「N2O」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Emissions data for CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, SF6 in tonnes of CO2 equivalent 例文帳に追加

CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, SF6 に関するCO2 換算排出量 - 経済産業省

g N2O emitted per square meter of area 例文帳に追加

面積1 平方メートル当りの排出N2O（グラム） - 経済産業省

Emissions data for CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, SF6 in tonnes of CO2 equivalent 例文帳に追加

CO2、CH4、N2O、HFC類、PFC類、SF6のCO2換算排出量 - 経済産業省

REMOVING METHOD OF N2O IN EXHAUST GAS例文帳に追加

排ガス中のＮ２Ｏ除去方法 - 特許庁

COMBUSTION DEVICE FOR SUPPRESSING N2O EMISSION AND METHOD OF SUPPRESSING N2O EMISSION例文帳に追加

Ｎ２Ｏ排出抑制燃焼装置とＮ２Ｏ排出抑制方法 - 特許庁

CATALYST FOR DECOMPOSITION OF N2O IN OSTWALD METHOD例文帳に追加

オストワルド法の際のＮ２Ｏ分解のための触媒 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DECOMPOSING N2O GAS例文帳に追加

Ｎ２Ｏガスの分解方法および分解装置 - 特許庁

THERMAL DECOMPOSITION METHOD AND THERMAL DECOMPOSITION APPARATUS FOR N2O例文帳に追加

Ｎ２Ｏの熱分解方法および熱分解装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR TREATMENT OF EXHAUST GAS CONTAINING N2O例文帳に追加

Ｎ２Ｏ含有排ガスの処理方法およびその装置 - 特許庁

METHOD OF SUPPRESSING PRODUCTION OF N2O IN COMPOSTING例文帳に追加

堆肥化におけるＮ２Ｏ発生の抑制方法 - 特許庁

Companies shall account for scope 3 emissions of CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, and SF6, if they are emitted in the value chain. 例文帳に追加

事業者は、CO2、CH4、N2O、HFCs、PFCs およびSF6のスコープ3 排出に関し、それらがバリューチェーン内で排出される場合には算定しなければならない。 - 経済産業省

Emissions of N2O due to application of nitrogen fertilizers are based on a linear modeling of interactions of the fertilizer with the soil and plant systems. 例文帳に追加

窒素肥料の使用によるN2O の排出量は、肥料と土壌・植物体系の相互作用のリニアモデルに基づいている。 - 経済産業省

METHOD OF CONTROLLING EMISSION OF N2O AND NOX FROM COMBUSTION EQUIPMENT例文帳に追加

燃焼装置におけるＮ２Ｏ及びＮＯＸの排出抑制方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING O2 AND N2O IN GAS MIXTURE例文帳に追加

ガス混合物中のＯ２及びＮ２Ｏを測定する方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING N2O CONTAINED IN EXHAUST GAS FROM SEWAGE SLUDGE INCINERATOR例文帳に追加

下水汚泥焼却炉の排ガス中のＮ２Ｏ除去方法 - 特許庁

WET ORDINARY TEMPERATURE TREATMENT SYSTEM AND WET ORDINARY TEMPERATURE TREATMENT METHOD FOR N2O例文帳に追加

Ｎ２Ｏの湿式常温処理システムおよび湿式常温処理方法 - 特許庁

An oxide layer is grown on the semiconductor using N2O as an oxidizer by adding hydrogen as needed.例文帳に追加

酸化剤としてＮ_2Ｏを用い、場合により水素を添加して半導体の上に酸化物層を成長させる。 - 特許庁

METHOD FOR REFINING CRYOGENIC FLUID CONTAINING IMPURITIES OF N2O, CnHm AND/OR NOx例文帳に追加

Ｎ２Ｏ，ＣｎＨｍ及び／又はＮＯｘ不純物を含む極低温の流体を精製する方法 - 特許庁

The material-gas supplying system 40 includes each gas source 41, 42 of N2O gas and He gas.例文帳に追加

原料ガス供給系４０は、Ｎ_2Ｏガス及びＨｅガスの各ガス源４１，４２を有している。 - 特許庁

The characteristics of the silicon film are controlled by chiefly changing the flow rates of the N2O and the H2.例文帳に追加

酸化窒化シリコン膜の特性は主にＮ_2ＯとＨ_2の流量を変化させて制御する。 - 特許庁

At the time of introducing the N2O gas, the gas is preheated by heating a heating chamber 51 installed in the introducing path of the N2O gas by means of a heater element 53.例文帳に追加

この際Ｎ2Ｏガスの導入路に加熱室５１を設け、この加熱室５１をヒータエレメント５３により加熱し、ここにＮ2Ｏガスを通気して当該ガスを予備加熱し、このように予備加熱されたＮ2Ｏガスを反応管２に導入する。 - 特許庁

Data shall be collected for the following GHGs: carbon dioxide (CO2), methane (CH4), nitrous oxide (N2O), sulfur hexafluoride (SF6), perfluorocarbons (PFCs), and hydrofluorocarbons (HFCs). 例文帳に追加

データは6種類のGHG、すなわち二酸化炭素（CO2）、メタン（CH4）、亜酸化窒素（N2O）、六フッ化硫黄（SF6）、パーフルオロカーボン（PFCs）、ハイドロフルオロカーボン（HFCs）について収集されなければならない。 - 経済産業省

Companies shall account for scope 3 emissions of carbon dioxide (CO2), methane (CH4), nitrous oxide (N2O), hydrofluorocarbons (HFCs), perfluorocarbons (PFCs), and sulphur hexafluoride (SF6), if they are emitted in the value chain. 例文帳に追加

事業者は、二酸化炭素（CO2）、メタン（CH4）、亜酸化窒素（N2O）、ハイドロフルオロカーボン（HFCs）、パーフルオロカーボン（PFCs）および六フッ化硫黄（SF6）に関し、これらがバリューチェーン内から排出される場合には、スコープ3 排出量を算定しなければならない。 - 経済産業省

5 Suppliers' scope 1 and scope 2 emissions data should include emissions of CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, and SF6, and may be aggregated to units of carbon dioxide equivalent rather than separately reported by individual greenhouse gas. 例文帳に追加

サプライヤーのスコープ1 とスコープ2 の排出データは、CO2、CH4、N2O、HFCs、PFCs およびSF6の排出を含み、温室効果ガスそれぞれを別々に報告するのでなく、CO2e の単位に合算することができる。 - 経済産業省

For each scope 3 category, total emissions of GHGs (CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, and SF6) reported in metric tons of CO2 equivalent, excluding biogenic CO2 emissions and independent of any GHG trades, such as purchases, sales, or transfers of offsets or allowances 例文帳に追加

スコープ3 の各カテゴリについて、有機的CO2排出量ならびに購入、販売、オフセットまたは排出枠の移転などGHG 取引と関係ないものを除く、CO2e（メータートン）で報告された温室効果ガス（CO2、CH4、N2O、HFCs、PFCs およびSF6）の総排出量 - 経済産業省

Companies are required to include emissions of each of the 6 required reenhouse gases (i.e., CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, and SF6) in the reported scope 3 missions data, but are not required to separately report scope 3 emissions by individual gas. 例文帳に追加

事業者は、規定の6 種類の温室効果ガス（CO2、CH4、N2O、HFCs、PFCs およびSF6）それぞれの排出量を報告するスコープ3 排出量に含めなければならないが、温室効果ガスそれぞれについてスコープ3 排出量を報告する必要はない。 - 経済産業省

For the purposes of this standard, GHGs are the six gases covered by the UNFCCC: carbon dioxide (CO2); methane (CH4); nitrous oxide (N2O); hydrofluorocarbons (HFCs); perfluorocarbons (PFCs); and sulphur hexafluoride (SF6). 例文帳に追加

本基準においてGHG は国連気候変動枠組条約（UNFCCC）に定める6 種のガス（二酸化炭素（CO2）、メタン（CH4）、亜酸化窒素（N2O）、ハイドロフルオロカーボン（HFCs）、パーフルオロカーボン（PFCs）および六フッ化硫黄（SF6）をいう。 - 経済産業省

Companies shall account for carbon dioxide (CO2), methane (CH4), nitrous oxide (N2O), sulfur hexafluoride (SF6), perfluorocarbons (PFCs), and hydrofluorocarbons (HFCs) emissions to, and removals from, the atmosphere 例文帳に追加

事業者は、二酸化炭素（CO2）、メタン（CH4）、亜酸化窒素（N2O）、六フッ化硫黄（SF6）、パーフルオロカーボン（PFCs）及びハイドロフルオロカーボン（HFCs）について、大気への排出量及び大気からの吸収量を算定しなければならない。 - 経済産業省

METHOD OF ESTIMATING AMOUNT OF N2O GENERATED IN AMMONIA OXIDATION CATALYST AND EXHAUST EMISSION CONTROL SYSTEM OF INTERNAL COMBUSTION ENGINE例文帳に追加

アンモニア酸化触媒におけるＮ２Ｏ生成量推定方法および内燃機関の排気浄化システム - 特許庁

The gas mixing part 11 mixes reaction gas 6 (SiH4 gas, N2O gas) for forming an SiON film with inert gas (N2 gas).例文帳に追加

ガス混合部１１は、ＳｉＯＮ膜を形成するための反応ガス（ＳｉＨ４ガス、Ｎ２Ｏガス）と不活性ガス（Ｎ２ガス）とを混合する手段である。 - 特許庁

Thereby, a plasma is produced, the N2O gas is excited or dissociated, and a reactive gas X including the nitrogen active species and oxygen active species is produced.例文帳に追加

これにより、プラズマが形成されてＮ_2Ｏガスが励起叉は解離され、窒素活性種及び酸素活性種を含む反応ガスＸが生成される。 - 特許庁

In addition, an orifice 6 is formed in the introducing path of the N2O gas between the heating chamber 51 and reaction tube 2.例文帳に追加

また加熱室５１と反応管２との間の前記Ｎ2Ｏガスの導入路にオリフィス６を形成する。 - 特許庁

It is found out that a CaX type adsorbent removes N2O and hydrocarbons in the third bed.例文帳に追加

ＣａＸタイプの吸着剤が第三の層においてＮ_2Ｏと炭化水素類を除去することが見いだされた。 - 特許庁

Before forming the oxynitride silicon film 3, pretreatment with plasma is done by using nitrous oxide (N2O) gas, which is a source gas of the oxynitride silicon film.例文帳に追加

酸化窒化珪素膜３を成膜する前に、酸化窒化珪素膜のソースガスである亜酸化窒素（N_2O）ガスを用いてプラズマ前処理した。 - 特許庁

Moreover, by increasing the flow rate of the N2O, the hydrogen concentration and the nitrogen concentration in the oxynitride silicon film are decreased and the oxygen concentration in the silicon film can be increased.例文帳に追加

また、Ｎ_2Ｏの流量の増加により膜中の水素濃度と窒素濃度が減少し酸素濃度を高くすることができる。 - 特許庁

This method for stabilizing difluoromethylenebishypofluorite CF2(OF)2 comprises mixing CF2(OF)2 with ≥65 vol.% of COF2 or CF3OOCF3, or ≥85 vol.% of Ar, He, O2 or N2O.例文帳に追加

ＣＦ_2（ＯＦ）_2に、ＣＯＦ_2またはＣＦ_3ＯＯＣＦ_3を６５ｖｏｌ％以上、あるいは、Ａｒ、Ｈｅ、Ｏ_2またはＮ_2Ｏを８５ｖｏｌ％以上混合する。 - 特許庁

To provide an industrially advantageous method without emitting harmful substances such as N2O, NOX, etc., in a method for producing adipic acid and an aromatic carboxylic acid.例文帳に追加

アジピン酸や芳香族カルボン酸の製造において、Ｎ_2 Ｏ、ＮＯｘ等の有害物質を発生せず、工業的に有利な製造法を提供する。 - 特許庁

The base film can be formed by the flow rate change of H2 and N2O and hence it can be formed in the same chamber, thus improving the productivity.例文帳に追加

また、上記下地膜はH_2、N_2O流量変化で成膜可能であることから同一チャンバーで形成することができ、それによって生産性が向上する。 - 特許庁

The heat- treatment is performed under the conditions that the partial pressure of O2 gas with respect to O2 atmosphere or partial pressure of N2O gas with respect to N2O atmosphere is 250 Torrs or higher, the temperature is in the range of 350-450°C, and the heat-treatment time is in the range of 60-300 seconds.例文帳に追加

ウエハの熱処理は、Ｏ__2 雰囲気中のＯ_2 ガスの分圧、又はＮ_2 Ｏ雰囲気中のＮ_2 Ｏガスの分圧が２５０Torr以上で、３５０℃以上４５０℃以下の範囲の温度で、かつ６０秒以上３００秒以下の範囲の熱処理時間で行う。 - 特許庁

The oxygen concentration and N2O concentration in the gas in the catalyst column 12 are respectively measured by measuring instruments 21 and 22 and the oxygen concentration in the gas to be introduced into the catalyst column 12 is regulated by a control valve 17 in such a manner that the oxygen concentration and the N2O concentration attain prescribed ranges.例文帳に追加

触媒塔１２内のガス中の酸素濃度とＮ_２Ｏ濃度をそれぞれ計測器２１、２２で測定し、酸素濃度とＮ_２Ｏ濃度が所定の範囲になるように触媒塔１２に導入されるガス中の酸素濃度を調節弁１７で調整する。 - 特許庁

This standard is designed to account for the emissions generated from corporate value chain activities during the reporting period (usually a period of one year), and covers the six main greenhouse gases: carbon dioxide (CO2), methane (CH4), nitrous oxide (N2O), hydrofluorocarbons (HFCs), perfluorocarbons (PFCs), and sulphur hexafluoride (SF6). 例文帳に追加

本基準は、報告対象期間（通常は1 年間）における事業者のバリューチェーン活動から生ずる排出量を算出するように設計されており、主な6 種のガス（（二酸化炭素（CO2）、メタン（CH4）、亜酸化窒素（N2O）、ハイドロフルオロカーボン（HFCs）、パーフルオロカーボン（PFCs）および六フッ化硫黄（SF6））を対象としている。 - 経済産業省

Petroleum products, natural gas, coal, bio fuels, and crude oil Greenhouse gases and products that contain or form greenhouse gases that are emitted during use CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, SF6, refrigeration and air-conditioning equipment, industrial gases, fire extinguishers, fertilizers Indirect use-phase emissions (Optional) 例文帳に追加

石油製品、天然ガス、石炭、バイオ燃料、原油など使用中に放出される温室効果ガスを含むまたは生成する温室効果ガスおよび製品CO2 、CH4 、N2O、HFCs、PFCs、SF6、冷蔵庫、空調機器、産業用ガス、消火器、肥料間接使用段階排出（任意） - 経済産業省

Emissions of any GHGs other than CO2, CH4, N2O, HFCs, PFCs, and SF6 whose 100-year GWP values have been identified by the IPCC to the extent they are emitted in the company's value chain (e.g., CFCs, HCFCs, NF3, NOX, etc.) and a list of any additional GHGs included in the inventory 例文帳に追加

CO2、CH4、N2O、HFCs、PFCs およびSF6以外の温室効果ガスの排出量であって、事業者のバリューチェーンにおいて排出される程度について、IPCC がその100 年間のGWP値を確認したもの（CFCs。HCFCs、NF3、NOｘなど）およびインベントリに含まれる追加のGHG リスト - 経済産業省

As for the greenhouse gases such as carbon dioxide (CO2), methane (CH4), nitrous oxide (N2O), Fluorocarbons (HFCs, PFCs) and sulfur hexafluoride (SF6), which are the causes of global warming, developed countries agreed to set reduction rates of emissions with respect to the 1990 levels respectively, and collaboratively aim to achieve the target rates within the committed period (see the reduction target). 例文帳に追加

地球温暖化の地球温暖化の原因となる、温室効果ガスの一種である二酸化炭素(CO2)、メタン(CH4)、亜酸化窒素(N2O)、フロン類類(HFCs)、フロン類類(PFCs)、六フッ化硫黄(SF6)について、先進国における削減率を1990年を基準として各国別に定め、共同で約束期間内に目標値（削減目標参照）を達成することが定められた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To realize a semiconductor device having enhanced uniformity in the film thickness and characteristics of a semiconductor substrate by providing a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace in which halogen gas or N2O gas can reach a wafer under thermally decomposed state when thermal oxidation is conducted in an atmosphere containing halogen gas or N2O gas using a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace.例文帳に追加

コールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉を用いてハロゲンガスあるいはＮ_２Ｏガスを含んだ雰囲気で熱酸化を行う際に、ハロゲンガスやＮ_２Ｏガスがウェーハ直上ではなく、事前に加熱分解された状態でウェーハに到達することが可能なコールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉を提供し、半導体基板の膜厚や特性の均一性を向上させた半導体装置を提供する。 - 特許庁