ACID-FORMINGの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1976件
To provide: a composition for forming an acid transfer resin film, from which an acid transfer resin film excellent in selectivity of diffusion of acid and removability is obtained; an acid transfer resin film obtained using the same; and a pattern forming method by which a pattern is formed through the existing photolithography process using the acid transfer resin film.例文帳に追加
酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a composition for forming an acid transfer resin film, the composition giving an acid transfer resin film excellent in selectivity of acid diffusion; and to provide an acid transfer resin film formed by using the composition, and a pattern forming method allowing pattern formation by a conventional photolithographic process using the acid transfer resin film.例文帳に追加
酸の拡散の選択性に優れた酸転写樹脂膜を得ることができる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an acid transfer resin film-forming composition which obtains an acid transfer resin film superior in the selectivity of acid diffusion and in removability, and to provide an acid transfer resin film formed that uses the composition, and a pattern forming method which enables pattern formation by an existing photolithography process that uses the acid transfer resin film.例文帳に追加
酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁
Further, the composition for resist lower-layer film formation may contain (D) an acid forming agent and (E) a crosslinking agent.例文帳に追加
更に、(D)酸発生剤、(E)架橋剤等を含有することができる。 - 特許庁
COMPOUND, POLYMER COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND ACID-GENERATING AGENT例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁
NEW COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
SULFONIC ACID ESTER COMPOUND, POLYMER, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
スルホン酸エステル化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
This corrosion-resistant aluminum foil 1 is produced by forming a chemically treated film 3 composed by treating the surface of an aluminum base material 2 with at least one kind among phosphoric acid, phosphate, chromic acid, chromate, hydrofluoric acid and hydrofluoric acid salt.例文帳に追加
アルミニウム基材2の表面をリン酸、リン酸塩、クロム酸、クロム酸塩、フッ酸、フッ酸塩の少くとも1種で処理した化学処理皮膜3を形成し、耐食性アルミニウム箔1を作製する。 - 特許庁
As the functional group capable of forming a complex with copper ions, it is preferable to be an amino-carboxylic acid group, an amino-phosphorous acid group, an imino-diacetic acid group, an imino-diphosphoric acid group, their ester groups or their nitrile groups.例文帳に追加
前記銅イオンと錯体を形成しうる官能基としては、アミノカルボン酸基、アミノリン酸基、イミノ二酢酸基、イミノ二リン酸基、もしくはそれらのエステル基、又はニトリル基であることが好ましい。 - 特許庁
The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming a second resin film as the acid transfer resin film on a first resin film containing a resin having an acid dissociable group and not containing a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加
酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第1樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第2樹脂膜を形成する第2樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁
The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming the second resin film as the acid transfer film on a first resin film which contains a resin including acid dissociation groups but does not contain a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加
酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第1樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第2樹脂膜を形成する第2樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁
The method for producing mozzarella cheese comprises a skin-forming process for soaking the cheese in skin-forming liquid having 0.10-5.00 mass% of lactic acid or in skin-forming liquid containing 0.20-5.00 mass% of citric acid.例文帳に追加
0.10〜5.00質量%の乳酸を含有するスキン形成液中、又は0.20〜5.00質量%のクエン酸を含有するスキン形成液中に、チーズを浸漬するスキン形成工程を含む。 - 特許庁
To provide an acid transfer resin film capable of preventing intermixing, and a pattern forming method capable of forming a pattern by an existing photolithography process by using the acid transfer resin film.例文帳に追加
インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する - 特許庁
It is also possible to use an acid-soluble material as the pore forming material and to remove the pore forming material through heat treatment and acid treatment simultaneously with the formation of the aggregated particles 2.例文帳に追加
空孔形成材として、酸溶解性のものを使用し、ついで熱処理および酸処理して、空孔形成材を除去するとともに凝集粒2を形成してもよい。 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
QUATERNARY AMMONIUM SALT USEFUL FOR CATION EXCHANGE OF ACID DYE AND SALT-FORMING DYE例文帳に追加
酸性染料のカチオン交換に用いる4級アンモニウム塩および造塩染料 - 特許庁
FILM OF OXIDE OR ACID NITRIDE OF CHROMIUM AND CUTTING TOOL FORMING THE FILM例文帳に追加
クロムの酸化物または酸窒化物の皮膜および該皮膜を形成した切削工具 - 特許庁
NEW POLYHYDROXYALKANOATE HAVING AMIDE, SULFONIC ACID, AND SULFONIC ACID ESTER GROUPS, ITS PRODUCTION METHOD, CHARGE REGULATOR, TONER, IMAGE FORMING METHOD, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
アミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基を有する新規なポリヒドロキシアルカノエート及びその製造方法ならびに荷電制御剤、トナー、画像形成方法、画像形成装置。 - 特許庁
This cosmetic for forming the false eyebrows is characterized by containing an acid dyestuff.例文帳に追加
酸性染料を含有することを特徴とする擬似眉形成用化粧料。 - 特許庁
PRIMER FOR DETECTING BEER TURBIDITY-FORMING LACTIC ACID BACTERIUM AND DETECTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ビール混濁乳酸菌検出のためのプライマーおよびそれを用いた検出法 - 特許庁
This liposome composition comprising a vesicle-forming lipid and a vesicle-forming lipid derived with a hydrophilic polymer selected from the group consisting of polylactic acid and polyglycolic acid.例文帳に追加
小嚢形成性脂質と、ポリ乳酸およびポリグリコール酸からなる群から選択された親水性ポリマーで誘導体化された小嚢形成性脂質とからなるリポゾーム組成物。 - 特許庁
POLYAMIC ACID COMPOSITION, POLYIMIDE ENDLESS BELT AND METHOD OF MANUFACTURING POLYIMIDE ENDLESS BELT, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
ポリアミック酸組成物、ポリイミド無端ベルト及びその製造方法、画像形成装置 - 特許庁
ACID SENSITIVE RESIN, RESIN COMPOSITION FOR ACTIVE ENERGY RAY COMPRISING THE ACID SENSITIVE RESIN AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法 - 特許庁
The film forming substance may be the one containing a phosphate, and the chelating agent may be the one containing an ethylenediaminetetraacetic acid or an ethylenetriaminepentaacetic acid.例文帳に追加
被膜形成物質はリン酸塩を含むもの、キレート剤はエチレンジアミン四酢酸やエチレントリアミン五酢酸を含むものでもよい。 - 特許庁
The cleaning liquid contains acetic acid, inorganic acid, a fluorine compound, and deionized water, and the method for forming a metallic pattern uses the same.例文帳に追加
酢酸、無機酸、フッ素化合物、及び純水を含む洗浄液及びこれを用いた金属パターンの形成方法である。 - 特許庁
The manufacturing method includes a step of forming the source electrode and the drain electrode using a mixed acid aqueous solution containing phosphate, acetic acid, and nitric acid as an etchant.例文帳に追加
本発明の製造方法は、エッチング液として、りん酸、酢酸および硝酸を含む混酸水溶液を用いて、ソース電極およびドレイン電極を形成する工程を有する。 - 特許庁
The polylactic acid fiber comprises a poly(L-lactic acid) or poly(D-lactic acid) molecular chain singly forming 3_1 spiral structure and has ≤2% Uster irregularity.例文帳に追加
L体またはD体のポリ乳酸分子鎖が単独で3_1らせん構造を形成しており、ウースター斑が2%以下であることを特徴とするポリ乳酸繊維。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁
NONIONIC PHOTOSENSITIVE COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTO ACID GENERATING AGENT COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
TWO-REACTION AGENT TYPE MEDICAL LYOGEL FORMING AGENT AND HYALURONIC ACID GEL OBTAINED FROM THE SAME例文帳に追加
2反応剤型の医療用含水ゲル形成剤、及び、これより得られるヒアルロン酸ゲル - 特許庁
By doing so, a chelate-forming metal adhered to the substrate W is dissolved by acid.例文帳に追加
これにより、基板Wに付着したキレート形成金属が酸によって溶解される。 - 特許庁
PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME例文帳に追加
光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
This hybrid protein contains 2 co-expression amino acid sequences for forming a dimer.例文帳に追加
ハイブリッドタンパク質は二量体を形成する2個の相互発現アミノ酸配列を含む。 - 特許庁
AMINOPLAST-CURABLE FILM-FORMING COMPOSITION GIVING COATING FILE HAVING RESISTANCE TO ACID ETCHING例文帳に追加
耐酸エッチング性を有する塗膜を与えるアミノプラスト硬化可能な塗膜形成組成物 - 特許庁
POLYAMIC ACID COMPOSITION, POLYIMIDE MOLDED ARTICLE, METHOD FOR PREPARATION OF THE SAME, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
ポリアミック酸組成物、ポリイミド成型物及びその製造方法、並びに画像形成装置 - 特許庁
ORGANIC ACID METAL SALT AND METAL OXIDE FILM-FORMING COATING LIQUID CONTAINING THE SAME例文帳に追加
有機酸金属塩およびそれを含有する金属酸化物薄膜形成用塗布液 - 特許庁
POSITIVE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN FORMING METHOD AND ACID DECOMPOSABLE KETOESTER COMPOUND例文帳に追加
ポジ型化学増幅レジスト材料、パターン形成方法及び酸分解性ケトエステル化合物 - 特許庁
To provide a member coated with an amorphous SiO_2 film having not only a thermal shock resistance but also an excellent anticorrosiveness against an aqueous salt solution and a strong acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and its forming method.例文帳に追加
耐熱衝撃性の他、塩水はもとより、塩酸、硫酸、硝酸のような強酸に対しても優れた耐食性を発揮する、アモルファスSiO_2膜を被覆形成してなる部材、およびその形成方法を提案すること。 - 特許庁
To provide a film-forming agent, a skin care agent and a cosmetic composition which each contains aleuritic acid and an aleuritic acid condensate.例文帳に追加
アロイリチン酸及びアロイリチン酸縮合物を含有する皮膜形成剤、皮膚外用剤及び化粧品組成物を提供すること。 - 特許庁
A polylactic acid type heat-sealable film is constituted by forming an acrylic resin coating layer on at least one surface of a polylactic acid type film.例文帳に追加
ポリ乳酸系フィルムの少なくとも一方の面にアクリル系樹脂コーティング層が形成されている積層構造のフィルムである。 - 特許庁
The complex is formed between a polypeptide capable of acting as a stabilizing agent by forming hydrogen bond with the orthocilicic acid and the orthocilicic acid.例文帳に追加
オルト珪酸と水素結合を形成することにより安定剤として作用するポリペプチドとオルト珪酸との複合体を形成させる。 - 特許庁
Further, a penetration pore forming process for forming penetration pores to wood can be provided before the silicic acid compound impregnation process.例文帳に追加
また、珪酸化合物含浸工程前に、浸透孔を木材に形成する浸透孔形成工程を備えることができる。 - 特許庁
The cell is constituted of a cathode chamber (2) for forming alkali, a salt chamber (3) for supplying the salt to be decomposed, an acid chamber (4) for forming the acid and an anode chamber (5) in which an mineral acid as a proton carrier is made to flow.例文帳に追加
この方法を実施するセルは、アルカリを形成する陰極室(2)、分解するべき塩を供給するための塩室(3)、酸を形成する酸室(4)およびプロトンキャリアーとしての鉱酸が流れる陽極室(5)で構成されている。 - 特許庁
To provide a method for forming a semiconductor conductive layer for forming a resist pattern in good accuracy in which acid generated from a chemical amplification resist film is not consumed by a metal brought into contact with the acid.例文帳に追加
化学増幅型レジスト膜から発生する酸が接触する金属によって消費されず、レジストパターンを精度良く形成する半導体導電層の形成法を提供する。 - 特許庁
The method for producing the monoamide comprises the step for forming the acid monoanhydride of the polybasic carboxylic acid, and a step for forming the monoamide of the polybasic carboxylic acid by reacting the formed acid monoanhydride with amines (except a tertiary amine) in the organic solvent under the absolute condition.例文帳に追加
前記の多価カルボン酸の酸一無水物を生成する工程、および生成した該酸一無水物とアミン類(ただし三級アミンは除く)とを有機溶媒中で無水条件下にて反応させて、該多価カルボン酸のモノアミド体を生成する工程を含む、モノアミド体の製造方法。 - 特許庁
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