「Metrology」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD AND SYSTEM FOR PERPENDICULAR MAGNETIC MEDIA METROLOGY例文帳に追加

垂直磁気媒体計測の方法とシステム - 特許庁

LATERAL AND LONGITUDINAL METROLOGY SYSTEM例文帳に追加

横方向及び長手方向の計測学システム - 特許庁

INLINE METROLOGY FOR SUPERCRITICAL FLUID TREATMENT例文帳に追加

超臨界流体処理のためのインラインメトロロジー - 特許庁

METROLOGY TOOL, SYSTEM HAVING LITHOGRAPHY APPARATUS AND THE METROLOGY TOOL, AND METHOD OF DETERMINING PARAMETER OF SUBSTRATE例文帳に追加

メトロロジーツール、リソグラフィ装置およびメトロロジーツールを備えるシステム、および、基板のパラメータを決定する方法 - 特許庁

METROLOGY PROCESS FOR ENHANCING IMAGE CONTRAST例文帳に追加

画像のコントラストを向上させるための計測プロセス - 特許庁

federal government is responsible for unity of legal metrology 例文帳に追加

州政府は法定計量単位に対して責任がある - 経済産業省

METHOD AND APPARATUS IN WHICH METROLOGY PROCESS AND ETCHING PROCESS ARE INTEGRATED例文帳に追加

計測法とエッチング処理を統合する方法及び装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING SUBSTRATE FOR USE IN CALIBRATING METROLOGY TOOL, CALIBRATION SUBSTRATE, AND METROLOGY TOOL CALIBRATION METHOD例文帳に追加

計測ツールのキャリブレーションに使用する基板を形成する方法、キャリブレーション基板および計測ツールをキャリブレーションする方法 - 特許庁

LITHOGRAPHY APPARATUS, METROLOGY DEVICE, AND METHOD OF USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィ装置、メトロロジー装置及び当該装置の使用方法 - 特許庁

To provide a dual-phase virtual metrology method for providing dual-phase metrology values with promptness and accuracy.例文帳に追加

２段階の仮想測定値を取得するとともに迅速性および正確性を兼備えた２段階仮想測定方法を提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS, DRYING DEVICE, METROLOGY APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

リソグラフィ装置、乾燥デバイス、メトロロジー装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

DEVICE MANUFACTURING METHOD USING LITHOGRAPHY APPARATUS AND METROLOGY SYSTEM例文帳に追加

リソグラフィ装置及びメトロロジ・システムを使用するデバイス製造方法 - 特許庁

This method is constituted for forming a substrate for use in calibrating the metrology tool in order to compensate for orientation-dependent variations within the metrology tool.例文帳に追加

計測ツール内の方向に依存する変動を補償するために、計測ツールの較正に使用する基板を形成する方法。 - 特許庁

PTB is responsible for units, traceability of measurements (DKD), approvals in the field of legal metrology, national unity in the field of legal metrology, improvement of international unity in metrology (and many other services) 例文帳に追加

PTBは，単位，計量トレーサビリティ（DKD），法定計量分野における承認，法定計量分野での国内統一，計量の国際統一の向上（及びその他多くのサービス）に対して責任をもつ - 経済産業省

A diffraction signal measured using an optical metrology tool is displayed.例文帳に追加

光計測ツールを用いて計測された回折信号が表示される。 - 特許庁

The system for inspecting a patterned structure formed on a semiconductor wafer using an optical metrology model comprises a first manufacturing cluster, a metrology cluster, an optical metrology model optimizing device, and a real-time profile estimating device.例文帳に追加

光計測モデルを用いて半導体ウエハ上に形成されたパターニングされた構造を検査するシステムは、第１製造クラスタ、計測クラスタ、光計測モデル最適化装置、及びリアルタイムプロファイル推定装置を有する。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS HAVING FEED FORWARD PRESSURE PULSE COMPENSATION FOR METROLOGY FRAME例文帳に追加

メトロロジーフレーム用のフィードフォワード圧力パルス補償を有するリソグラフィ装置 - 特許庁

The polishing pad having a metrology window comprises a first layer and a second layer.例文帳に追加

計測用窓を有する研磨パッドは、第１層および第２層を備える。 - 特許庁

System of legal metrology has a long tradition in Germany more then 100 years 例文帳に追加

法定計量システムは，ドイツでは100年以上の長い伝統をもっている - 経済産業省

ADVANCED PROCESS CONTROL SYSTEM AND METHOD USING VIRTUAL METROLOGY WITH RELIANCE INDEX例文帳に追加

高度プロセス制御システム及び信頼指数を有する仮想測定による方法 - 特許庁

An APC system comprises a process tool 100, a metrology tool 110, a virtual metrology (VM) module 120, a reliance index (RI) module 122, and an R2R controller 130.例文帳に追加

ＡＰＣシステムは、工程ツール１００と、測定ツール１１０と、仮想測定（ＶＭ）モジュール１２０と、信頼指数（ＲＩ）モジュール１２２と、Ｒ２Ｒコントローラ１３０とを備える。 - 特許庁

The present methods include lens metrology methods, lens design methods, and lens manufacturing methods.例文帳に追加

本方法は、レンズ計測方法、レンズ設計方法、及び、レンズ製造方法を含む。 - 特許庁

To provide an optical metrology system for scanning an object (106) having a shiny surface.例文帳に追加

光沢面を有する物体（１０６）を走査するための光学計測システムを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad having a window that does not cause an attenuation of a metrology signal.例文帳に追加

計測信号の減衰が引き起こされない窓を有する研磨パッドを提供すること。 - 特許庁

The APC system acquires multiple sets of history process data for processing multiple history workpieces, to be used for the process tool, and uses the metrology tool to acquire multiple history metrology data of history workpieces.例文帳に追加

工程ツールに使用される、複数の履歴ワークを処理するための複数組の履歴工程データを取得し、測定ツールによって履歴ワークの複数の履歴測定データを取得する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for high precision metrology of a superimposed overlay pattern.例文帳に追加

重畳されたオーバレイパターンの高精度な計測のための装置および方法を提供する。 - 特許庁

A method of processing a substrate and of carrying out the metrology measurement by using this apparatus is also disclosed.例文帳に追加

また、基板を処理し、この装置を用いて計測測定を実行する方法も開示されている。 - 特許庁

PTB is the federal institute for metrology in Germany belonging to the Federal Ministry for Economics and Labour 例文帳に追加

PTBは，連邦経済労働省に属するドイツにおける法定計量の連邦機関である - 経済産業省

The apparatus includes a multi-chamber system 100 having: a transfer chamber 105; etching chambers; a metrology chamber 110; and a robot 140 which is so constituted that it transfers a substrate between the etching chambers and the metrology chamber.例文帳に追加

装置は、移送チャンバ１０５と、エッチングチャンバと、計測チャンバ１１０と、エッチングチャンバと計測チャンバとの間で基板を移送するように構成されたロボット１４０とを有するマルチチャンバシステム１００を備える。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING ASYMMETRY IN SCATTEROMETER, METHOD OF MEASURING OVERLAY ERROR IN SUBSTRATE AND METROLOGY APPARATUS例文帳に追加

スキャトロメータの非対称性を測定する方法、基板のオーバレイエラーを測定する方法および計測装置 - 特許庁

To provide a high-speed metrology tool for measuring a parameter of a substrate, where a pattern is provided in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板のパラメータを測定する高速メトロロジーツールを提供する。 - 特許庁

To provide a high-speed metrology tool for measuring the parameter of a substrate patterned in a lithography apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板のパラメータを測定するための高速メトロロジーツールを提供する。 - 特許庁

A lithography apparatus includes a projection system, a fluid handling structure, a metrology device, and a recycle control device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は投影システム、流体取扱い構造、メトロロジーデバイス、及びリサイクル制御デバイスを含む。 - 特許庁

The thermal measurement system, metrology system having the thermal measurement system, and a dummy wafer for the thermal measurement system are also disclosed.例文帳に追加

熱測定システム、熱測定システムを備えるメトロロジーシステム、及び熱測定システムのダミーウェーハも開示される。 - 特許庁

The metrology tool is configured to measure a parameter of a substrate 9 where a pattern is provided in a lithography apparatus.例文帳に追加

メトロロジーツールは、リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板９のパラメータを測定するように構成されている。 - 特許庁

To provide a technology capable of further easily compensating for an orientation-dependent offset within a metrology tool.例文帳に追加

計測ツール内で方向に依存するオフセットをより簡単に補償することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide design driven inspection/metrology methods and apparatus in semiconductor wafer defect inspection or measurement.例文帳に追加

半導体ウエーハ欠陥検査又は測定における設計主導型の検査/測定方法および装置を提供する。 - 特許庁

PTB will maintain core competence and care about organisation work in legal metrology issues 例文帳に追加

PTBは中心的核となる能力を維持し，法定計量問題の組織的業務に注意を払う予定である - 経済産業省

To provide a method for monitoring a wear condition of a piston ring subject to less requirements in view of metrology.例文帳に追加

計測学的な面から要求が少ない、ピストン・リングの磨耗状態を監視できる、方法を提供すること。 - 特許庁

The system uses the sets of history process data and history metrology values to build an estimation model based on an estimation algorithm, and uses the sets of history process data and the corresponding multiple sets of history metrology values to build a reference model.例文帳に追加

複数組の履歴工程データ及び履歴測定値を用いることによって、推定アルゴリズムに基づいて推定モデルを構築し、複数組の履歴工程データとそれらに対応する複数組の履歴測定値を用いて、参照モデルを構築する。 - 特許庁

The satellite metrology system for satellite formation flight comprises at least one reference satellite SR and one secondary satellite SS.例文帳に追加

本発明は少なくとも一つの基準衛星（ＳＲ）及び一つの第二の衛星（ＳＳ）を備えた人工衛星編隊飛行用の衛星計測学システムに関する。 - 特許庁

To use a profile model for accurately characterizing the structure in order to accurately determine the profile of the structure using optical metrology.例文帳に追加

光計測を用いてその構造のプロファイルを正確に決定するため、その構造を正確に特徴づけるプロファイルモデルが用いられなければならない。 - 特許庁

Increased requirement of compulsory certification by means of cooperation among INMETRO (National Institute of Metrology Quality and Technology), SECEX (Secretariat of Foreign Trade), and RFB/MF例文帳に追加

Inmetro（国家工業度量衡・品質規格院）、Secex（開発商工省通商局）、連邦州税局の協力を通じた安全基準認証の強化。 - 経済産業省

To improve stability of a device for manipulation and routing of a metrology beam in order to improve metrological accuracy of an interferometer system in a lithographic projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置において、干渉計システムの測定精度を向上するために、計測ビームの操作および方向付けを行うデバイスの安定性を改善すること。 - 特許庁

In addition to alignment data, metrology data may be obtained by performing overlay measurement on a plurality of overlay marks on the number of substrates.例文帳に追加

アライメント・データの他に、前記多数の基板上の複数のオーバレイ・マークに対するオーバレイ測定を実行することによって度量衡学データを取得することができる。 - 特許庁