「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATING FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

To provide a method for forming an interlayer insulation film in which a general-purpose developer can be used and a photosensitive resin composition for the interlayer insulation film.例文帳に追加

汎用の現像液を使用可能な層間絶縁膜を形成する方法及び層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated tube superior in chemical permeation prevention effect, interlayer adhesion and durability of interlayer adhesive strength, particularly in a high temperature atmosphere.例文帳に追加

薬液透過防止性、層間接着性、特に、高温雰囲気下における層間接着強度の耐久性に優れる積層チューブを得ること。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

層間絶縁膜の形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING INTERLAYER CONDUCTIVE CONTACTS AND ITS FORMING METHOD例文帳に追加

層間導電性コンタクトを含む半導体素子及びその形成方法 - 特許庁

The wiring structure 40 is configured so as to contain a conductive plug, and penetrates through the interface between the interlayer insulating film 20 and the interlayer insulating film 30.例文帳に追加

配線構造４０は、導電プラグを含んで構成され、層間絶縁膜２０と層間絶縁膜３０との界面を貫通している。 - 特許庁

The thickness of the interlayer is preferably 0.5-20 nm.例文帳に追加

該中間層の厚みが、０．５ｎｍ〜２０ｎｍである態様などが好ましい。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which detects peeling of an interlayer dielectric.例文帳に追加

層間絶縁膜の剥離を検出する半導体装置を提供する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 5 is provided so as to cover the holding capacitance element.例文帳に追加

保持容量素子を覆うようにして層間絶縁膜５を設ける。 - 特許庁

An interlayer insulation film 12 is formed on an aluminum interconnect 11.例文帳に追加

アルミニウム配線１１上に層間絶縁膜１２が形成されている。 - 特許庁

Then, a contact hole is formed at the interlayer dielectric film 121, and a copper film is formed on the interlayer dielectric film 121, with the contact hole filled with copper.例文帳に追加

そして、層間絶縁膜１２１にコンタクトホールを形成し、層間絶縁膜１２１上に銅膜を形成してコンタクトホール内に銅を埋め込む。 - 特許庁

To improve adhesion between a gold alloy electrode and an interlayer dielectric film.例文帳に追加

金合金電極と層間絶縁膜との密着性を向上させる。 - 特許庁

To provide an all-solid lithium secondary battery with excellent interlayer adhesion.例文帳に追加

層間の密着性に優れた全固体リチウム二次電池を提供する。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 10, an etching stopper film 17, a first interlayer insulating film 18 and a second interlayer insulating film 19 are formed in order.例文帳に追加

半導体基板１０の上に、エッチングストッパー膜１７、第１の層間絶縁膜１８及び第２の層間絶縁膜１９を順次形成する。 - 特許庁

An interlayer insulating film is formed on the bulk MOS transistor, and a thin-film transistor having the source/drain regions is formed on the interlayer insulating film.例文帳に追加

該バルクモストランジスタ上に層間絶縁膜が形成され、該層間絶縁膜上にソース／ドレイン領域を有する薄膜トランジスタが形成される。 - 特許庁

A low-k film 9 is formed on an interlayer insulating film 5.例文帳に追加

層間絶縁膜５上にＬｏｗ−ｋ膜９が形成される。 - 特許庁

To detect interlayer short-circuit abnormality of a resolver easily and inexpensively.例文帳に追加

簡単かつ安価に、レゾルバのレアショート異常を検出できるようにする。 - 特許庁

To expedite fine patterning of wiring by enhancing reliability in interlayer connection.例文帳に追加

層間接続の信頼性を高め、配線パターンのファイン化を促進する。 - 特許庁

To etch an interlayer insulation film that is composed of organic film made mainly of organic constituent without oxidizing the interlayer insulation film.例文帳に追加

有機成分を主成分とする有機膜からなる層間絶縁膜に対して、層間絶縁膜を酸化させることなくエッチングできるようにする。 - 特許庁

Then, an upper layer interlayer insulating film 16 is formed on the aluminum film 15a, and a via plug 17 is formed in the upper layer interlayer insulating film 16.例文帳に追加

次に、アルミ膜１５ａ上に上層層間絶縁膜１６を形成し、上層層間絶縁膜１６にビアプラグ１７を形成する。 - 特許庁

The heating process is performed by elevating the temperature of the interlayer compound.例文帳に追加

加熱工程は、層間化合物を昇温することにより実施される。 - 特許庁

An etching stopper film 16 having a slower etching rate than that of an interlayer insulating film, is formed on an upper surface of the interlayer insulating film 15 covering wiring 13.例文帳に追加

配線１３を覆う層間絶縁膜１５の上面に、層間絶縁膜よりもエッチング速度の遅いエッチングストッパ膜１６を形成する。 - 特許庁

A pad opening 22 reaching from the surface of the interlayer dielectric 21 to a second wiring 13 is formed on the interlayer dielectric 21 of the second wiring 13.例文帳に追加

第２配線１３上の層間絶縁膜２１には、その表面から第２配線１３に達するパッド開口２２が形成されている。 - 特許庁

The compatibility between the interlayer conduction part 24a and the first conductor circuit 23a is higher than the compatibility between the interlayer conduction part 24a and the seed layer 22a.例文帳に追加

層間導通部２４ａと第１の導体回路２３ａとの親和性は、層間導通部２４ａとシード層２２ａとの親和性よりも高い。 - 特許庁

INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS, LAMINATED GLASS, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED GLASS例文帳に追加

合わせガラス用中間膜、合わせガラス及び合わせガラスの製造方法 - 特許庁

An interlayer insulating film is formed on the bulk MOS transistor, and a thin-film transistor having the source/drain regions is formed on the interlayer insulating film.例文帳に追加

該バルクモストランジスタ上に層間絶縁膜が形成され、該層間絶縁膜上にソース／ドレイン領域を有する薄膜トランジスタが形成される。 - 特許庁

LAMINATED GLASS FOR AUTOMOBILE WINDSHIELD AND INTERLAYER THEREFOR例文帳に追加

自動車フロント合わせガラス用中間膜および自動車フロント合わせガラス - 特許庁

MULTILAYER PRINTED BOARD HAVING VIA HOLE FOR INTERLAYER CONNECTION AND ITS METHOD OF MANUFACTURE例文帳に追加

層間接続バイア・ホールを有する多層プリント基板の製造方法 - 特許庁

A contact plug 17 is provided in the first interlayer insulating film and the second interlayer insulating film, and contacts the wiring layer and source/drain region.例文帳に追加

コンタクトプラグ１７は、第１層間絶縁膜および第２層間絶縁膜内に設けられ、配線層およびソース／ドレイン領域に接する。 - 特許庁

The compatibility between the interlayer conduction part 24a and the first alloy layer 28a is higher than the compatibility between the interlayer conduction part 24a and the seed layer 22a.例文帳に追加

層間導通部２４ａと第１の合金層２８ａとの親和性は、層間導通部２４ａとシード層２２ａとの親和性よりも高い。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURE THEREOF, AND METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

半導体装置、その製造方法及び層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

Thereafter, ordinary interlayer dielectric and a light shielding film 6 are formed.例文帳に追加

その後、通常の層間絶縁膜および遮光膜６を形成する。 - 特許庁

Thus, an interlayer insulating film 154 of the silicon oxide film is formed.例文帳に追加

これにより、シリコン酸化膜による層間絶縁膜１５４を形成する。 - 特許庁

In this part, crystals are continuous and do not form an interlayer interface.例文帳に追加

この部分では、結晶が連続し、層間界面を構成していない。 - 特許庁

A part of the interlayer-insulating film 24 over a region on which the plugs 26, 27 are not formed is eliminated, and a step-difference is formed on the interlayer-insulating film 24.例文帳に追加

プラグ２６、２７が形成されていない領域の層間絶縁膜２４の一部を除去し、層間絶縁膜２４に段差を形成する。 - 特許庁

MANUFACTURE OF INTERLAYER INSULATING LAYER AND IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

層間絶縁層の製造方法及びそれを用いた画像形成装置 - 特許庁

By a standardized arrangement of the interlayer interface region, and a standardized arrangement of conductors of the interlayer bus, circuit layer design and the interconnection of functional units to the interlayer bus can be simplified.例文帳に追加

層間インターフェース領域を標準化して配置すること、及び層間バスの導電体を標準化して配置することで、、回路層の設計及び機能ユニットを層間バスに相互接続することを簡略化できる。 - 特許庁

A second interlayer dielectric 24 is formed on the flattened face, and the liquid crystal layer 25 is arranged on the second interlayer dielectric 24.例文帳に追加

平坦化された面上に第２の層間絶縁膜２４が形成され、第２の層間絶縁膜２４上に液晶層２５が配されている。 - 特許庁

The second insulating film 4 is formed on the first interlayer insulating film 6.例文帳に追加

第２絶縁膜４は、第１層間絶縁膜６上に設けられる。 - 特許庁

The capacitor 10 is embedded in the resin interlayer insulating layer 81 by covering the capacitor 10 and the resin interlayer insulating layer 81 in the cured state with the upper layer side resin interlayer insulating layer, in the built-in process.例文帳に追加

内蔵工程では、コンデンサ１０上及び硬化状態の樹脂層間絶縁層８１上に上層側の樹脂層間絶縁層を被覆することにより、コンデンサ１０を樹脂層間絶縁層８１内に埋め込む。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ACRYLIC COPOLYMER RESIN FOR INTERLAYER INSULATING FILM FOR TFT-LCD, INTERLAYER INSULATING FILM AND LCD USING IT例文帳に追加

ＴＦＴ−ＬＣＤ用の層間絶縁膜用アクリル系共重合体樹脂の製造方法、これを利用した層間絶縁膜及びＬＣＤ - 特許庁

Subsequently, the surface of the interlayer insulation film 4a is polished using a CMP method until the interlayer insulation film 4 remaining on the metal wiring 3 has a predetermined thickness thus planarizing the surface of the interlayer insulation film 4a.例文帳に追加

その後、ＣＭＰ法を用いて、金属配線３上の層間絶縁膜４ａの残膜が所定の膜厚になるまで層間絶縁膜４の表面を研磨して、層間絶縁膜４ａの表面を平坦化する。 - 特許庁

To provide a laminated tube excellent in chemical liquid impermeability, interlayer adhesion, and particularly, durability of interlayer adhesion under the high-temperature atmosphere.例文帳に追加

薬液透過防止性、層間接着性、特に、高温雰囲気下における層間接着強度の耐久性に優れた積層チューブを提供する。 - 特許庁

A plurality of pillar-shaped interlayer insulation films 13a in a hexagonal plane shape are gathered to form a third interlayer insulation film 13.例文帳に追加

第３層間絶縁膜１３は、平面形状が六角形である複数の柱状層間絶縁膜１３ａが集合して構成されている。 - 特許庁

A Ti film 18 is then formed on the SiO_2 interlayer film 13.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_２層間膜１３上にＴｉ膜１８を形成する。 - 特許庁