「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The defect of a pattern formed on an inspection object is detected by comparing two images of corresponding patterns of the inspection object acquired by imaging the inspection object, by using a scattergram acquired from the two images.例文帳に追加

被検査対象を撮像して得た被検査対象の対応するパターンの２枚の画像を、この２枚の画像から得られる散布図を用いて比較することにより被検査対象に形成されたパターンの欠陥を検出する - 特許庁

The defect-checking device obtains a mean luminance value of an image of a size decided based on a repeating pattern or an exposure shot size for a photographs image, and checks the detect based on the mean luminance value and previously decided inspection conditions.例文帳に追加

撮像画像に対して繰返しパターン寸法又は露光ショット寸法に基づいて定められたサイズの画像の平均輝度値を求め、該平均輝度値と予め定められた検査条件とに基づいて欠陥を検査する。 - 特許庁

To obtain a large degree of freedom of design of a pattern shape, to form a core part of high size precision in an easy method, to maintain optical transmitting performance without generating a defect even in case of bending, and to obtain superior durability.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部を簡単な方法で形成することができ、曲げが作用した場合でも欠陥を生じることなく光伝送性能を維持し、耐久性に優れる。 - 特許庁

To provide a method for uniformly forming a comparatively-thin plated nickel layer on an uneven pattern on the outer surface of a main body of a die while inhibiting a defect such as a plating spot from being produced thereon; and a production apparatus therefor.例文帳に追加

めっき斑等の欠陥の発生を抑えつつ、金型本体の外周面の凹凸パターン上に比較的薄いニッケルめっき層を均一に形成できるニッケルめっき金型の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mirror electron projection type ( including an MPJ type (also including an SEPJ type)) electron beam inspection device which is made possible to optimize a condition and a pattern defect inspection method and system by using the above electron beam inspection device.例文帳に追加

条件出しができるようにした写像投影型（ＭＰＪ型（ＳＥＰＪ）型も含む））電子線検査装置並びにこれら電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

The inspection device of the display device includes a pattern control part for controlling a pixel control part for controlling the state of a pixel disposed in the display device, and making the display device display an image pattern having a discrete point string, an imaging part for acquiring image information by imaging the image pattern, and an inspection part for inspecting a defect based on the image information.例文帳に追加

表示デバイスに設けられた画素の状態を制御する画素制御部を制御して前記表示デバイスに離散的な点列となるような画像パターンを表示させるパターン制御部と、前記画像パターンを撮像して画像情報を取得する撮像部と、前記画像情報に基づいて欠陥の検査を行う検査部と、を備えたことを特徴とする表示デバイスの検査装置が提供される。 - 特許庁

To provide a method and system for updating a recipe, capable of updating an optical condition stored in the recipe in order to detect a defect of a circuit pattern more easily without reducing an inspection time in a visual inspection device inspecting a semiconductor substrate including the circuit pattern formed thereon based on the recipe storing the optical condition.例文帳に追加

回路パターンが形成された半導体基板を光学条件が格納されたレシピに基づいて検査する外観検査装置において、回路パターンの欠陥をより検出し易くするために、検査時間を削ることなく、レシピに格納された光学条件を更新することが可能なレシピ更新方法およびレシピ更新システムを提供すること。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a recording material having gloss even in either of a picture part and a non-picture part by conquering a defect of lowering of pattern clearness based on staining of printing elements or fixing inferiority generated by not quick absorbing of a solvent in an ink receptive layer when the pattern is formed by using color ink.例文帳に追加

顔料インクを用いてパターンを形成したときにインクの溶媒が速やかにインク受容層に吸収されないために生じる画線の滲みや定着不良に基づくパターンの鮮明性が低下するという欠点を克服し、かつ画像部及び非画像部のいずれにおいても光沢を有する記録材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

A transparent insulating film correcting device decides a correction method by a correction method decision means 16, by using the kind of the defect and the position to a wiring pattern on the substrate 31 of the defect by a control computer 7, based on the image of the substrate 31 picked up by a camera 1, by switching an interference lens 3 and an objective lens 6 by a lens switching means 5.例文帳に追加

本発明の透明絶縁膜修正装置は、カメラ１により、干渉レンズ３と対物レンズ６とをレンズ切り替え器５により切り替えて撮像された基板３１の画像に基づいて制御コンピュータ７により、欠陥の種別、及び、当該欠陥の基板３１上の配線パターンに対する位置を用いて、修正方法決定手段１６により修正方法を決定する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system.例文帳に追加

所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁

This pattern defect inspection device includes a nearest 8 chips, which are adjacent to the detected image and positioned diagonally in the lateral and vertical directions while putting the detected image between them, and has a means creating an average reference image from images of the same shape patterns by statistical computing and a means detecting the defect by comparing the detected image with the average reference image.例文帳に追加

このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接８チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。 - 特許庁

To solve problems that a step of arraying a first mask step and a second mask step is not easy and a defect is caused when a double patterning step for overcoming the limit of resolution of exposure equipment is performed in a fine pattern forming method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターン形成方法に関し、露光装備の解像度の限界を克服するため二重パターニング(Double Patterning)工程を行うことにおいて、第1マスク工程と第2マスク工程を整列する工程が容易でなく不良が発生する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure mask of a constitution, wherein the exposure mask is provided with a plurality of split masks and even though a defect is caused in the split masks, a required pattern can be exposed by an electron beam exposure, an exposure method using this mask and an aligner.例文帳に追加

複数の分割マスクを配設した露光用マスクにおいて、分割マスクに欠陥が生じていても所要のパターンを電子線露光により露光することが可能な電子線露光用マスクと露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate which has a photosensitive resin layer of uniform thickness, causes no wear of film, reduces a waste generated from substrate and protective layer and is few in defect of conductor pattern, and a TAB substrate and a flexible wiring plate using the same.例文帳に追加

感光性樹脂層の膜厚が均一で膜減りすることがなく、支持体や保護層による廃棄物を削減し、導体パターンの欠陥の少ない感光性樹脂積層体及びそれを用いたＴＡＢ基板及びフレキシブル配線板を提供する。 - 特許庁

By calling up the information relating to contamination of the reticle during storage and transfer included in the information relating to the reticle 1, the reticle 1 in a contaminated state that may cause a pattern defect can be prevented from being used in an exposure process by cleaning the reticle.例文帳に追加

このレチクル１に係る情報に含めた保管，移動時のレチクル汚染に関する情報を呼び出すことで、レチクル洗浄を行って、パターン欠陥に結びつく汚染状態のレチクル１を露光処理に使用することを防止できる。 - 特許庁

This semiconductor device testing device 100 is provided with a pattern generator 10, a reference clock generator 60, a timing generator 62, a wave-form shaper 70, a signal input/output section 80, a comparing unit 90, and a defect analysis memory section 110.例文帳に追加

本発明の半導体デバイス試験装置１００のパターン発生器１０は、パターン発生器１０、基準クロック発生器６０、タイミング発生器６２、波形整形器７０、信号入出力部８０、比較ユニット９０、不良解析メモリ部１１０を備える。 - 特許庁

An electron beam having 100 eV or more and 1,000 eV or less of irradiation energy is scanned/irradiated to the wafer 18 having the pattern with the high step difference under the semiconductor manufacturing process, the defect is inspected quickly based on an image of a secondary electron generated therein.例文帳に追加

半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ１８に１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a substrate processing method, a replication method of a mold structure, which can duplicate the mold structure with high precision by single imprint, is low in defect generation and can form a micropattern efficiently, and the mold structure.例文帳に追加

モールド構造体の複製を１回のインプリントで高精度に行え、欠陥の発生が少なく、微細パターンを効率よく形成することができるパターン形成方法、基板加工方法、モールド構造体の複製方法、及びモールド構造体の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the master disk of an optical disk capable of transferring a concave/convex pattern, which is formed on an inorganic resist layer by use of a thermochemical reaction, to a stamper without causing a minute concave defect in a surface by an electroforming process.例文帳に追加

熱化学反応を利用して無機レジスト層に形成された凹凸パターンを、電鋳処理により、表面に微小な陥没状の欠陥を生じさせることなく、スタンパに転写可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device and an inspection method that precisely detect a shape defect part of an electrode pattern formed on a glass plate through a small number of times of measurement, and a method of manufacturing a panel for image display using the same.例文帳に追加

ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection apparatus for detecting finer defects and high fatal damages to a circuit pattern, with higher sensitivity, in the optical semiconductor defect inspection method, and to provide an inspection apparatus that uses die comparison method.例文帳に追加

ダイ比較方式を用いた光学式半導体欠陥検査方法及び検査装置に関して、より微細な欠陥や回路パターンに対して致命性の高い検出を、より高い感度で検出する検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask that can be manufactured at a low manufacturing cost, in which a phase defect due to a residue can be detected and a three-dimensional shape effect can be suppressed, and to provide a method for manufacturing a photomask, a method for designing a pattern of a photomask and a method for manufacturing an electronic device.例文帳に追加

安価な製造コストで製造でき、残渣による位相欠陥を検出でき、かつ３次元形状効果を抑制できるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクのパターン設計方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

This device of the present invention is an improved pixel inspection device wherein a desired inspection pattern is displayed on the display equipment to be inspected, wherein light from the pixel of the display equipment is detected by a plurality of photoreceiving elements, and wherein the defect of the pixel of the display equipment is inspected.例文帳に追加

本発明は、被検査表示機器に所望の検査パターンを表示させ、表示機器の画素からの光を複数の受光素子で検出し、表示機器の画素の欠陥を検査する画素検査装置に改良を加えたものである。 - 特許庁

To provide a stencil mask in which the transfer of a defect of the stencil mask to a material to be exposed is reduced and the positional accuracy of a circuit pattern to be transferred to the material to be exposed can be improved, and to provide a method of exposing and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ステンシルマスクの欠陥が被露光体へ転写されるのを低減し、かつ、被露光体へ転写される回路パターンの位置精度を向上させることができるステンシルマスク、露光方法、および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in resolution, sensitivity, pattern shape, etc., causing no development defect in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも解像度、感度、パターン形状等に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Considering that the dot flaw and the longitudinal line flaw are adjacently present, the defect compensation circuit 76 performs designated difference operation using pixels around a pixel of an interest to be compensated and determines an interpolation pattern according to the result of comparison between differential operation values.例文帳に追加

点キズと縦線キズとが隣接して存在することを考慮し、欠陥補正回路７６は補正すべき注目画素の周囲の画素を用いた所定の差分演算を実行し、差分演算値の大小比較に応じて補間パターンを決定する。 - 特許庁

To provide an etching method for copper or copper alloy that is used for manufacturing a printed wiring board, having a fine wiring pattern, with an excellent yield and without causing a short-circuit defect when executing etching by an etchant containing a banking agent.例文帳に追加

バンキング・エージェントを含むエッチング液によりエッチングを行った場合、微細な配線パターンを有するプリント配線板を、ショート欠陥を発生させることなく、良好な歩留まりで製造する銅又は銅合金のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive method for manufacturing a stamper roller capable of manufacturing an emboss sheet where a regular fine uneven pattern is formed on the surface with high quality, high productivity and without defect, and the stamper roller manufactured with the method.例文帳に追加

表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたエンボスシートを欠陥なく高品質に製造することができるとともに、生産性よく低コストのスタンパーローラの製造方法及びその方法で製造されたスタンパーローラを提供する。 - 特許庁

To provide a copper paste and a wiring substrate using the same capable of forming a plating film without producing any glass protrusion on the surface of a conductive layer and any defect in a fine wiring pattern in the wiring substrate using copper in the conductive layer.例文帳に追加

導体層に銅を用いた配線基板において、導体層の表面にガラスの浮き出しがなく、微細な配線パターンに欠陥の無いメッキ皮膜が形成できる銅ペーストとそれを用いた配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

When an inspection result indicating that a chip has a defect in electrical characteristics is repeated ten times continuously, whether the cause is due to adhesion or attachment of an insulating substance on the probe head or not is judged by conducting a needle-point test using the test pattern T.例文帳に追加

チップの電気的特性が不良であるという検査結果が、１０回連続して得られた時には、その原因がプローブ先端への絶縁物の固着や付着にあるかどうかを、テストパターンＴを使用した針先テストを行って判断する。 - 特許庁

To technically easily and at a low cost provide a printing plate with no defect and a deep plate depth of a high printability by correcting a pattern defective part on an intaglio in a glass intaglio used for printing a liquid crystal color filter with a high displaying quality.例文帳に追加

表示品位の高い液晶カラーフィルターの印刷に使用するガラス凹版において、凹版上のパターン欠損部を修正することで、無欠陥のかつ印刷性の高い版深をもつ刷版を、技術的に容易に且つ安価に提供すること。 - 特許庁

The polarization (alpha)(an angle (alpha) from s-polarization) of light irradiated to a sample, an object under defect detection, is calculated by substituting the condition of the circuit pattern of the sample, and the azimuth angle, and incident angle of irradiation light into a prescribed formula.例文帳に追加

欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁

In this defect inspection apparatus, the inspection face of a monolithic carrier which has an outer edge in a prescribed shape and in which a regular lattice-shaped pattern is formed in a region surrounded by the outer edge is imaged by a low-magnification camera 20, and the imaged inspection face is output to a microcomputer 70 as image data.例文帳に追加

低倍率カメラ２０により、所定形状の外縁を有し、この外縁によって囲まれる領域に規則的な格子状パターンが形成されるモノリス担体の検査面を撮像し、画像データとしてマイクロコンピュータ７０に出力する。 - 特許庁

To provide a flexible wiring board wherein, even when the flexible wiring board bends, a peripheral edge portion of a bare chip does not come into contact with a wiring pattern not coated with an overcoat layer, so that occurrence of short circuit defect can be prevented.例文帳に追加

フレキシブル配線基板が撓んだ場合であっても、ベアチップの周縁端部がオーバーコート層によって被覆されていない配線パターンと接触することがなく、ショート不良が発生するのを防止することができるフレキシブル配線基板を提供する。 - 特許庁

To manufacture a shaped body for an optical sheet having an embossed layer with a concave-convex pattern formed by a roll forming method continuously at a low cost by avoiding a transfer defect resulting from a joint of a flat mold.例文帳に追加

ロール成形法により凹凸パターンが形成されたエンボス層を有する光学シート用成形体を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避し、低コストで連続的に光学シート用成形体を製造する。 - 特許庁

An ROP pattern detecting part 10 monitors a plotting object which is inputted to a plotting data input part 2, and detects ROP patterns in the single plotting object where the defect occurs by the ROP processing, or the plurality of continuous plotting objects.例文帳に追加

ＲＯＰパターン検知部１０にて、描画データ入力部２に入力された描画オブジェクトを監視し、ＲＯＰ処理により不具合が生じる単独の描画オブジェクト、または複数の連続する描画オブジェクトのＲＯＰパターンを検知する。 - 特許庁

Polarization (alpha) (an angle (alpha) from s polarization) of light to be emitted on a sample which is an object for performing defect detection is calculated by substituting a condition of a circuit pattern of the sample, an azimuth angle and an incident angle of irradiation light in a predetermined formula.例文帳に追加

欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The pattern defect inspecting device is constituted to detect the surface of a wafer 1 on almost the same region at different timing using two detectors 702 and to add and average output signals from the two detectors 702 to eliminate noise.例文帳に追加

ウエハ１面のほぼ同一領域について、２つの検出器７０２を用いて、タイミングを異ならして表面を検出し、２つの検出器７０２からの出力信号を加算し、平均することにより、ノイズを除去するように構成した。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of reducing development defect due to deposition of a resist film and re-adhesion of a semi-insoluble material in a developing and rinsing process with a normal hardware environment, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

通常のハード環境のままで、現像、リンス工程において、レジスト膜の析出及び半不溶化物の再付着による現像欠陥を低減させることができるレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The defect correction method of the color filters comprises a pattern transfer step of transferring at least a portion of two or more colors of color patterns on a colored image missing area on a substrate by using a transfer film having the color patterns.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法において、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されている。 - 特許庁