「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The ink for correcting the minute defect in colored pattern contains monomer having at least a colorant, a dispersing agent, and a reactive functional group and a solvent, wherein the solvent contains 40-100 wt.% of a solvent (A) having boiling point of 160-250°C and specific evaporation rate of 40 or less based on the total amount of solvent.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、分散剤と、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤が、沸点が１６０℃〜２５０℃で、且つ比蒸発速度が４０以下の溶剤（Ａ）を溶剤全量に対して４０重量％〜１００重量％の範囲で含有することを特徴とする、微小着色パターン欠陥修正用インキ。 - 特許庁

This image defect inspection device 10 is equipped with an image alignment part 22 for detecting a sub-pixel offset amount between two images which are objects under inspection, and a correction amount determination part 25 for determining a correction amount for a gray level difference detected by a difference detection part 26 at pattern edge parts of the two images based on the detected offset amount.例文帳に追加

画像欠陥検査装置１０は、検査対象たる２つの画像のサブピクセルずれ量を検出する画像アライメント部２２と、検出したサブピクセルずれ量に基づいて、差分検出部２６により検出されるグレイレベル差の、前記の２つの画像のパターンエッジ部における補正量を決定する補正量決定部２５とを備えることとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank substrate and a method for manufacturing a mask blank, which are capable of recycling a mask blank substrate by, if a transfer mask is unavailable because of the existence of a defect or the like, removing traces of a transfer pattern remaining on a principal surface of the mask blank substrate which has been used in the transfer mask.例文帳に追加

転写用マスクに欠陥が存在するなどのために使用が不可能な場合、転写用マスクに使用されていたマスクブランク用基板の主表面に残る転写パターンの痕跡を除去することにより、マスクブランク用基板の再生を可能にする、マスクブランク用基板の製造方法及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element capable of forming an organic layer having the excellent linearity of the end of a pattern on a substrate without causing a transfer defect that a part of an ink layer to be transferred and removed is left on a blanket, in a manufacturing method of an organic EL element using letterpress reversing offset printing.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のない有機層を形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition suitable as a color filter material, being good in developability and in image and line formability, preventing a coloring composition from remaining on a non-pixel part on a substrate after developing (development residue), a pattern defect of a pixel part and/or peeling, and having high productivity, and a color filter formed using the photosensitive coloring composition.例文帳に追加

現像性および画像画線形成性が良好で、現像後の基板上の非画素部への着色組成物の残留（現像残渣）や画素部のパターン欠け及び／または剥れがなく、高生産性のカラーフィルタ材料として好適な感光性着色組成物及びこれを用いて形成されるカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

This method comprises a first exposing process for exposing the substrate 12 via the mask 10 under the condition that a part of region including a defect D of the mask 10 is shielded from the light, and a second exposing process for drawing in direct a pattern with the exposure to the region on the substrate 12 corresponding to a part of region shielded in the first exposing process.例文帳に追加

この方法は、マスク１０の欠陥Ｄを含む一部領域を遮光した状態で、マスク１０を介して基板１２に対して露光を行う第１の露光工程と、第１の露光工程において遮光された一部領域に対応する基板１２上の領域に、直接露光により描画を行う第２の露光工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.例文帳に追加

回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

Besides, since the inter-layer insulating film 6 is formed between the respective terminals as well, even when etching is performed for the etching time for the ITO formed on the inter-layer insulating film 6, no ITO is left between the terminals, the ITO can be patterned through one time of resist pattern forming process and etching process, and the occurrence of a leak defect between terminals can be prevented.例文帳に追加

また、各端子間にも層間絶縁膜６が形成されているため、層間絶縁膜６上に形成されたＩＴＯに対するエッチング時間でエッチングを行っても端子間にＩＴＯが残ることなく、一回のレジストパターン形成工程及びエッチング工程でＩＴＯのパターン形成を行うことができ、端子間のリーク不良の発生を防止できる。 - 特許庁

To detect defects even in incomplete unit patterns, in which parts of a pattern are absent in defect inspection for detecting defects present in the surfaces of samples, by comparing corresponding parts with one another of unit patterns which repeatedly appear in correspondence, to repeated patterns in inspection images acquired by imaging the surfaces of the samples in which the repetitive patterns are formed.例文帳に追加

繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。 - 特許庁

The defect which has a pixel in a region surrounded by two gate lines 31 and two drain lines 33 and in which an adjacent pixel electrode 34 is short-circuited is irradiated with a laser via a mask having a transmission pattern corresponding to the patterns of the gate lines 31, the drain lines 33, and the pixel electrode 34 at the short-circuited portion, thereby removing the short-circuited portion 21.例文帳に追加

２本のゲート配線３１と２本のドレイン配線３３で囲まれた領域に画素を有し、隣接する画素電極３４が短絡している欠陥に対し、該短絡部分のゲート配線３１とドレイン配線３３および画素電極３４のパターンに対応した透過パターンを有するマスクを介してレーザを照射することで、短絡部分２１を除去する。 - 特許庁

A defect repairing device for electronic components includes an ultrashort pulse laser light emitting device which suitably adjusts and emits ultrashort pulse laser light, a flexible mask pattern generator that forms the ultrashort pulse laser light emitted by the ultrashort pulse laser light emitting device into a prescribed shape, an optical system which converges the ultrashort pulse laser light, and a first stage where an electronic component to be repaired is mounted and positioned.例文帳に追加

超短パルスレーザーを適宜調整して発生する超短パルスレーザー発生装置と、前記超短パルスレーザー発生装置から照射された超短パルスレーザーを所定の形状に成形するフレキシブル・マスク・パターン・ジェネレーターと、該超短パルスレーザーを集光する光学系と、修復すべき電子部品を載置して位置決めする第１のステージとを含む電子部品の欠陥修復装置。 - 特許庁

A digital virtual test system including a semiconductor simulation model and an LSI tester simulation model includes a determination means for comparing and determining whether an address signal for accessing a memory function model in the semiconductor simulation model accesses a predetermined address in an address range of the memory function model or not to detect a defect of a test pattern using the LSI tester or the LSI tester simulation model.例文帳に追加

半導体シミュレーションモデルとＬＳＩテスタシミュレーションモデルを含むデジタルヴァーチャルテストシステムにおいて、半導体シミュレーションモデルのメモリ機能モデルをアクセスするアドレス信号が、メモリ機能モデルのアドレス範囲のうち所定のアドレスをアクセスしたかどうかを比較判定する判定手段を設けてＬＳＩテスタまたはＬＳＩテスタシミュレーションモデルを使用したテストパターンの不備を検出する。 - 特許庁

The objective for an optical pickup device corrects an on-axis spherical aberration variation quantity due to ambient temperature variation by a base surface (included surface with diffraction pattern) and corrects a spherical aberration by a diffracting surface provided on at least one surface to suppress variation in on-axis spherical aberration due to refractive index variation accompanying temperature variation as a defect of a resin-made lens.例文帳に追加

光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、ベース面（回折パターンの包絡面）で、環境温度変化による軸上球面収差変化量を補正したとともに、少なくとも１面に設けた回折面で、球面収差を補正することによって、樹脂製レンズの欠点である温度変動に伴う屈折率変化に起因する軸上球面収差の変化を抑えることができる。 - 特許庁

When magnetic information is magnetically transferred, by pre-recording a particular magnetic pattern 1 (here, obliquely fringed) in a part having no magnetic information containing track information recorded therein, and scanning a magnetic head in the radial direction or in a direction orthogonal to the radial direction, a scratch defect long in a circumferential or radial direction can be detected by rough scanning.例文帳に追加

磁気的情報が磁気転写されるとき、トラック情報を含む磁気的情報が記録されない部分に特定の磁気パターン１（ここでは、斜め縞状）を予め記録しておくことにより、磁気ヘッドを半径方向またはそれと直交する方向に走査することにより、円周または半径方向に長いスクラッチ欠陥の検出を粗い走査で検出可能とする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of preventing the occurrence of an image defect of an interference fringe pattern without performing treatment of surface-roughening or the like even when being used to an electrophotographic apparatus for image forming using coherent light such as semiconductor laser light and forming a satisfactory image and having high performance and satisfactory electric characteristics and to provide an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

半導体レーザー光等の可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に用いた場合でも、粗面化等の処理をすることなく干渉縞模様の画像欠陥の発生を防止し、良好な画像を形成することが可能で、且つ、電気特性も良好である高性能な電子写真感光体、および該感光体を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加

加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンＣＡＤデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁

This pattern defect correcting method includes an application step to apply a base part 31 to the defective part 32 of a rib 83 formed on a substrate, a step to reshape the applied base part 31, a step to bake the shaped base part 31, a step to further apply correcting paste on the baked base part 31, and a step to bake the applied correcting paste.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法は、基板上に形成されたリブ８３の欠損部３２にベース部３１を塗布する塗布ステップと、塗布されたベース部３１を整形するステップと、整形されたベース部３１を焼成するステップと、焼成されたベース部３１の上に、さらに修正ペーストを塗布するステップと、さらに塗布された修正ペーストを焼成するステップとを含む。 - 特許庁

This circuit is provided with a memory 10 provided with an additional memory cell for storing defective data bit information on a memory cell, a comparing circuit 20 comparing output data DATO of the memory 10 with its expected value EXP for each data bit, and a BIST circuit 30 generating a required and sufficient test input pattern for detecting the defect of memory cells constituting the memory 10 and the expected value EXP and controlling test sequence.例文帳に追加

メモリセルの不良データビット情報を格納するための付加メモリセルを備えたメモリ１０と、そのメモリ１０の出力データＤＡＴＯとその期待値ＥＸＰをデータビットごとに比較する比較回路２０と、そのメモリ１０を構成するメモリセルの不良を検出するために必要十分なテスト入力パターンおよび上記期待値ＥＸＰを発生しテストシーケンスをコントロールするＢＩＳＴ回路３０とを備えた。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner which can output a good gold color in the image formation of an electrophotographic system and can faithfully reproduce intricate electric circuits with high resolution of wiring circuits without the occurrence of an electric conduction defect when used for wiring pattern generation by the electrophotographic system, and to provide a liquid developer containing the toner and an image forming method using the developer.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成において、良好な金色を出力することができ、また電子写真方式による配線パターン作成に用いた場合、導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現することができる静電潜像現像用トナー、該トナーを含有する液体現像剤、及び該現像剤を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium capable of attaining large recording capacity, free from a winding form defect and output reduction due to generation of a radial pattern, free from generation of fine scraped powder in high speed running, having improved clogging of a magnetic head and dropout, having satisfactory running durability and electromagnetic transducing characteristics and advantageously used especially for recording computer data.例文帳に追加

大きな記録容量を達成出来ると共に、上記のような放射状パターン発生による巻き姿不良や出力低下の発生がなく、また、高速走行時等での微小削れ粉の発生がなく、磁気ヘッドの目詰まりやドロップアウトが良化し、良好な走行耐久性及び電磁変換特性を有する特にコンピューターデーター記録用として有利に用いられる、磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁