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Pattern Defectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1125件
DEFECT CORRECTION DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
To evaluate defect detection sensitivity in inspection of a defect of a mask pattern.例文帳に追加
マスクパターンの欠陥検査における欠陥検出感度の評価を行う。 - 特許庁
The defect inspection of the design pattern 3 and the defect inspection of the monitor pattern 5 are performed by using the defect inspection apparatus and after the defect of the monitor pattern 5 is confirmed to be detectable by the defect inspection apparatus, the defect of the design pattern 3 detected in the defect inspection is corrected.例文帳に追加
そして、欠陥検査装置を用いて設計パタン3の欠陥検査およびモニタパタン5の欠陥検査を行い、欠陥検査装置によってモニタパタン5の欠陥が検出可能であることを確認した後、欠陥検査において検出された設計パタン3の欠陥を修正する。 - 特許庁
To provide an apparatus for correcting a defect in a pattern, which corrects the defect on a photomask, by applying a pattern correcting material at an adequate size onto the defect in the pattern.例文帳に追加
フォトマスク上の欠陥にパターン修正材料を適切な大きさにて付与して欠陥を修正するパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
DEFECT INSPECTING METHOD FOR METAL FOIL PATTERN ETCHING PRODUCT例文帳に追加
金属箔パターンエッチング製品の欠陥検査方法 - 特許庁
To remove a defect derived from a correction pattern in a defect inspection of a photomask having the correction pattern.例文帳に追加
補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。 - 特許庁
To inspect a defect in a mask pattern with high accuracy and to prevent a defect in an exposure pattern on a wafer.例文帳に追加
マスクパターンの欠陥検査を精度良く行い、ウェハ上の露光パターンに欠陥が生じないようにする。 - 特許庁
REFERENCE DATA GENERATION METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE, PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD, AND REFERENCE DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加
参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム - 特許庁
The defect detection sensitivity is inspected by using a mask for defect inspection having a photomask pattern which includes a basic pattern and a pattern defect comprising a resist pattern at a specified position of the basic pattern.例文帳に追加
基本パターンと、基本パターンの所定の位置に、レジストパターンにより形成されたパターン欠陥とを含むフォトマスクパターンを有する欠陥検査用マスクを用いて、欠陥検出感度検査を行う。 - 特許庁
To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.例文帳に追加
クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.例文帳に追加
基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR PATTERN DEFECT INSPECTION例文帳に追加
パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法 - 特許庁
PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE例文帳に追加
パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置 - 特許庁
PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE AND METHOD例文帳に追加
パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING PATTERN POSITION DEVIATION AND DEFECT INSPECTING APPARATUS例文帳に追加
パターン位置ずれ補正方法及び欠陥検査装置 - 特許庁
DEFECT DETECTING UNIT, DEFECT DETECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
欠陥検出装置及び欠陥検出方法並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁
DEFECT CORRECTION DEVICE AND DEFECT CORRECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
欠陥修正装置及び欠陥修正方法、並びにパターン基板製造方法 - 特許庁
To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加
基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁
PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE AND IMAGE SENSOR CALIBRATION METHOD例文帳に追加
パターン欠陥検査装置及びイメージセンサの校正方法 - 特許庁
PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD AND DEVICE THEREOF例文帳に追加
パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置 - 特許庁
PATTERN DEFECT CORRECTING METHOD AND DEVICE例文帳に追加
パターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置 - 特許庁
The pattern correcting mechanism 2 automatically corrects a pattern defect of a glass substrate.例文帳に追加
パターン修正機構2は、ガラス基板のパターン欠陥を自動的に修正する。 - 特許庁
HARD DISK DRIVE, METHOD FOR DETECTING DEFECT PATTERN ON DISK AND METHOD FOR DETECTING DEFECT例文帳に追加
ハードディスクドライブ,ディスク上の欠陥類型検出方法および欠陥検出方法 - 特許庁
IMAGING CONDITION DETERMINATION METHOD FOR PERIODIC PATTERN, DEFECT INSPECTION METHOD, AND DEFECT INSPECTING DEVICE例文帳に追加
周期性パターンの撮像条件決定方法、欠陥検査方法、および欠陥検査装置 - 特許庁
COLORING COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF COLOR FILTER例文帳に追加
着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁
DEFECT INSPECTION MANAGEMENT SYSTEM AND DEFECT INSPECTION SYSTEM AND APPARATUS OF ELECTRONIC CIRCUIT PATTERN例文帳に追加
電子回路パターンの欠陥検査管理システム,電子回路パターンの欠陥検査システム及び装置 - 特許庁
COLORANT COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT例文帳に追加
着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁
PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD WHICH SUPPRESSES OCCURRENCE OF DEFECT AND DEVELOPING SOLUTION FOR DIMINISHING DEFECT例文帳に追加
ディフェクトの発生を抑えたホトレジストパターンの形成方法およびディフェクト低減用現像液 - 特許庁
METHOD FOR DETERMINING DEFECT OF FINE CONVEX-CONCAVE PATTERN AND METHOD FOR DETERMINING DEFECT OF PATTERNED MEDIA例文帳に追加
微細凹凸パターンの欠陥判定方法、および、パターンドメディアの欠陥判定方法 - 特許庁
To provide a pattern defect classifying and detecting method which can accurately detect a pattern defect and can classify the type of the defect and detect it.例文帳に追加
パターン欠陥を正確に検出できるとともに、その欠陥の種類を分別して検出することができるパターン欠陥分別検出方法を提供する。 - 特許庁
COMMON DEFECT PROCESSING METHOD IN COLOR-FILTER PATTERN INSPECTION MACHINE例文帳に追加
カラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法 - 特許庁
REPETITIVE PATTERN ERASING METHOD, DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE例文帳に追加
繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置 - 特許庁
DEFECT INSPECTING METHOD OF INTEGRATED CIRCUIT PATTERN, AND DEVICE FOR SAME例文帳に追加
集積回路パターンの欠陥検査方法、及びその装置 - 特許庁
CORRECTION DEVICE, AND ELECTRONIC CIRCUIT PATTERN DEFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加
修正装置及び電子回路のパターン欠陥修正方法 - 特許庁
DEFECT CORRECTING METHOD OF ELECTRONIC CIRCUIT PATTERN, AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
電子回路パターンの欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁
IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN TEST DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT TEST METHOD例文帳に追加
画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁
IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD例文帳に追加
画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁
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