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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Interlayerの意味・解説 > Interlayerに関連した英語例文

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Interlayerを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6425



例文

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS, AND INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

INTERLAYER MEMBRANE FOR LAMINATED GLASS, AND LAMINATED GLASS USING THE SAME例文帳に追加

合わせガラス用中間膜、及びこれを用いた合わせガラス - 特許庁

First interlayer wiring grooves 7 are formed in the insulation film 3.例文帳に追加

絶縁膜3に第1層配線用溝7を形成する。 - 特許庁

The laminated glass is obtained by using this interlayer film for laminated glass.例文帳に追加

この合わせガラス中間膜を用いて合わせガラスを得る。 - 特許庁

例文

TRIMMING EQUIPMENT FOR INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS AND METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

合わせガラス用中間膜のトリミング装置及びその方法 - 特許庁


例文

RESIN COMPOSITION, INTERLAYER FILM FOR LAMINATED GLASS USING THE RESIN COMPOSITION AND LAMINATED GLASS USING THE INTERLAYER FILM例文帳に追加

樹脂組成物、前記樹脂組成物を用いた合わせガラス用中間膜および前記中間膜を用いた合わせガラス - 特許庁

To improve the adhesiveness between the interlayer insulating film and other insulating films while keeping a dielectric constant of an interlayer insulating film low.例文帳に追加

層間絶縁膜の誘電率を低く保ちつつ、層間絶縁膜と他の絶縁膜との密着性を改善する。 - 特許庁

To provide an interlayer dielectric that has a low dielecttic constant and a low relative dielectric constant, and is easily manufactured, and a method for manufacturing the interlayer dielectric.例文帳に追加

誘電率が低く、製造が容易な低比誘電率の層間絶縁膜及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 18 is formed on the electrode.例文帳に追加

また、その上には、層間絶縁膜18が形成されている。 - 特許庁

例文

CARBON FIBER-REINFORCED CARBON COMPOSITE MATERIAL WHOSE INTERLAYER IS STRENGTHENED例文帳に追加

層間強化した炭素繊維強化炭素複合材料 - 特許庁

例文

First, a resist (not shown) for forming a hole is patterned on an interlayer dielectric 13, and according to it the interlayer dielectric 132, a stopper film 12, and the interlayer dielectric 131 are sequentially etched.例文帳に追加

層間絶縁膜13上に、まずホール形成のためのレジスト(図示せず)をパターニングし、それに従って層間絶縁膜132、ストッパ膜12、層間絶縁膜131を順にエッチングする。 - 特許庁

When the shielding film 12 is formed on the interlayer film 11a through patterning, another interlayer film 11b is formed across the whole surface on the interlayer film 11a with the shielding film 12 thereon.例文帳に追加

層間膜11a上に遮蔽膜12がパターニング形成されると、遮蔽膜12が形成された層間膜11a上に、全面にわたって、層間膜11bを形成する。 - 特許庁

The interlayer insulating film 64 is depressed in the position of the groove 62a, a convex part of the interlayer insulating film 64 is formed on each light-receiving pixel, and a microlens is constituted by this interlayer insulating film 64.例文帳に追加

層間絶縁膜64は、溝62aの位置で窪み、各受光画素上に層間絶縁膜64の凸部が形成され、この層間絶縁膜64によりマイクロレンズが構成される。 - 特許庁

Then, a protruded projection parts 6a of the third interlayer insulating film 6 are cut, and the third interlayer insulating film 6 is flattened by polishing only the third interlayer insulating film 6.例文帳に追加

その後、3層目層間絶縁膜6のみを研磨することにより、3層目層間絶縁膜6の突出した凸部6aを削り、3層目層間絶縁膜6を平坦化する。 - 特許庁

To provide an interlayer connection bonding sheet having extremely higher interlayer bonding reliability and interlayer connection reliability to manufacture a high density and high level multilayer wiring circuit board.例文帳に追加

極めて高い層間接着信頼性と層間接続信頼性を有し、高密度で高多層な多層配線基板を作製することができる、層間接続ボンディングシートを提供する。 - 特許庁

A third opening is formed on a cap film 7 and an interlayer insulation film 8 on the interlayer insulation film 4 and the wiring film 6, and a second opening is formed on an interlayer insulation film 9 on the interlayer insulation film 8 to contact the third opening 3.例文帳に追加

層間絶縁膜4及び配線膜6上のキャップ膜7及び層間絶縁膜8に第3の開口部が設けられ、層間絶縁膜8上の層間絶縁膜9に第3の開口部に接するように第2の開口部が設けられる。 - 特許庁

When the wiring 14 is formed on the interlayer film 11b, an opening 15 to an Si substrate 1 is formed after penetrating the interlayer film 11b, the shielding film 12, the interlayer film 11a, the interlayer film 4b, the shielding film 7 and the interlayer film 4, so as to avoid a gate silicon 2, a wiring 10 and the wiring 14 which form the circuit.例文帳に追加

層間膜11b上に配線14が形成されると、回路を形成するゲートシリコン2、配線10および配線14を避けるように、層間膜11b、遮蔽膜12、層間膜11a、層間膜4b、遮蔽膜7および層間膜4を貫通して、Si基板1に達する開口部15を形成する。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit device comprises a semiconductor chip provided with the interlayer film, and an insulating film formed on the outer side of wiring provided inside the semiconductor chip and formed so as to cover the boundary of the interlayer film and the upper layer of the interlayer film, the boundary of the interlayer film and the lower layer of the interlayer film or the surface of a part where the interlayer film is removed.例文帳に追加

層間膜を備えた半導体チップと、前記半導体チップ内に設けられた配線より外側に形成され、前記層間膜と該層間膜の上層との界面、前記層間膜と該層間膜の下層との界面若しくは前記層間膜が除去された部分の表面を覆うように形成される絶縁膜とを有することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 特許庁

INTERLAYER DIELECTRIC, ITS FORMING METHOD AND FORMING METHOD OF WIRING例文帳に追加

層間絶縁膜、その形成方法及び配線の形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATING FILM AND SPACER例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびスペーサー - 特許庁

A second conductive interlayer insulating film 6 is disposed on the element isolated insulating film 4 and the conductive interlayer insulating film 5.例文帳に追加

第二の導電層間絶縁膜6が、素子分離絶縁膜4上と導電層間絶縁膜5上に配置されている。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATING FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

A lower thin-film transistor is arranged on the first interlayer insulating film, and is covered with a second interlayer insulating film.例文帳に追加

該第1の層間絶縁膜上に下部薄膜トランジスタが配置されて、該下部薄膜トランジスタは第2の層間絶縁膜で覆われる。 - 特許庁

CIRCUIT WIRING BOARD AND INTERLAYER CONNECTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

回路配線基板の層間接続方法および回路配線基板 - 特許庁

Lower layer wiring 14 is formed inside an interlayer dielectric 10.例文帳に追加

層間絶縁膜10内に下層配線14が形成される。 - 特許庁

A second interlayer dielectric 9 is formed on the first interlayer dielectric 7 by spin coating and etching-back processing.例文帳に追加

回転塗布法及びエッチバック処理により第1層間絶縁膜7上に第2層間絶縁膜9が形成されている。 - 特許庁

A pattern of a gate interlayer insulating film is formed in the opening.例文帳に追加

前記開口部内にゲート層間絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁

In a semiconductor chip 10, an interlayer resin insulating layer 50 and an interlayer resin insulating layer 150 are formed on an IC chip 20.例文帳に追加

半導体チップ10は、ICチップ20上に層間樹脂絶縁層50、層間樹脂絶縁層150を配置して成る。 - 特許庁

Then the interlayer insulating film 5 is formed on the dummy patterns.例文帳に追加

そして、このダミーパターンの上に層間絶縁膜5を形成する。 - 特許庁

STORAGE CONTAINER, AND STORAGE METHOD OF INTERLAYER PAPER AND SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

層間紙、半導体ウェーハの収納容器及び収納方法 - 特許庁

PRODUCTION METHODS FOR SILVER, SILVER FILM AND SILVER IMAGE, AND INTERLAYER CONNECTION METHOD例文帳に追加

銀、銀膜、銀画像の作製方法、及び層間接続方法 - 特許庁

An interlayer insulation film 4 is formed on a silicon substrate 1 and then the interlayer insulation film 4 is etched and a contact hole 5 is made.例文帳に追加

シリコン基板1上に層間絶縁膜4を形成し、層間絶縁膜4をエッチングしてコンタクトホール5を形成する。 - 特許庁

PROCESS FOR FORMING INTERLAYER CONNECTION STRUCTURE, PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC CIRCUIT DEVICE, INTERLAYER CONNECTION STRUCTURE AND ELECTRONIC CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

層間接続構造の形成方法及び電子回路装置の製造方法、並びに層間接続構造及び電子回路装置 - 特許庁

HEAT RAY-ABSORBING LAMINATED GLASS AND INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS例文帳に追加

熱線吸収性合わせガラス及び合わせガラス用中間膜 - 特許庁

An etching stopper film 2 is formed on an interlayer insulating film 1.例文帳に追加

層間絶縁膜1の上にエッチングストッパ膜2が形成される。 - 特許庁

An interlayer insulating film 60 is formed on the silicon nitride film.例文帳に追加

次に、シリコン窒化膜上に層間絶縁膜60を形成する。 - 特許庁

INTERLAYER CONNECTING MEMBER FOR MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, METHOD FOR MANUFACTURING THE INTERLAYER CONNECTING MEMBER, THE MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

多層プリント配線板の層間接続部材とその製造方法並びに多層プリント配線板とその製造方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING INTERLAYER CONNECTION VIA HOLE, AND MULTILAYER INTERCONNECTION WIRING BOARD例文帳に追加

層間接続ビアホールの検査方法及び多層回路配線板 - 特許庁

INTERLAYER CONNECTION METHOD FOR SUBSTRATE AND CIRCUIT BOARD USING THE SAME例文帳に追加

基板の層間接続方法およびこれを利用した回路基板 - 特許庁

An interlayer insulating film 10a is formed on the stepped film 10.例文帳に追加

段差膜10上に層間絶縁膜10aを形成する。 - 特許庁

INTERLAYER INSULATING FILM AND WIRING STRUCTURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

層間絶縁膜および配線構造と、それらの製造方法 - 特許庁

LAMINATED INTERLAYER OPTICAL DIRECTIONAL COUPLER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

積層型層間光方向性結合器およびその製造方法 - 特許庁

A lower layer wiring 12 is formed in an interlayer insulating film 10.例文帳に追加

層間絶縁膜10内に下層配線12が形成される。 - 特許庁

The interlayer insulating film 9 is formed on the coating film 6.例文帳に追加

層間絶縁膜9は被覆膜6上に形成されている。 - 特許庁

The semiconductor device is equipped with a first interlayer insulating film 105.例文帳に追加

半導体装置は、第1の層間絶縁膜105を備える。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATING LAYER OF MULTI-LAYER PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

多層プリント配線板の層間絶縁層用樹脂組成物 - 特許庁

To provide a method for controlling an interlayer distance of a liquid crystal phase which permits the control of the interlayer distance of a smectic liquid crystal phase at an arbitrary distance.例文帳に追加

スメクチック液晶相の層間隔を任意の間隔に制御する液晶相の層間隔制御方法を提供する。 - 特許庁

STARCH-BASED INTERLAYER ADHESIVE, AND METHOD FOR PAPERMAKING USING THE SAME例文帳に追加

澱粉系層間接着剤およびそれを用いた抄紙方法 - 特許庁

例文

In actually performing exposure, the interlayer insulating film is formed and flatted on the alignment marks on a lot basis, and the thickness of the interlayer insulating film is measured after flattening.例文帳に追加

実際に、露光を行う際には、ロット単位で、アライメントマーク上に層間絶縁膜を形成し、その平坦化を行う。 - 特許庁




  
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