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「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Interlayerの意味・解説 > Interlayerに関連した英語例文

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Interlayerを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6425



例文

To provide a multi-gradation photomask with an interlayer improved in chemical resistance.例文帳に追加

多階調フォトマスクにおいて、中間膜の薬液耐性を向上させる。 - 特許庁

An interlayer insulating film 14 is formed covering the common potential line COM.例文帳に追加

共通電位線COMを覆って層間絶縁膜14を形成する。 - 特許庁

A surface protection film 39 is laminated on the interlayer film 38.例文帳に追加

この層間膜38の上には、表面保護膜39が積層されている。 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, INTERLAYER DIELECTRIC AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 - 特許庁

例文

After an interlayer insulating film 29 is formed, a contact hole 31 is formed (N).例文帳に追加

層間絶縁膜29を堆積した後、コンタクトホール31を形成する(N)。 - 特許庁


例文

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF FORMING INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

半導体装置、その製造方法及び層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

A semiconductor device 39 includes an interlayer 31 having two main surfaces.例文帳に追加

半導体素子39は、2つの主面を有する介在層31を含む。 - 特許庁

VANADIUM DIOXIDE PARTICLE DISPERSION, INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS, AND LAMINATED GLASS例文帳に追加

二酸化バナジウム粒子分散液、合わせガラス用中間膜及び合わせガラス - 特許庁

METHOD FOR FORMING INTERLAYER DIELECTRIC FILM, SEMICONDUCTOR DEVICE AND APPARATUS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

層間絶縁膜形成方法、半導体デバイス、及び半導体製造装置 - 特許庁

例文

INTERLAYER DIELECTRIC MATERIAL WITH LOW DIELECTRIC CONSTANT AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜材料およびこれを用いた半導体装置 - 特許庁

例文

A first interlayer dielectric 3 is formed on a semiconductor substrate 2.例文帳に追加

半導体基板2上には、第1層間絶縁膜3が形成されている。 - 特許庁

INTERLAYER FILM FOR GLASS LAMINATE, GLASS LAMINATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS LAMINATE例文帳に追加

合わせガラス用中間膜、合わせガラスおよび合わせガラスの製造方法 - 特許庁

The fuel side interlayer material contains a specific lanthanoide doped ceria.例文帳に追加

燃料側中間層用材料は、特定のランタノイドドープセリアを含有する。 - 特許庁

LAMINATED GLASS WITH RESIN MOLDING, LAMINATED GLASS AND INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS例文帳に追加

樹脂モールディング付き合わせガラス、合わせガラス、および合わせガラス用中間膜 - 特許庁

POLYESTER FILM FOR USE AS INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS AND LAMINATED GLASS COMPRISING THE SAME例文帳に追加

合わせガラス中間膜用ポリエステルフィルムおよびそれからなる合わせガラス - 特許庁

INTERLAYER INSULATION FILM FOR MULTILAYER WIRING AND PRODUCTION OF RESIN USED THEREFOR例文帳に追加

多層配線用層間絶縁膜及びそれに用いる樹脂の製造方法 - 特許庁

OPTICAL INFORMATION DEVICE, AND INTERLAYER TRANSFER METHOD IN OPTICAL INFORMATION DEVICE例文帳に追加

光学情報装置、及び光学情報装置における層間移動方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR GLASS LAMINATE INTERLAYER, GLASS LAMINATE, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

合わせガラス中間層用樹脂組成物、合わせガラスおよびその製造法 - 特許庁

To uniformly etch interlayer films with different thicknesses to form contact holes.例文帳に追加

厚さが異なる層間膜を一様にエッチングしてコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

The transistor is covered with an interlayer insulating film 7, and embedded wiring 8 to an active area 3 is embedded in the interlayer insulating film 7.例文帳に追加

トランジスタ上は層間絶縁膜7によって覆われており、層間絶縁膜7には活性領域3に達する埋め込み配線8が埋め込まれている。 - 特許庁

To prevent exfoliation between a conductor layer and an interlayer resin insulating layer and cracks in the interlayer resin insulating layer under heat cycle condition and high temperature, high pressure and high humidity condition.例文帳に追加

ヒートサイクル条件や高温、高圧、多湿条件で導体層と層間樹脂絶縁層との剥離および層間樹脂絶縁層のクラックを防止する。 - 特許庁

A third interlayer insulating film IL3 is formed to cover the first and second interlayer insulating films IL1 and IL2 and its top surface is flattened.例文帳に追加

第3の層間絶縁膜IL3は第1および第2の層間絶縁膜IL1、IL2上を覆うように形成され、かつ上面が平坦化されている。 - 特許庁

Then the interlayer insulation film 23 is heated, so that the particles 24 are gasified and a plurality of cavities are formed in the interlayer insulation film 23a.例文帳に追加

次に、この層間絶縁膜23を熱処理することにより、粒子24を気化させ層間絶縁膜23a中に複数の空孔25を形成する。 - 特許庁

To form a second interlayer and a YBCO superconductive layer with excellent characteristics on a first interlayer excellent in surface smoothness on a substrate.例文帳に追加

基盤上の表面平滑性に優れた第1中間層の上に第2中間層及び特性の優れたYBCO超電導層を形成する。 - 特許庁

Sets of first Cu wiring 12 are formed in the first interlayer insulating film 11 and sets of second Cu wiring 14 in the second interlayer insulating film 13.例文帳に追加

第1の層間絶縁膜11内には第1のCu配線12が、第2の層間絶縁膜13には第2のCu配線14が形成されている。 - 特許庁

Thus, even if the interlayer insulating film is formed after the diffusion preventing film is formed, the dummy gate is isolated from the interlayer insulating film by the diffusion preventing film.例文帳に追加

これにより、拡散防止膜の形成後に層間絶縁膜が形成されても、ダミーゲートは拡散防止膜によって層間絶縁膜と隔離されるようになる。 - 特許庁

To detect residue of film in a region in which a contact hole is formed in an interlayer insulation layer, and to accurately obtain thickness of residue of film of the interlayer insulation layer.例文帳に追加

層間絶縁層におけるコンタクトホールを形成した領域での膜残りを検出し、且つ層間絶縁層の膜残りの厚みを精度良く求める。 - 特許庁

An amorphous silicon film 14 is formed on an interlayer insulating film 10 including the side and the bottom of an opening 12 formed in the interlayer insulating film 10.例文帳に追加

層間絶縁膜10に形成された開口部12の側面上および底面上を含む層間絶縁膜10上にアモルファスシリコン膜14を形成する。 - 特許庁

A wiring layer formed on an interlayer dielectric 4 is electrically connected to the body region via a body contact formed in the interlayer dielectric 4.例文帳に追加

層間絶縁膜4上に形成された配線層は、層間絶縁膜4中に設けられたボディーコンタクトを介してボディー領域と電気的に接続される。 - 特許庁

The residual film thickness 33 of the interlayer insulating film on the thin-film resistor 5 is identical with the residual film thickness 35 of the interlayer insulating film in the opening 21 for film-thickness monitoring.例文帳に追加

薄膜抵抗体5上の層間絶縁膜残存膜厚33と膜厚モニタ用開口部19の層間絶縁膜残存膜厚35は同じである。 - 特許庁

The interlayer frees the other layers in the protocol stack to operate as before, leaving to the interlayer the specifics of performing the communications task.例文帳に追加

この中間層は、プロトコルスタック内の他の層が中間層に通信タスクの実行の詳細を委ねることによって、それまで通り動作できるようにする。 - 特許庁

An interlayer from the wiring side substrate 2 to the sealing layer 8 is sealed by an interlayer sealing part 9 provided on a side surface of the element body 90.例文帳に追加

素子本体90の側面に設けられた層間封止部9によって、配線側基板2から封止層8までの層間が封止される。 - 特許庁

The interlayer dielectric 40 includes at least an organic film, and the film thickness of the interlayer dielectric 40 is equivalent to that of the emitter main electrode terminal 42A.例文帳に追加

層間絶縁膜40には少なくとも有機膜が含まれ、層間絶縁膜40の膜厚はエミッタ主電極端子42Aの膜厚と同等である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductor for interlayer connection, which improves connection reliability of an interlayer connection of a multilayer printed circuit board.例文帳に追加

多層プリント基板において、層間接続の接続信頼性を向上することが可能な層間接続用導電体を製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated hose superior in chemical permeation preventive performance, an interlayer adhesive property and durability of interlayer adhesive strength particularly in a high temperature atmosphere.例文帳に追加

薬液透過防止性、層間接着性、特に、高温雰囲気下における層間接着強度の耐久性に優れた積層ホースを提供する。 - 特許庁

Since the conductor patterns 13 of the conductor pattern films 16 are connected by interlayer connection through the filled through-hole 15, the interlayer connection reliability is high.例文帳に追加

各片面導体パターンフィルム16の導体パターン13が、充填スルーホール15を介して層間接続されるので、層間接続信頼性が高い。 - 特許庁

In a step of forming the interlayer insulating film 22, an exposure mask 56A is used, when the projecting and recessing pattern are formed on the surface of the interlayer insulating film 22.例文帳に追加

層間絶縁膜22を形成する工程では、層間絶縁膜22の表面に凹凸パターンを形成する際に露光マスク56Aを用いる。 - 特許庁

A second interlayer insulating film 6 is arranged by covering the first interlayer insulating film 3 and the silicide pad 5, and a tungsten plug 7 is arranged on the silicide pad 5.例文帳に追加

第1層間絶縁膜3及びシリサイドパット5を覆って第2層間絶縁膜6が配置され、シリサイドパッド5上にはタングステンプラグ7が配置されている。 - 特許庁

A second emitter electrode 20 is formed on the interlayer dielectric 66, and is connected to the first emitter electrode 54 through an opening of the interlayer dielectric 66.例文帳に追加

第2エミッタ電極20が層間絶縁膜66上に形成され、層間絶縁膜66の開口を介して第1エミッタ電極54に接続されている。 - 特許庁

An interlayer dielectric 101 is formed on the top of a semiconductor substrate, and a lower layer wiring 105 is formed in the interlayer dielectric 101.例文帳に追加

半導体基板の上面に層間絶縁膜101が形成されており、層間絶縁膜101内に下層配線105が形成されている。 - 特許庁

The antireflection film 9 serves as an etch stop film when the interlayer insulating film is etched for forming openings used to bury the conductive members in the interlayer insulating film.例文帳に追加

そして、反射防止膜9は、層間絶縁膜に導電性部材を埋め込む開口の形成における層間絶縁膜のエッチング時のエッチングストップ膜である。 - 特許庁

To form an interlayer insulation film (insulation bank) for interlayer isolation of a lower conductive layer formed in a terminal part of a high density display, with a high pattern accuracy.例文帳に追加

高密度ディスプレイの端子部に形成される下層導電層を層間分離するための層間絶縁膜(絶縁性バンク)を高いパターン精度で形成する。 - 特許庁

The amount of resin included in the first interlayer resin insulation layer 410 is greater than that of the second interlayer resin insulation layer 420.例文帳に追加

そして、第1の層間樹脂絶縁層410に含まれている樹脂の量は前記第2の層間樹脂絶縁層420に含まれている樹脂の量より多い。 - 特許庁

In this manner, an interlayer distance L2 between the shielding layers 22, 32 is made shorter than an interlayer distance L1 at sections other than the end 19.例文帳に追加

これにより、シールド層22,32の層間距離L2は端部19以外の部分における層間距離L1よりも短くなるように形成される。 - 特許庁

The interlayer insulation film of the liquid crystal display element is formed from the radiation sensitive composition and the liquid crystal display element has the interlayer insulation film.例文帳に追加

液晶表示素子の層間絶縁膜は上記感放射線性組成物から形成され、液晶表示素子は上記創刊絶縁膜を具備する。 - 特許庁

A wiring layer formed on an interlayer insulation film 4 is electrically connected with the body region via a body contact provided in the interlayer insulation film 4.例文帳に追加

層間絶縁膜4上に形成された配線層は、層間絶縁膜4中に設けられたボディーコンタクトを介してボディー領域と電気的に接続される。 - 特許庁

A second interlayer insulating film 5 is formed on a first copper wiring 2 formed in a first interlayer insulating film 1 through a barrier insulating film 4.例文帳に追加

第1層間絶縁膜1内形成された第1銅配線2上には、バリア絶縁膜4を介して、第2層間絶縁膜5が形成される。 - 特許庁

A wiring channel 15 is formed at an interlayer insulating film 11b, and a titanium nitride film 16 is formed on the interlayer insulating film 11b comprising the wiring channel 15.例文帳に追加

層間絶縁膜11bに配線溝15を形成し、配線溝15を含む層間絶縁膜11b上に窒化チタン膜16を形成する。 - 特許庁

A pattern film 6b is arranged between the interlayer insulating film 4 and the interlayer insulating film 7 approximately according to the region between adjacent pixel electrodes 9a.例文帳に追加

層間絶縁膜4と層間絶縁膜7の間には、隣り合う画素電極9a間の領域付近に対応してパターン膜6bが配置される。 - 特許庁

例文

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, INTERLAYER INSULATION FILM FORMED THEREFROM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された層間絶縁膜、および液晶表示素子 - 特許庁




  
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