「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The gate electrode 6 is covered with an interlayer insulation film 7 and an Al source electrode 101 stretches to over the interlayer insulation film 7.例文帳に追加

ゲート電極６上は層間絶縁膜７によって覆われており、Ａｌのソース電極１０１は、層間絶縁膜７上に延在する。 - 特許庁

LIGHT CONTROL SHEET, LIGHT CONTROLLER, INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS AND LAMINATED GLASS例文帳に追加

調光シート、調光体、合わせガラス用中間膜及び合わせガラス - 特許庁

NEW SILOXANE-BASED RESIN AND SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATING FILM USING THE SAME例文帳に追加

新規のシロキサン樹脂及びこれを用いた半導体層間絶縁膜 - 特許庁

An interlayer insulation film 22 is formed, while the polysilicon layer 10 is covered, and a polysilicon layer 11 is formed on the interlayer insulation film 22.例文帳に追加

ポリシリコン層１０を覆って層間絶縁膜２２が形成されており、層間絶縁膜２２上にポリシリコン層１１が形成されている。 - 特許庁

MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD AND INTERLAYER JOINING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

多層プリント配線板および多層プリント配線板の層間接合方法 - 特許庁

INTERLAYER CONNECTION STRUCTURE, MULTILAYER WIRING BOARD, AND THEIR FORMING METHOD例文帳に追加

層間接続構造体、多層配線基板およびそれらの形成方法 - 特許庁

To provide a polyester film for use as an interlayer for a laminated glass and is capable of improving the appearance of the laminated glass having the polyester film as an interlayer.例文帳に追加

ポリエステルフィルムを中間層として有する合わせガラスの外観性を向上させる合わせガラス中間膜用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To prevent breakage of a sealant by interlayer peeling within a bonding hole.例文帳に追加

ボンディングホール内での封止材の層間剥離による破損を防止する。 - 特許庁

Aluminium electrodes 17 are formed between the interlayer insulating films 18.例文帳に追加

層間絶縁膜１８間には、アルミニウム電極１７が形成されている。 - 特許庁

LIGHT CONTROLLER, LIGHT CONTROL SHEET, INTERLAYER FILM FOR LAMINATED GLASS AND LAMINATED GLASS例文帳に追加

調光体、調光シート、合わせガラス用中間膜及び合わせガラス - 特許庁

Finally, an interconnect layer 120 is formed on the interlayer insulating film 116.例文帳に追加

その後、層間絶縁膜１１６上に配線層１２０を形成する。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ITS USE FOR INTERLAYER DIELECTRIC例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物およびその層間絶縁膜への使用 - 特許庁

The interlayer insulating film 20 is provided on the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体基板１０上には、層間絶縁膜２０が設けられている。 - 特許庁

In the semiconductor device, a capacitor 37 is provided on an interlayer insulating film 26 in a memory cell region AreaA, and an interlayer dielectric 30 is provided on the interlayer dielectric 30 in a peripheral circuit region AreaB.例文帳に追加

本発明の半導体装置では、メモリセル領域AreaAにおける層間絶縁膜２６の上にキャパシタ３７が設けられ、周辺回路領域AreaBにおける層間絶縁膜３０の上に層間絶縁膜３０が設けられている。 - 特許庁

Then, after a second interlayer insulating film 60 is formed on the first interlayer insulating film of the first structure so as to embed the ferroelectric capacitor, a second opening 52 is provided in the second interlayer insulating film by etching.例文帳に追加

次に、第１構造体の第１層間絶縁膜上に、強誘電体キャパシタを埋め込むように、第２層間絶縁膜６０を形成した後、エッチングにより第２層間絶縁膜に第２開口部５２を設ける。 - 特許庁

A third interlayer film 17 and a Cu wiring 24 protruding over a third interlayer film 17 are coated with a coating layer 31.例文帳に追加

第３層間膜１７およびこの第３層間膜１７上に突出するＣｕ配線２４は、被覆層３１によって被覆されている。 - 特許庁

An interlayer insulation film 5 is so formed as to cover the undermetal 3.例文帳に追加

アンダーメタル３を覆うように層間絶縁膜５が形成されている。 - 特許庁

A semiconductor device includes first wiring, a first interlayer insulating film for covering the first wiring, a second interlayer insulating film abutting on one portion of an area on the first interlayer insulating film, and second wiring on the first interlayer insulating film and the second interlayer insulation film on an insulating surface, and also includes the stacked first and second interlayer insulating films at a region where the first wiring overlaps with the second wiring.例文帳に追加

絶縁表面上に第１配線と、前記第１配線を覆う第１層間絶縁膜と、前記第１層間絶縁膜上の一部に接して第２層間絶縁膜と、前記第１層間絶縁膜及び前記第２層間絶縁膜上に第２配線とを有し、前記第１配線と前記第２配線とが重なっている領域には、前記第１層間絶縁膜と前記第２層間絶縁膜とが積層された半導体装置である。 - 特許庁

A second interlayer insulating film 107 is divided into a second interlayer insulating film A 107a having a fast wet etching rate, and a second interlayer insulating film B 107B having a usual wet etching rate to positively utilize transversal etching at an interface with a first interlayer insulating film 106 thereby avoiding formation of a wedge-shaped step difference at the interface of the interlayer insulating films and preventing disconnection of electrode wiring.例文帳に追加

第２層間絶縁膜１０７をウエットエッチングレートの早い第２層間絶縁膜Ａ１０７Ａと通常の第２層間絶縁膜Ｂ１０７Ｂに分けることにより、第１層間絶縁膜１０６との界面での横方向のエッチングを積極的に利用し、層間絶縁膜界面でのくさび状の段差ができないようにし電極の断線を防ぐ。 - 特許庁

This MOSFET is provided with gate electrodes 12, the first interlayer insulating film 14 formed covering the gate electrodes 12, a bit line 16 formed on the first interlayer insulating film 14, the second interlayer insulating film 18 formed on the bit line 16, and the first interlayer insulating film 14 as well as a capacity element 20 formed on the second interlayer insulating film 18.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴは、基板上１１に形成されたゲート電極１２と、ゲート電極を覆うように成膜された第１の層間絶縁膜１４と、第１の層間絶縁膜上に形成されてビッド線１６と、ビッド線上及び第１の層間絶縁膜上に成膜された第２の層間絶縁膜１８と、第２の層間絶縁膜上に形成された容量素子２０とを備えている。 - 特許庁

REINFORCED IN INTERLAYER DIRECTION INORGANIC FIBER BONDED CERAMICS AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

層間方向強化型無機繊維結合セラミックス及びその製造方法 - 特許庁

APPARATUS FOR SEPARATING AND COLLECTING GLASS AND INTERLAYER RESIN MEMBRANE OF LAMINATED GLASS OR THE LIKE例文帳に追加

合せガラスなどの中間樹脂膜とガラスを分離して回収する装置 - 特許庁

An uppermost surface ISF of the first interlayer insulation film II4 is flattened.例文帳に追加

第１の層間絶縁膜ＩＩ４の最上面ＩＳＦが平坦化される。 - 特許庁

An interlayer insulating film 127 and an ITO film are formed over a whole face.例文帳に追加

その後、全面に層間絶縁膜１２７及びＩＴＯ膜を形成する。 - 特許庁

An interlayer insulation 4 is formed thereon to form a contact plug 6.例文帳に追加

この上部に層間絶縁膜４を形成してコンタクトプラグ６を形成する。 - 特許庁

To enhance heat resistance of an interlayer insulation film comprising an organic SOG film.例文帳に追加

有機ＳＯＧ膜よりなる層間絶縁膜の耐熱性を向上させる。 - 特許庁

On a lower layer wiring 5, a second interlayer insulating film 8 is laminated.例文帳に追加

下層配線５上には、第２層間絶縁膜８が積層されている。 - 特許庁

An n-th wiring layer 12 is made on the interlayer film layer 24.例文帳に追加

層間膜層２４の上層に第Ｎ層の配線層１２を形成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATING FILM AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL例文帳に追加

層間絶縁膜用感光性樹脂組成物および感光性転写材料 - 特許庁

An interlayer insulating film 21 is formed to cover the memory part 20.例文帳に追加

メモリ部２０上を覆うように層間絶縁膜２１が形成されている。 - 特許庁

An interlayer insulating film with a contact hole is provided on the substrate.例文帳に追加

前記基板上にコンタクトホールを有する層間絶縁膜が提供される。 - 特許庁

A first interlayer film (41) is formed on a second light-shielding film (11).例文帳に追加

第１層間膜（４１）は、第２遮光膜（１１）上に形成されている。 - 特許庁

THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER ADHESIVE FILM FOR PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

熱硬化性樹脂組成物およびプリント配線板用層間接着フィルム - 特許庁

An interlayer insulating film 20 is formed on a semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体基板１０上には、層間絶縁膜２０が形成されている。 - 特許庁

To provide an interlayer insulation material for use in producing a multilayer printed wiring board.例文帳に追加

多層プリント配線板製造用の層間絶縁材料を提供する。 - 特許庁

A pixel electrode is formed on the upper side of the interlayer insulating film 11.例文帳に追加

層間絶縁膜１１の上側に形成された画素電極を備える。 - 特許庁

INTERLAYER FILM FOR DECORATIVE LAMINATED GLASS AND DECORATIVE LAMINATED GLASS USING THE SAME例文帳に追加

装飾合わせガラス用中間膜及びそれを用いた装飾合わせガラス - 特許庁

To reduce interlayer crosstalk noise due to reflected rays of light from adjacent layers.例文帳に追加

隣接層からの反射光による層間クロストークノイズによるＳ/Ｎ低下。 - 特許庁

To easily carry out an electric interlayer connection by using a conductive ball.例文帳に追加

導電性ボールを用いることで容易に電気的な層間接続を行う。 - 特許庁

By removing the etching-stop film, a second interlayer insulating film 116 is formed.例文帳に追加

エッチング停止膜を除去し、第２の層間絶縁膜１１６を形成する。 - 特許庁

Then, an interlayer insulating film 32 is deposited via a silicon nitride film 31.例文帳に追加

次いで、シリコン窒化膜３１を介して層間絶縁膜３２を堆積する。 - 特許庁

METHOD OF IMPROVING SURFACE PROPERTY OF INTERLAYER INSULATION FILM AND APPARATUS FOR IMPROVING SURFACE PROPERTY例文帳に追加

層間絶縁膜の表面改質方法及び表面改質装置 - 特許庁

An interlayer insulating film 21 is formed to cover the top of the memory 20.例文帳に追加

メモリ部２０上を覆うように層間絶縁膜２１が形成されている。 - 特許庁

The interlayer insulation film is deposited on the wiring layer patterned in this manner.例文帳に追加

このようにパターニングした配線層の上に層間絶縁膜を堆積する。 - 特許庁

An antireflection film 14 is formed on the upper part of an interlayer insulating film 12.例文帳に追加

層間絶縁膜１２の上部に反射防止膜１４を成膜する。 - 特許庁