「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a stamper having high wear resistance and durability and formed with low defect without damaging a fine groove formed by a resist mask method, when the stamper is formed from a glass master disk wherein a fine pattern is formed by the resist mask method using water soluble resin.例文帳に追加

水溶性樹脂を用いたレジストマスク法によって微細パターンを形成されたガラス原盤からスタンパを作成する場合にレジストマスク法によって形成された微細溝を損なうことなく低欠陥でスタンパ化するとともに、高い耐磨耗性および耐久性を持ったスタンパを提供する。 - 特許庁

To provide the insulating film forming method of a semiconductor device which can improve the reliability of process and the electrical characteristics of element, by minimizing defect generation in the front surface of the insulating film, and by suppressing failures or the like, where a pattern formed on its upper portion becomes thin, or is cut.例文帳に追加

絶縁膜の表面における欠陥発生を最小化し、その上部に形成されるパターンが薄くなり或いは切れる不良などを抑制し、工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な、半導体素子の絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having high operational reliability by forming a metal reflection layer composed of a Cr layer and an Al layer, having a shape of which the pattern dimension of the Al layer is smaller than that of the Cr layer, and preventing a display defect, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

Ｃｒ層、Ａｌ層からなる金属反射層で、Ａｌ層のパターン寸法をＣｒ層のパターン寸法よりが小さい形状の金属反射層を形成して、表示不良を防止し、高い動作信頼性を有する液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and the device capable of distinguishing black stains, non-black stains and tears, without determing pattern as a defect, when performing an inspection of defects, such as stains, tears and defective shape in a sheet-like article that varies widely in color reproducibility (dispersion, color unevenness and/or color fading).例文帳に追加

色の再現性に幅（ばらつき、色ムラおよび／または色あせ）のあるシート状物品における汚れ、破れ、形状不良等の欠陥検査において、模様を欠陥と判定せず、かつ、黒汚れ、非黒よごれおよび破れの判別が可能な検査方法および装置の提供。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying apparatus which does not make to generate a minute defect on the front surface of a coating film by eliminating the ununiformity of the film thickness resulting from a remaining solvent in reduced pressure drying used when a pattern is formed by a photolithography method, and to provide a reduced pressure drying method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によってパターンを形成する際に用いる減圧乾燥において、残留溶剤に起因した膜厚の不均一性を解消し、塗膜の表面に微小欠陥を発生させない減圧乾燥装置、減圧乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

In this surface defect inspection device, the light emitting elements 30 are arranged consecutively to remain a prescribed shape of dark face in an inside, in the lay-out pattern, and arranged to receive the irradiation light of each of the light emitting elements 30 reflected from the inspected face on at least one dark face 31 by the imaging camera 4.例文帳に追加

レイアウトパターンが発光素子３０を内側に所定形状の暗面を残すように連続的に配置させたものであり、少なくとも１つの暗面３１に撮像カメラ４が被検査面から反射される各発光素子３０の照射光を受光するように配置する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度１２００ｄｐｉ以上の高画質記録で、干渉縞模様（モアレ）等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printing plate for offset printing and a method for manufacturing the same, wherein the high-definition printed matter of a pattern size and a rectangular shape is obtained and such a defect that the printed matter of a thick film is hardly obtained is eliminated in an offset printing method including an inversion printing method, a peeling printing method or the like.例文帳に追加

反転印刷法、剥離印刷法等を含むオフセット印刷法において、高精細なパターン寸法及び矩形の印刷物を得ることができ、かつ厚膜の印刷物が得にくいといった欠点を解決するオフセット印刷用印刷版及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist surface modifying liquid and a method for forming a resist pattern using the resist surface modifying liquid used as a surface treatment liquid prior to the post exposure baking (PEB) processing of a resist film to reduce the water repellency of the resist film to thereby restrain the occurrence of a defect.例文帳に追加

レジスト膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、レジスト膜の撥水性を低下させ欠陥の発生を抑制できるレジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The circuit pattern inspection apparatus is configured to display, on a monitor 50, images for detection 522, 523 and 524 in respective chip regions and inspects defect of their circuit patterns by using such displayed images, when it inspects a semiconductor wafer having a plurality of chip regions (dies) whose circuit patterns are identical.例文帳に追加

回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４をモニタ５０に表示し、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

A filter wherein the difference between the brightness detected from a pattern normal part and the brightness detected from a noncritical defect becomes the smallest compared with the case where the filter is not used is selected among a plurality of wavelength selection filters 109 having different wavelength selection ranges, and inserted into an optical path.例文帳に追加

波長選択範囲の異なる複数の波長選択フィルタ１０９の内、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタを用いない場合に比べて、最も小さくなるフィルタを選択して、光路中に挿入する。 - 特許庁

Representatively, the method prepares a first superconductive cable line having no defect in the joint and obtains first correlation of an energization time and temperature increase of the joint when energizing a first direct current continuously having the prescribed energization pattern to the first superconductive cable line.例文帳に追加

代表的には、接続部に欠陥のない第1超電導ケーブル線路を用意し、この第1超電導ケーブル線路に連続的に所定の通電パターンを有する第1直流電流を通電したときの通電時間と接続部の温度上昇との第1相関関係を求める。 - 特許庁

When the retry requirement-judging means 69 judges that a pattern defect exceeding an amount being specified within a region range that is specified in advance exists during inspection, the repeated inspection instruction means 61 automatically inspects a region including the range at least for two times.例文帳に追加

リトライ必要性判定手段６９により、検査中にあらかじめ指定された領域範囲内に指定された量以上のパターン欠陥があると判定した場合に、繰り返し検査命令手段６１によりそこを含む領域に関して、自動的に２回以上繰り返し検査する。 - 特許庁

Besides as the ultraviolet rays of ≤180 nm wavelength hardly pass through a transparent electrically conductive oxide such as ITO, the rays can be used to remove a polyimide alignment layer, with a defect such as defective printing, on a color filter substrate on a dyestuff part surface of which an ITO transparent electrode pattern is formed.例文帳に追加

また、１８０ｎｍ以下の紫外線は、ＩＴＯなどの透明導電酸化物をほとんど透過しないので、色素部の表面にＩＴＯの透明電極パターンが形成されたカラーフィルター基板上の、印刷不良などの欠陥のあるポリイミド配向膜を除去するのに用いることができる。 - 特許庁

To manufacture a magnetic disk medium with few defects by detecting original defects without detecting a groove of a magnetic film and a pattern of unevenness or the like as a defect in an error inspection process of a step for manufacturing the discrete track magnetic disk medium or a bit patterned magnetic disk medium.例文帳に追加

ディスクリートトラック磁気ディスク媒体またはビットパターンド磁気ディスク媒体の製造段階のエラー検査工程において、磁性膜の溝、凹凸などのパターンを欠陥として検出することなく本来の欠陥を検出し、欠陥の少ない磁気ディスク媒体を製造する。 - 特許庁

LINEAR DRIVE DEVICE, VARIABLE SHUTTER DEVICE, BEAM FORMING DEVICE, BEAM IRRADIATION DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法本発明は、直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、及びビーム照射装置、並びにビーム成形装置を用いた欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法に関する。 - 特許庁

To obtain a small-sized, inexpensive and high resolution color image pickup by preventing the occurrence of a color Moire pattern caused by a periodic color coding arrangement and, at the same time, to substantially prevent the occurrence of resolution deterioration even when an isolated pixel defect exists.例文帳に追加

周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、小型低コストで高解像度を確保すると共に、孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化が実質的に生じさせないカラー撮像の可能なカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁

In this image reader, the plurality of LEDs are made to simultaneously emit light toward a shading reference plate, a luminance value pattern corresponding to the arrayed LEDs from a detection result of an optical sensor based on reflected light from the shading reference plate, is obtained, and when a recessed part lower than a first predetermined threshold exists in the luminance value pattern, it is determined that the defect occurs in the LED single article corresponding to the recessed part.例文帳に追加

画像読取装置において、複数のＬＥＤに同時にシェーディング基準板に向けて発光させ、シェーディング基準板からの反射光に基づく光センサの検出結果からアレイ状のＬＥＤに対応した輝度値を取得し、当該輝度値に所定の第１のしきい値より低い凹箇所が存在する場合に、凹箇所に対応したＬＥＤ単品に異常が発生していると判定する。 - 特許庁

The method of evaluating the SOI wafer having an insulating layer and an active layer in this order on a support substrate comprises forming a pattern on the insulating layer after removing part of the active layer from the insulating layer by wet or dry etching; and evaluating the bonding interface between the active layer and insulating layer by observing whether the pattern peels and/or whether a bonding defect is caused.例文帳に追加

支持基板上に絶縁層と活性層をこの順に有するＳＯＩウェーハの評価方法であって、前記活性層の一部を前記絶縁層上からウェットまたはドライエッチングを施すことによって除去した後、前記絶縁層上にパターンを形成し、前記パターンの剥離および／または接着不良の有無を観察することにより前記活性層と前記絶縁層との貼り合わせ界面を評価する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

Further, since conventionally the connection test has been conducted between the logic section and the line address, the column address in the whole LSI operation test resulted in low defect detection rate; however it can be conducted in a scan test and a test pattern which has a high detection rate of the circuit defects can be created automatically.例文帳に追加

さらには、ロジック部とメモリ間の行アドレス及び列アドレスの接続テストを従来は、ＬＳＩ全体の実動作テストで行っていたため、回路の故障検出率を低かったが、この発明によりスキャンテストにより行うことができ、回路の故障検出率が高いテストパターンを自動で作成することができる。 - 特許庁

To provide a letterpress for forming a high definition pattern by which a printing material for performing successful edge detection is obtained, and stable and high definition management of a press plate is performed by further using a defect inspection machine in combination even in the case of the letterpress using a base material such as a metal base material with high reflectance.例文帳に追加

金属基材のような反射率の高い基材を用いた凸版であっても、良好なエッジ検出ができる版材が得られ、さらには欠陥検査機も併用できることで、安定的かつ高精度の印刷用刷版の管理を行うことを可能とする高精細パターン形成用凸版を提供する。 - 特許庁

A holding means holds a processed surface of a substrate downward, a film is formed by spraying a gas supplied from a gas supplying means through a gas introduction means on the laser irradiation point with radiating the laser beam on the processed surface downward from the substrate, and corrects the clear defect of the pattern film on the substrate.例文帳に追加

保持手段で基板の加工面を下向きに保持し、基板の下方から基板の加工面に対してレーザ光を照射するとともに、ガス供給手段から供給されるガスをガス導入手段を通じて基板のレーザ照射部に吹き付けて、基板上に膜を形成し、基板上のパターン膜の白欠陥を修正する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal dispensing apparatus with which the defect of a produced liquid crystal panel can be prevented by forming a measuring means for measuring the height of pattern spacers integrally with the liquid crystal dispensing apparatus, calculating the quantity of the liquid crystal to be dispensed based on the measured height of the spacers and dispensing the quantity corresponding thereto of the liquid crystal and to provide its liquid crystal dispensing method.例文帳に追加

パターンスペーサの高さ測定手段を一体に形成して測定されたスペーサの高さに基づいて液晶の滴下量を算出し、これに該当する量の液晶を滴下することで、製作された液晶パネルの不良を防止し得る液晶滴下装置及びその液晶滴下方法を提供しようとする。 - 特許庁

The signal processing circuit 130 includes a formatter 134 which generates a signal based upon external supply pattern information, a driver 136 which generates an inspected body drive signal based on the signal, and a comparing circuit 138 which receives a response signal from the body to be inspected and outputs an inspected body defect signal to the delivering circuit 132.例文帳に追加

信号処理回路１３０は、外部供給パターン情報を基に、信号を発生するフォーマッタ１３４と、信号を基に被検査体駆動信号を発生するドライバー１３６と、被検査体からの応答信号を受けて、被検査体不良信号を受け渡し回路１３２に出力する比較回路１３８とを含む。 - 特許庁

To provide a relief printing plate for forming a highly precise pattern capable of obtaining a printing plate material which can perform a good edge detection even when it is a relief printing plate using a base material with a high reflectance such as a metal base material, and in addition, capable of managing a stable and highly precise printing plate as a defect inspecting machine can be used in parallel.例文帳に追加

金属基材のような反射率の高い基材を用いた凸版であっても、良好なエッジ検出ができる版材が得られ、さらには欠陥検査機も併用できることで、安定的かつ高精度の印刷用刷版の管理を行うことを可能とする高精細パターン形成用凸版を提供する。 - 特許庁

In this pattern defect inspection device, the quantity change in the ultraviolet laser beam is detected during inspection, to thereby determine the existence of an influence on the inspection, and service life prediction and abnormality of the light source are detected, and the inside of an optical system is cleaned, to thereby ensure prolongation of service life and long-term reliability of optical parts.例文帳に追加

検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the shape restoration of a pattern which has never been carried out because of the absence of a proper method particularly in a semiconductor device regarding a method for realizing the restoration of the defect of a substrate, and to provide a manufacturing method of the manufacturing device where they are applied.例文帳に追加

本発明は、基材の欠陥の修復を可能にする方法に関し、特に半導体デバイスにおいて、これまで適当な方法がないために実施できなかった、パターンの形状の修復を可能とする方法及び装置を提供するものであり、さらにこれらを応用する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask detecting device and a photomask detecting method, capable of satisfactorily conducting a performance evaluation and a defect inspection of a large-sized photomask, and to provide a method of manufacturing a photomask for a liquid crystal device using the photomask detecting device and the photomask detecting method, and a pattern transferring method.例文帳に追加

大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を提供し、これらフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

In the fine pattern correction method, laser light α, irradiated on a given position deviated from the center 32a of an objective lens 32, refracted with the objective lens 32, and directed toward a focus F is irradiated aslant from upward on a side wall face of the correction part 30 consisting of correction paste 21 coated on a rib chip defect 85.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ３２で屈折して焦点Ｆに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥８５に塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に斜め上方から照射する。 - 特許庁

The optional pattern is formed with high precision and high accuracy by patterning the photo paste, prepared by imparting photosensitive function to a functional material such as having conductivity, by printing such as offset, screen and after that, exposing, developing and removing excess parts due to the correction of the shape, the short defect or the like, drying and firing.例文帳に追加

導電等の機能材料に感光性の機能を付加したフォトペーストをオフセットやスクリーン等の印刷によりパターニングした後、露光、現像を行い、形状の補正やショート欠陥等の余分な部分を除去し、乾燥焼成により任意のパターンを高精度高精細に形成することができる。 - 特許庁

To provide a color filter manufacturing method in which a letterpress reverse offset printing method is used to produce a color filter, linearity at the tip part of a pattern on a substrate is made superior and a color filter is formed without a transfer defect such as a portion of an ink layer, that is to be transfer eliminated, is made residual on a blanket.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いたカラーフィルタの製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のないカラーフィルタを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

This defect-inspecting semiconductor substrate comprises a base film 1 laid on a semiconductor substrate 13, the base film 1 is intended to raise the film surface contrast of a film forming region 22 to a no-film forming region 23 on a pattern 12 with respect to inspecting light, as compared with the contrast of the semiconductor substrate 13 surface to the film surface of the forming region 22.例文帳に追加

欠陥検査用半導体基板は、半導体基板１３に下地膜１を設けたもので、下地膜１は、パターン１２の膜形成部２２の膜面と非膜形成部２３との検査光に対するコントラストが、半導体基板１３表面と膜形成部２２の膜面とのコントラストより大きくするようなものである。 - 特許庁

An incident beam is made to get incident into a printed wiring board with wiring and an insulator on its surface by a laser beam source 62, the surface is scanned with the incident beam, and fluorescence from the surface of the printed wiring board is detected by a camera unit 50, so as to inspect a defect in a conductive part pattern existing in the surface of the printed wiring board.例文帳に追加

表面に配線と絶縁体が存在するプリント配線板にレーザ光源62により入射光を入射させ、その表面を入射光で走査して、プリント配線板の表面からの蛍光をカメラユニット50で検知し、プリント配線板の表面にある導体部パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide an optical member inspection method for inspecting quality of an optical member such as a lens in an image inspection apparatus and capable of exactly evaluating defect factors of an object to be inspected whose shot image indicates a parallel stripe density pattern.例文帳に追加

レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法であって、撮影した画像に平行縞状の濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁

To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.例文帳に追加

複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加

ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

By setting a hue applied by ink jet coating to a color approximate to a representative color (a color largest in an area ratio) of gravure printing performed later, the defect of the printing pattern due to gravure-offset printing is inconspicuous, a frame phenomenon due to ink jet coating is concealed and finish quality is enhanced sharply.例文帳に追加

インクジェット塗装によって着色する色相については、後から行うグラビア印刷の代表色（面積比率の最も大きな色）に近似の色とすることで、グラビアオフセット印刷による印刷柄抜けが目立たず、インクジェット塗装による額縁現象が隠蔽されて、仕上がり品質が大幅に向上する。 - 特許庁

The ink for correcting the defect of the fine colored pattern comprises at least a coloring agent, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent, in a compounding amount of the above solvent of 25-70 wt.% based on the entire weight, and has viscosity of the ink of 40-300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用インキである。 - 特許庁

After an aerial wiring of a metal deposited film is formed by FIB-CVD in an X direction and a Y direction on an isolated pattern to eliminate the influences due to charge-up, the aerial wiring of the metal deposited film in the X and Y directions is used as a marker for correcting the drift during fabrication, and a defect is corrected, while the drift is corrected.例文帳に追加

孤立したパターンにX方向及びY方向にFIB-CVDで金属デポジション膜空中配線を形成してチャージアップの影響を無くした状態で、X方向及びY方向の金属デポジション膜空中配線を加工時のドリフト補正のマーカーとして使用し、ドリフト補正を行いながら欠陥を修正する。 - 特許庁

The film carrier tape for mounting electronic component 10 having a mounting unit where a wiring pattern 22 is formed on a substrate by etching and the final defect marking method of the film carrier tape for mounting electronic component are characterised in that the unit has a target mark 30 being a reference for positioning to perform final defect marking in the target position on the mounting unit by a marking means.例文帳に追加

基材上にエッチングにより配線パターン２２を形成した実装ユニットを有する、電子部品実装用フィルムキャリアテープ１０であって、前記実装ユニットは、前記エッチングにより前記基材上に形成したパターンとして、マーキング手段により前記実装ユニット上の目標位置に最終不良マーキングを行うための位置合わせの基準となるターゲットマーク３０を有することを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ、および電子部品実装用フィルムキャリアテープの最終不良マーキング方法。 - 特許庁

The pattern defect detection device includes a light source 11 for generating and emitting light, a scan mirror 14 for scanning a substrate 20 with the light emitted by the light source 11, a fluorescent light image detection unit 17 for detecting the image of fluorescent light emitted by the substrate 20, and a diffusion light image detection unit 19 for detecting the image of diffusion light diffused by the substrate 20.例文帳に追加

光を生成して出射する光源１１と、光源１１から出射される光を基板２０にスキャンするスキャンミラー１４と、基板２０で蛍光された蛍光イメージを検出する蛍光イメージ検出部１７と、基板２０で散乱された散乱光イメージを検出する散乱光イメージ検出部１９と、を含むものである。 - 特許庁

The burn-in test of the semiconductor device 302 to be tested is performed by supplying scan-in signals S102, memory test signals S103 and test mode control signals S101 from the test pattern generation means 301 to the semiconductor inspection device 100, time measurement is performed in the time measurement means 305 for the test result and the generation time of a defect/a fault is specified.例文帳に追加

テストパターン発生手段３０１から半導体検査装置１００にスキャンイン信号Ｓ１０２、メモリテスト信号Ｓ１０３、テストモード制御信号Ｓ１０１を供給して被試験半導体装置３０２のバーンイン試験を行い、その試験結果は時間計測手段３０５で時間計測が行われ不良・故障の発生時間を特定する。 - 特許庁

To provide a substrate having a multilayer reflection film suppressed the generation of particles caused by the peeling of the conductive film and abnormal discharge at the electrostatic chucking of substrate provided with the conductive film, a high quality reflection type mask blanks for exposure having less surface defects caused by particles, and a high quality reflective type mask for exposure having no defect pattern caused by particles.例文帳に追加

導電膜を設けた基板の静電チャック時の導電膜の膜剥れや異常放電によるパーティクルの発生を抑制した多層反射膜付き基板、パーティクルによる表面欠陥の少ない高品質の露光用反射型マスクブランクス、及びパーティクルによるパターン欠陥のない高品質の露光用反射型マスクを提供する。 - 特許庁