「ACID-FORMING」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The chemical solution is used for forming a metal oxide coating while containing the salt of fat-family dicarboxilic acid salt with 7-20 carbons as a dissolved substance (1).例文帳に追加

１．溶質として炭素数７〜２０の脂肪族ジカルボン酸の塩を含有してなる金属酸化物皮膜形成用化成液。 - 特許庁

A water retaining gel forming solution 3 is prepared by adding an acid for neutralization to an aqueous solution of an alkali silicate such as a diluted solution of water glass, etc.例文帳に追加

水ガラス希釈液等のアルカリケイ酸塩水溶液に中和用の酸を加えて保水ゲル形成液３を調製しておく。 - 特許庁

To provide a material which can be utilized for forming positive type images without needing a photo acid generator and further without needing a complicated synthetic method.例文帳に追加

光酸発生剤を必要せず、複雑な合成法も必要としないポジ型の画像形成に利用できる材料を提供する。 - 特許庁

A liquid channel forming section 16 is disposed, which forms a liquid channel of dew condensation water between the electrode surfaces 11 in the acid dew-point corrosive environment.例文帳に追加

酸露点腐食環境において電極面１１の間に結露水の液絡を形成する液絡形成部１６が形成されている。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersing element for coating capable of forming a coated film excellent in solvent resistance, water resistance, printability, acid resistance and alkali resistance.例文帳に追加

耐溶剤性、耐水性、印刷適性、耐酸性、耐アルカリ性に優れた塗膜を形成し得るコーティング用水系分散体を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method for forming the electrode of a lead-acid battery capable of discharging a large current.例文帳に追加

鉛蓄電池の電極の化成方法に関し、大電流放電が可能な鉛蓄電池の電極を形成する化成方法を提供する。 - 特許庁

As the organic low molecular compound, a compound, which has at least a functional group forming a network of a hydrogen-bonding type and a functional group forming a bond with an electrode layer substrate in the molecule, is preferably used and in particular, thiomalic acid or 3- mercaptopropionic acid is preferably used.例文帳に追加

その有機低分子化合物としては、分子中に、少なくとも水素結合的なネットワークを形成する官能基と、電極層基板との結合を形成する官能基とを有するものであることが好ましく、特に、チオリンゴ酸または３−メルカプトプロピオン酸を用いることが好ましい。 - 特許庁

The modified nucleic acid chain compound has a nucleic acid part capable of forming a dimer in the absence of a metal ion of bivalence or more valence and capable of forming a trimeric or larger multimer in the presence of a metal ion of bivalence or more valence, at the both ends of a part capable of interacting with the ion of bivalence or more valence.例文帳に追加

２価以上の金属イオン非存在下で二量体を形成でき、２価以上の金属イオン存在下で三量体以上の多量体を形成できる、核酸鎖部分を、２価以上の金属イオンと相互作用が可能な部分の両末端に有する修飾核酸鎖化合物。 - 特許庁

(1) The polyester includes the polyester obtained by using recycled dimethyl terephthalate obtained by depolymerizing a polyalkylene terephthalate as an ester-forming derivative of an aromatic dicarboxylic acid, and the dimethyl terephthalate occupies ≥80 mol% of the ester-forming derivatives of the total aromatic dicarboxylic acid.例文帳に追加

（１）ポリエステルが、芳香族ジカルボン酸のエステル形成性誘導体として、ポリアルキレンテレフタレートを解重合して得られたリサイクルされたテレフタル酸ジメチルを用い、該テレフタル酸ジメチルが全芳香族ジカルボン酸のエステル形成性誘導体の８０モル％以上を占めるポリエステルからなること。 - 特許庁

To provide a mortar composition capable of forming a hardened mortar body having excellent corrosion resistance (especially acid resistance) and exhibiting excellent strength development and excellent adhesiveness, and a highly acid-resistant hydraulic composition capable of forming the mortar composition.例文帳に追加

優れた耐腐食性（特に耐酸性）を有するモルタル硬化体を形成可能で、且つ優れた強度発現性及び優れた接着性を有するモルタル組成物、及びそのようなモルタル組成物を調製することが可能な高耐酸水硬性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

This polyester resin comprises an aromatic dicarboxylic acid or its ester forming derivative and an aliphatic diol or its ester forming derivative, wherein the polyester resin has a content of a free carboxylic acid of 1.6-100 ppm and a content of acetaldehyde of not more than 4 ppm.例文帳に追加

芳香族ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体と、脂肪族ジオールまたはそのエステル形成性誘導体とからなるポリエステル樹脂であって、遊離のカルボン酸の含有量が１．６〜１００ｐｐｍであり、アセトアルデヒド含有量が４ｐｐｍ以下であることを特徴とするポリエステル樹脂。 - 特許庁

Regarding the method for reproducing the image forming apparatus member whose surface is formed of resin, the surface of the image forming member is wetted with acid solution, thereafter, the surface of the member is washed, the acid solution is removed from the surface of the member, and the member is reproduced.例文帳に追加

少なくとも表面が樹脂で形成された画像形成装置用部材の再生方法であって、前記画像形成部材の表面を酸性溶液で湿潤させ、次いで水洗して前記酸性溶液を除去することを特徴とする画像形成装置用部材の再生方法。 - 特許庁

It is found that a peracetic acid composition in which a hydrogen peroxide content ratio in a peracetic acid equilibrium composition is lowered shows a high sterilization effect to Bacillus cereus which is a spore forming bacterium or bacteria of the genus Paenibacillus, to thereby complete a peracetic acid bactericidal composition which is effective even in the case of short-time treatment.例文帳に追加

芽胞形成菌であるバチルス・セレウスやパエニバチルス属細菌に対し、過酢酸平衡組成物中の過酸化水素含有比率を低くした過酢酸組成物が高い殺菌効果を示すことを見出し、短時間での処理でも有効な過酢酸殺菌組成物を完成させた。 - 特許庁

A liquid crystal alignment membrane forming composition contains at least one polymer selected from polyamic acid obtained by reaction of tetracarboxylic acid dihydride and diamine compounds containing at least diamine expressed by the following formula (1) and polyimides obtained by cyclodehydration of the polyamic acid.例文帳に追加

テトラカルボン酸二無水物と少なくとも下記式（１）で表されるジアミンを含むジアミン化合物との反応により得られるポリアミック酸、及びこのポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドからなる群より選択される少なくとも１種の重合体を含有する液晶配向膜形成用組成物。 - 特許庁

The method comprises a step forming benzodioxole derivatives by reacting benzaldehyde derivatives with a peroxy acid, a step removing the unreacted peroxy acid from the reaction mixture liquid, and a step reacting the benzodioxole derivatives in the reaction mixture liquid with a hydrolyzing agent in the presence of an acid.例文帳に追加

ベンズアルデヒド誘導体を過酸と反応させてベンゾジオキソール誘導体を形成する工程、反応混合液から反応のない過酸を除去する工程、および反応混合液におけるベンゾジオキソール誘導体を酸の存在下に加水分解剤と反応させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a nucleic acid analysis device obtained by forming a stable complex of a primer, a template and a polymerase while keeping polymerase function under conditions of no addition of nucleotide and immobilizing the complex to a substrate, an to provide a method and an apparatus for nucleic acid analysis using the nucleic acid analysis device.例文帳に追加

ヌクレオチド非添加条件下でポリメラーゼの機能を保持したままプライマーとテンプレートとポリメラーゼとの安定な複合体を形成し、基板に当該複合体を固定化した核酸分析デバイス並びにその核酸分析デバイスを利用した核酸分析方法及び核酸分析装置を提供する。 - 特許庁

In the method for producing the organic-inorganic hybrid silica, the organic-inorganic hybrid silica composed of silica and a cationic resin is produced by simultaneously applying a reaction 1 for preparing silicic acid by the reaction of an alkali metal silicate and an acid and a reaction 2 for forming organic-inorganic hybrid silica by the polymerization of the cationic resin and silicic acid, in an aqueous environment.例文帳に追加

シリカとカチオン性樹脂からなる有機無機ハイブリッドシリカを、アルカリ金属珪酸塩と酸の反応から珪酸を調製する反応１と、カチオン性樹脂と珪酸が重合して有機無機ハイブリッドシリカを形成する反応２を、水性環境下で同時に行って製造する。 - 特許庁

The (S)-1-phenyl-1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline having the high optical purity can be produced by forming a salt from the easily available (S)-1-phenyl-1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline having low optical purity and an inexpensive acid such as acetic acid and p-toluenesulfonic acid, and crystallizing the salt.例文帳に追加

入手容易な光学純度の低い（Ｓ）−１−フェニル−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリンと酢酸やｐ−トルエンスルホン酸などの安価な酸から塩を形成させて晶析することにより、光学純度の高い（Ｓ）−１−フェニル−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリンを製造することができる。 - 特許庁

The film contains a polyamic acid and/or a polyimide prepared by reacting (A) at least one of acyl compounds selected from the group consisting of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride and a reactive derivative thereof, with (B) a specific aromatic imino-forming compound.例文帳に追加

（Ａ）２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、及びこれらの反応性誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種のアシル化合物と、（Ｂ）特定の芳香族イミノ形成化合物と、を反応させて得られるポリアミック酸及び／又はポリイミドを含むフィルム。 - 特許庁

To provide a formation method of resist pattern which suppresses the decrease of concentrations of an acid generator or an acid generated from the acid generator in a resist film and is capable of forming a resist pattern having a rectangular shape, and to provide a manufacture method of a semiconductor device using the formation method.例文帳に追加

レジスト膜中での酸発生剤や酸発生剤から生じた酸の濃度が小さくなることを抑制し、矩形形状を有するレジストパターンを形成することのできるレジストパターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The solder composition 10 comprises a large number of solder particles 11, and a liquid 12 (a liquid material) consisting of a mixture of a fatty acid ester oil and iso-stearic acid to be added to the fatty acid ester oil, and is used for forming solder bump on, for example, a pad electrode 22.例文帳に追加

はんだ組成物１０は、多数のはんだ粒子１１と、ベース材としての脂肪酸エステル油と、該脂肪酸エステル油に添加されるイソステアリン酸との混合物からなる液状体１２（液体材料）とからなり、例えばパッド電極２２にはんだバンプを形成するために用いられる。 - 特許庁

This polymer composition for forming the film comprises an emulsion composed of a vinyl acetate homopolymer or a copolymer of vinyl acetate and a monomer selected from an acrylic ester, acrylamide, acrylic acid, methacrylic acid, a methacrylic ester, maleic acid, maleic anhydride and fumaric acid and one or more kinds of components selected from aqueous solutions of a sap, a fruit liquid, honey and saccharides.例文帳に追加

ポリビニルアセテートのホモポリマー若しくはポリビニルアセテートとアクリル酸エステル、アクリル酸アミド、アクリル酸、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、マレイン酸、マレイン酸無水物、及びフマル酸、から選ばれるモノマーとのコポリマーからなるエマルションと、樹液、果実液、蜂蜜、糖類、の水溶液から選ばれる一種若しくは二種以上の成分を含む被膜形成用ポリマー組成物。 - 特許庁

The detergent composition for impression tray comprises 1-60 wt.% of one or more kinds of compounds selected from an aminocarboxylic acid-based chelating agent, a polyphosphoric acid-based chelating agent, a hydroxycarboxylic acid and a hydroxycarboxylate each forming a chelate compound with a metal ion in water and water as main components and 0.1-30 wt.% of a phosphonic acid compound.例文帳に追加

それぞれ金属イオンと水中にてキレート化合物を形成する、アミノカルボン酸系キレート剤，ポリリン酸系キレート剤，ヒドロキシカルボン酸，ヒドロキシカルボン酸塩より選ばれる１種又は２種以上の化合物１〜６０重量％と水とを主成分とし、更にホスホン酸化合物を０.１〜３０重量％含有させて印象用トレー洗浄剤組成物とする。 - 特許庁

The forming agent for a liquid crystal alignment film contains a block copolymerization type polyamic acid containing first polyamic acid blocks and second polyamic acid blocks different from the first polyamic acid blocks in the molecyle, or contains a polyimide block copolymer containing first polymide blocks and second polyimide blocks different from the first polyimide blocks in the molecule.例文帳に追加

この液晶配向膜形成剤は、分子中に、第１のポリアミック酸ブロックと、第１のポリアミック酸ブロックと異なる第２のポリアミック酸ブロックとを含有してなるブロック共重合型ポリアミック酸、または、分子中に、第１のポリイミドブロックと、第１のポリイミドブロックと異なる第２のポリイミドブロックとを含有してなるポリイミドブロック共重合体を含有してなる。 - 特許庁

[2] In the resin composition described in [1], the liquid crystal polyester forming anisotropic melting phase is a liquid crystal polyester obtained by acylating a monomer hydroxyl group in a reaction system, comprising aromatic hydroxyl carboxylic acid, aromatic diol and dicarboxylic acid with an excessive amount of a fatty acid anhydrate to obtain an acylated compound, and ester-exchanging the acylated compound and carboxylic acid in a reaction system.例文帳に追加

［２］異方性溶融相を形成する液晶ポリエステルが、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジオールおよびジカルボン酸からなる反応系のモノマー水酸基を過剰量の脂肪酸無水物によりアシル化してアシル化物を得、該アシル化物と反応系のカルボン酸とをエステル交換して得られた液晶ポリエステルである［１］記載の樹脂組成物。 - 特許庁

The present invention relates to the water-soluble thioctic acid-containing composition comprising (a) a step for forming a thioctic acid-cyclodextrin-containing solution by dropping an ethanol solution of thioctic acid into a water-ethanol mixed solution of cyclodextrin and (b) a step for obtaining a mixture of thioctic acid with cyclodextrin and the method for producing the composition.例文帳に追加

本発明は、（ａ）チオクト酸のエタノール溶液を、シクロデキストリンの水−エタノール混合溶液に滴下して、チオクト酸‐シクロデキストリン含有溶液を形成する工程、および（ｂ）該溶液から水およびエタノールを除去して、チオクト酸とシクロデキストリン混合物を得る工程を含むことを特徴とする水溶性チオクト酸含有組成物およびその製造方法に関する。 - 特許庁

This photomask is constituted by successively forming an acid soluble UV light shielding layer 2 and an acid resistant photosensitive resin layer 3 on a glass plate 1, forming UV shieldable images 2a by etching on the UV light shielding layer 2 and forming images 3a of the same patterns as the patterns of the images 2a on the photosensitive resin layer 3.例文帳に追加

本発明のフォトマスクは、ガラス板１上に、酸溶解性の紫外線遮光層２、耐酸性の感光性樹脂層３が順次形成され、紫外線遮光層２にはエッチングにより紫外線遮光性の画像２ａが形成され、感光性樹脂層３には画像２ａと同一パターンの画像３ａが形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The invention provides an ink composition containing a pigment, a solvent and a block polymer having an ionic functional group, an acid residue or a base residue on the terminal, an image-forming method using the ink composition and an image-forming apparatus.例文帳に追加

顔料と、溶媒と、イオン性官能基、酸残基または塩基残基を末端に有するブロックポリマーとを含有するインク組成物、それを用いた画像形成方法および画像形成装置。 - 特許庁

This dip-formed article is obtained by performing the dip-forming of a latex composition containing carboxy group-containing conjugated diene-based rubber latex and an amphoteric surfactant consisting of a weak base and a strong acid, on a dip-forming form.例文帳に追加

カルボキシル基含有共役ジエン系ゴムラテックス及び弱塩基と強酸とから成る両性界面活性剤を含有して成るラテックス組成物をディップ成形型上でディップ成形する。 - 特許庁

The particulate is produced by forming a primary coating film on the surface of a hexaborate particulate with a surface-modifying agent such as a silane coupling agent and forming a secondary coating film composed mainly of silica by using a silicic acid compound.例文帳に追加

６ホウ化物微粒子の表面に、予めシランカップリング剤などの表面修飾剤で一次被覆膜を形成し、次にケイ酸化合物でシリカを主体とする二次被覆膜を形成する。 - 特許庁

A nitride film 5, protecting element-forming regions 12, is removed by etching with a fourth oxide film 10 used as a mask, and a first thin oxide film 4 on the element forming regions 12 is removed with hydrofluoric acid.例文帳に追加

素子形成領域１２を保護していた窒化膜５を、第４酸化膜１０をマスクとして、エッチングで除去し、その後、素子形成領域１２上の薄い第１酸化膜４をフッ酸にて除去する。 - 特許庁

To provide a method for forming a multi-layer coating film, which is capable of forming a coating film excellent in scratch resistance, acid resistance, surface finish appearance, etc., and capable of reducing the number of processes and the emission amount of a solvent.例文帳に追加

耐擦り傷性、耐酸性、仕上り外観等に優れた塗膜を形成せしめることができ、且つ工程及び排出溶剤量の削減を可能とする複層塗膜形成方法を提供すること。 - 特許庁

This surface active agent is manufactured via steps of forming a sugar solution by hydrolyzing the starch series waste products such as bread crumbs and leftover noodles with a hydrolase such as amylase, and of forming sugar oleate by reacting the sugar solution with oleic acid chloride.例文帳に追加

パン粉や麺類の食べ残し等からなるデンプン系廃棄物をアミラーゼ等の加水分解酵素で糖溶液とし、この糖溶液とオレイン酸クロライドとを反応させて糖オレイン酸エステルとする。 - 特許庁

To obtain a photoresist composition using an acid as a catalyst, capable of forming an image with radiation of 193 nm and capable of forming a photoresist structure having high resolution and high etching resistance by development.例文帳に追加

１９３ｎｍの放射で結像可能であり、現像によって解像度が高く耐エッチング性が高いフォトレジスト構造を形成することのできる、酸を触媒とするフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Any of ≥1 radiation energy and thermal energy imparted to the molded article, the concentration of decomposition-blowing functional group and the concentration of the acid-forming agent or base-forming agent is made as a prescribed uneven distribution.例文帳に追加

成形体に付与する放射線エネルギー、熱エネルギー、成形体中の分解発泡性官能基濃度、酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上を所定の不均一分布とする。 - 特許庁

The peeling cosmetic comprises a first peeling cosmetic containing an α-hydroxy acid such as glycolic acid etc., and having a pH of 3.5-5.0 and a second peeling cosmetic containing an aqueous gel-forming polymer, which are stored in different containers.例文帳に追加

グリコール酸等のα−ヒドロキシ酸を含有したｐＨが３．５〜５．０の第一ピーリング化粧料と、水性ゲル形成高分子を含有した第二ピーリング化粧料を、別容器に収容してなるピーリング化粧料である。 - 特許庁

This method for purifying methacrylic acid comprises the step of adding an N-oxyl compound as the polymerization inhibitor and an azeotropic solvent capable of forming an azeotropic mixture with water to an aqueous solution of methacrylic acid followed by performing a distillation and then separating and removing water from the azeotropic mixture.例文帳に追加

メタクリル酸水溶液に、重合禁止剤であるN-オキシル化合物と、水と共沸混合物を形成する共沸溶剤とを添加して蒸留し、共沸混合物として水を分離除去する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in lithographic characteristics and a pattern profile, a method for forming a resist pattern using the resist composition, a novel compound useful as an acid generator for the resist composition, and an acid generator.例文帳に追加

リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。 - 特許庁

In the laminated body, a resist layer containing a base material component (A) and a component of an acid-generating agent (B) which generates an acid upon exposure, and a protective film formed from the protective film forming material are laminated on a substrate in this order.例文帳に追加

基板上に、基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト層と、前記保護膜形成用材料からなる保護膜とが順に積層されてなる積層体。 - 特許庁

This method for producing the cross-linked material made of the lactic acid is provided by mixing a plasticizer containing at least a rosin derivative and a cross-linking monomer with the polylactic acid, kneading, forming the kneaded material as a prescribed form and irradiating the formed material with an ionizing radiation for cross-linking.例文帳に追加

ポリ乳酸に、少なくともロジン誘導体を含む可塑剤と、架橋性モノマーを混練し、該混練物を所要形状に成形し、該成形材に電離性放射線を照射して架橋している。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor of the compound and a method of producing the same, an acid generator, a resist composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a soil amelioration material containing an A type humic acid by using coal ash or for producing a soil amelioration material forming an A type humic acid without using a heat source of external part.例文帳に追加

石炭灰を使用してＡ型腐植酸を含む土壌改良資材を製造し、また外部熱源を使用せずにＡ型腐植酸を生成する土壌改良資材の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a substrate for forming a nucleic acid probe capable of easily controlling the selective synthesis of nucleic acid without providing complicated wiring or a drive circuit and increasing a chip size.例文帳に追加

複雑な配線や駆動回路を設けることなく、かつ、チップサイズを増大させることなく、所望の領域における選択的な核酸合成を容易に制御することができる核酸プローブ形成用基板を提供する。 - 特許庁

The nucleic acid-amplifying/separating passage 18 has a reaction liquid-storing part 20 and an electrophoresis part 21, and is obtained by forming a reaction liquid-round trip passage 22, a reaction liquid-sucking passage 23 and a nucleic acid-feeding passage 25.例文帳に追加

核酸増幅・分離流路１８は、反応液溜部２０と電気泳動部２１を有し、これらの周辺に反応液往復流路２２、反応液吸引路２３、核酸供給路２５が設けられたものである。 - 特許庁

In the manufacturing method of the chip 10 for the microchemical system, the surfaces of the glass substrates 1-3 are subjected to hydrofluoric acid treatment, and then an acid treatment is carried out, thereby forming a welding layer 36; and furthermore an alkali treatment is carried out, thereby modifying the welding layer 36.例文帳に追加

マイクロ化学システム用チップ１０は、ガラス基板１，２，３の表面にフッ酸処理を施した後、酸処理により融着層３６を形成し、さらに、アルカリ処理を施して融着層３６を改質する。 - 特許庁