成物が提供される。 - 特許庁

POLYAMIC ACID COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD THEREOF, POLYIMIDE ENDLESS BELT, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND IMAGE-FORMING APPARATUS例文帳に追加

ポリアミック酸組成物、その製造方法、ポリイミド無端ベルト、その製造方法、及び画像形成装置 - 特許庁

CARBOXYLIC ACID-MODIFIED NITRILE COPOLYMER LATEX AND LATEX COMPOSITION FOR DIP FORMING COMPRISING THE SAME例文帳に追加

カルボン酸変性ニトリル系共重合体ラテックス、これを含むディップ成形用ラテックス組成物 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE BY MEANS OF DOUBLE PATTERNING PROCESS UTILIZING ACID DIFFUSION例文帳に追加

酸拡散を利用するダブルパターニング工程による半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁

A crosslinked polymer having an acid radical is used particularly as the solid hydrogel forming polymer.例文帳に追加

この固体のヒドロゲル形成性ポリマー微粒子として、特に酸基を有する架橋ポリマーを使用する。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE ACID-FORMING AGENT, ONIUM SALT COMPOUND AND POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感放射線性酸発生剤、オニウム塩化合物およびポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

To provide a method for modifying the acid value of an unsaturated polyester resin suitable for use in forming toner particles.例文帳に追加

トナー粒子の形成に好適な不飽和ポリエステル樹脂の酸価の変更方法を提供する。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING SULFONIC ACID SALT, PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素スルホン酸塩類、光酸発生剤、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

A positive electrode plate is not immersed in diluted sulfuric acid in an aging step of forming the positive electrode plate.例文帳に追加

正極板を形成する熟成工程で、正極板を希硫酸に浸酸させない。 - 特許庁

To provide a silicon nitride film forming method and silicon nitride film forming system, that can prevent hydrochloric acid gas from generating during maintenance.例文帳に追加

メンテナンス作業での塩酸ガスの発生を抑制することができるシリコン窒化膜の形成方法及び形成装置を提供する。 - 特許庁

The polyester copolymer is prepared by copolymerizing a diol component with a dicarboxylic acid component comprising 80-99.0 mol% of terephthalic acid or its ester-forming derivative, 0.5-10 mol% of phenylenedioxydiacetic acid or its ester-forming derivative, and 0.5-10 mol%; of naphthalene-dicarboxylic acid or its ester-forming derivative.例文帳に追加

テレフタル酸またはそのエステル形成性誘導体を８０〜９９．０モル％、フェニレンジオキシジ酢酸またはそのエステル形成性誘導体を０．５〜１０モル％及びナフタレンジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体を０．５〜１０モル％の割合で含むジカルボン酸成分と、ジオール成分とを共重合させて成るポリエステル共重合体。 - 特許庁

A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液１０３にさらす。 - 特許庁

For example, when the microorganism can form spores, the silicic acid layer-forming process is a process of culturing the microorganism in a spore-forming culture medium containing silicic acid and zinc.例文帳に追加

例えば、微生物が胞子を形成し得る微生物である場合において、上記ケイ酸層形成工程は、ケイ酸および亜鉛を含む胞子形成培地を用いて微生物を培養する工程である。 - 特許庁

Measurement of pH in an acid forming tank 1 is made by a pH meter 4 and, when the measured value is lowered to a predetermined value or less, a part or the whole of return treated water to a methane forming tank 2 is returned to the acid forming tank 1 to hold the interior of the acid forming tank 1 to the optimum pH range.例文帳に追加

ｐＨ計４により酸生成槽１内のｐＨを測定し、その計測値が所定値以下に低下したときに、メタン生成槽２への処理水返送水の一部又は全部を酸生成槽１に返送することにより、酸生成槽１内を最適ｐＨ範囲に保持する有機性固形物含有廃水の２相式嫌気性生物処理方法及び装置。 - 特許庁

TREATMENT LIQUID CURABLE AT LOW TEMPERATURE AND SUPERIOR IN STORAGE STABILITY FOR FORMING CHROMIC-ACID-BASED INSULATING LAYER ON ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET, AND ELCTROMAGNETIC STEEL SHEET WITH CHROMIC-ACID-BASED INSULATING LAYER例文帳に追加

低温焼付けが可能で保管安定性に優れる電磁鋼板用クロム酸系絶縁被膜処理液およびクロム酸系絶縁被膜付き電磁鋼板 - 特許庁

The methods for forming a nucleic acid cleavage structure on a target sequence and cleaving the nucleic acid cleavage structure in a site-specific manner are also provided.例文帳に追加

また、本発明は、標的配列上に核酸開裂構造体を形成し、該核酸開裂構造体を部位特異的に開裂する方法に関する。 - 特許庁

To provide an acid generator comprising a new compound, a resist composition containing the acid generator, and to provide a method for forming a resist pattern that uses the resist composition.例文帳に追加

新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

POSTTERMINATION LABELING PROCESS FOR AMPLIFYING NUCLEIC ACID OR FOR NUCLEIC SEQUENCE AND NEW METHOD FOR FORMING NUCLEIC ACID HAVING REDUCED THERMODYNAMIC STABILITY例文帳に追加

核酸を増幅するため、核酸配列のための終結後標識プロセス、および減少した熱力学安定性を有する核酸を生成するための新規の方法 - 特許庁

The present invention also relates to methods for forming a nucleic acid cleavage structure on a target sequence and cleaving the nucleic acid cleavage structure in a site-specific manner.例文帳に追加

また、本発明は、標的配列上に核酸開裂構造体を形成し、該核酸開裂構造体を部位特異的に開裂する方法に関する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ACID METAL SALT PARTICLES, AND SILVER SALT PHOTOTHERMOGRAPHIC DRY IMAGING MATERIAL AND IMAGE FORMING METHOD USING THE ORGANIC ACID SILVER SALT PARTICLES例文帳に追加

有機酸金属塩粒子の製造方法及び該有機酸銀塩粒子を用いた銀塩光熱写真ドライイメージング材料と画像形成方法 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator comprising the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, the acid generator comprising the compound, the resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for resist composition, an acid generator made from the compound, a resist composition including the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a new compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator consisting of the compound, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用で新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, an acid generator made of the compound, a resist composition including the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The pattern forming resist contains (a) a compound having an acid decomposable substituent, (b1) a compound which generates a strong acid when irradiated with light and (b2) a compound which generates a weak acid when irradiated with light.例文帳に追加

（ａ）酸により分解する置換基を有する化合物と、（ｂ１）光照射により強酸を発生する化合物と、（ｂ２）光照射により弱酸を発生する化合物とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the polylactic acid fiber having excellent heat resistance comprises subjecting a blend of a poly(L-lactic acid) and a poly(D-lactic acid) to melt spinning and forming a stereocomplex on the spinning line of a yarn.例文帳に追加

ポリＬ乳酸とポリＤ乳酸のブレンド物を溶融紡糸し、紡糸線上でステレオコンプレックスを形成させることを特徴とする耐熱性に優れたポリ乳酸繊維の製造方法。 - 特許庁

This water-containing solid ointment base is obtained by forming a composition consisting essentially of an alkali metal salt of a lower carboxylic acid or an inorganic acid, a higher fatty acid metal salt, water, a monohydric lower alcohol and polyhydric alcohols in a stick-like shape.例文帳に追加

低級カルボン酸もしくは無機酸のアルカリ金属塩、高級脂肪酸金属塩、水、一価低級アルコール及び多価アルコール類を必須成分とする組成物をスティック状に成形する。 - 特許庁

The water-soluble polymer film-forming agent is composed of an anion-modified polyvinyl alcohol containing, as a hydrophilic group, a carboxyl group or sulfo group and any of butanetetracarboxylic acid, an aminocarboxylic acid and an aminocarboxylic acid derivative.例文帳に追加

カルボキシル基若しくはスルホ基を含有親水基とするアニオン変性ポリビニルアルコールと、ブタンテトラカルボン酸，アミノカルボン酸若しくはアミノカルボン酸誘導体のいずれかとから成る水溶性高分子皮膜形成剤。 - 特許庁