「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To accurately specify an address of a display defect of a liquid crystal display device by inspecting a panel using a picture display pattern to inspect it while turning the panel on.例文帳に追加

液晶表示装置の表示欠陥アドレスを、パネルを点灯させながら検査するための画像表示パターンを用いて検査することにより、アドレス取りを正確にすることを可能とする。 - 特許庁

A coil 3a for magnetic particle flaw detecting is inserted to the impeller 1 and is magnetized by a magnetizer which is not shown in the figure, and a defect is checked by a pattern of the magnetic particle by sprinkling the magnetic particle over an inspection target surface.例文帳に追加

インペラ１には磁粉探傷用のコイル３ａが挿通され、図示省略の磁化装置により励磁され、検査対象面に磁粉を振りかけ磁粉の模様により欠陥を調べる。 - 特許庁

To provide a mounting technique for increasing a permissible amount of warpage by suppressing the occurrence of a bridge defect by releasing excessive solder to a pattern arranged at a periphery of a land.例文帳に追加

余分な半田をランドの周辺に配置されたパターンに逃がすことでブリッジ不良の発生を抑制し、そりの許容量を増大することが可能となる実装技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus for minimizing the pattern shape change of a target to be inspected and keeping response in reviewing when laser beams are used as a light source.例文帳に追加

レーザ光を光源として用いた場合に、被検査対象のパターン形状変化を最小にとどめ、かつ、レビュー時のレスポンスを低下させない欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

A mask defect inspecting machine obtains EB data 3 (after SUB) corresponding to OPC pattern parts by SUB-calculating the EB data 1 before OPC from the EB data 2 after optical proximity effect correction (OPC).例文帳に追加

光学近接効果補正（ＯＰＣ）後のＥＢデータ２からＯＰＣ前のＥＢデータ１をＳＵＢ演算して、ＯＰＣパターン部分に対応するＥＢデータ（ＳＵＢ後）３を得る。 - 特許庁

By this, sufficient adhesiveness can be provided for the conductive pattern 40 itself, and peeling off defect in peeling the base membrane from a ceramic green sheet 20 can be suppressed effectively.例文帳に追加

これにより、導電パターン４０自体に十分な接着性を持たせることができ、セラミックグリーンシート２０からベースフィルム１０を剥離する際の剥離不良を効果的に抑制できる。 - 特許庁

An outputted test pattern 34B shows the case that three image defects (38M and 38Y) exist, and the image defect is eliminated by cleaning a seal glass 30M corresponding to the color.例文帳に追加

出力されたテストパターン３４Ｂは、３箇所の画像欠陥（３８Ｍ、３８Ｙ）が存在する場合を示しており、この色に対応するシールガラス３０Ｍを清掃すれば、画像欠陥は無くなる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate capable of shortening the tact time of defect correction of a wiring pattern, and a substrate manufacturing system, and a method for manufacturing a display device.例文帳に追加

配線パターンの欠陥修正のタクトタイムを短縮することができる基板の製造方法および基板製造システム、並びにこれを用いた表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method includes a step of performing a test in a domain and implementing a first subset of a domain of a plurality of circuits provided with a dynamic defect detection test pattern.例文帳に追加

１つの実施形態では、方法は、ドメイン内テストを実施して、動的欠陥検出テストパターンを実装する複数の回路のドメインの第１サブセットを実行する段階を含む。 - 特許庁

The control section 5 brings the needle 441 into proximity to the photomask 9 according to the material applying distance and the pattern correcting material is applied at the adequate size onto the defect on the photomask 9.例文帳に追加

制御部５は材料付与距離に従って針４４１をフォトマスク９に対して近接させ、フォトマスク９上の欠陥に適切な大きさにてパターン修正材料が付与される。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of reducing a watermark defect and forming an excellently shaped resist pattern, and to provide a resist film using the same and a patterning method.例文帳に追加

ウォーターマーク欠陥を減少させると共に、良好な形状のレジストパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To detect automatically with high sensitivity a print defect of a phosphor formed on a glass substrate such as a plasma display panel without being influenced by a phosphor applied pattern, and to realize low-cost and high-speed defect inspection by being installed easily on a manufacture line of the panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル等のガラス基板に形成された蛍光体の印刷欠陥を、蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度に自動的に検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a defect inspection device wherein detection sensitivity and throughput are improved by optimizing shape of illumination when detecting a defect such as foreign matter generated in a production process for forming a pattern on a substrate to manufacture a target object, and to provide a method therefor.例文帳に追加

基板上にパターンを形成し対象物を製作して行く製造工程で発生する異物等の欠陥を検出する際に、照明の形状を最適化することにより、検出感度およびスループットを向上する欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

A high sensitivity inspection is made possible by performing a pattern inspection which comprises steps of preliminarily obtaining a GP image, designating an inspection location and a threshold value map to the GP image on a GUI, setting an identification reference for a defect, obtaining an inspection image, and applying the identification reference to the inspection image to identify the defect.例文帳に追加

予めＧＰ画像を取得し、ＧＰ画像に対して検査箇所及び閾値マップをＧＵＩ上で指定し、欠陥の識別基準を設定し、次に検査画像を取得し、検査画像に識別基準を適用し欠陥を識別することでパターン検査を行い高感度検査を可能にした。 - 特許庁

When the integrated circuit chip on the semiconductor wafer is inspected after the exposure and any pattern defect is found out; the operating information by each pulse in cross-reference with the information of the lot number of the semiconductor wafer whose defect is found out, and the information of the integrated circuit chip position is acquired from the stored information items.例文帳に追加

露光後に半導体ウェーハ上の集積回路チップを検査し、パターン不良が発見された場合は、記憶した情報の中から不良が発見された半導体ウェーハのロット番号の情報及び集積回路チップ位置の情報に対応するパルス毎の動作情報を取得する。 - 特許庁

To solve the problem wherein, when inspecting a defect by an image acquired by imaging a surface of a polycrystal silicon wafer such as a solar cell wafer by an imaging device, a pattern of a crystallite of the silicon wafer is imaged in a normal visible light illumination, and thereby discrimination from a defect existing on the surface is difficult.例文帳に追加

太陽電池ウェーハなどの多結晶シリコンウェーハの表面を撮像装置で撮像した画像によって欠陥検査を行う場合、通常の可視光照明では、シリコンウェーハの結晶体の模様が撮像されて、表面にある欠陥との判別が困難である。 - 特許庁

Thereby, the visual inspection of a multiple layers phase defect becomes possible by an easy and practical through-put in a hole pattern which cannot be inspected easily by a mask inspection, and the yield is improved by supplying a defect free mask which is performed with a defective relief according to classification of the cause of failure.例文帳に追加

これにより、マスク検査では容易に検査できないホールパターンにおける、多層膜位相欠陥を容易かつ実用的なスループットで外観検査が可能となり、欠陥の原因の分類に応じた欠陥救済を行った無欠陥マスクを供給することで歩留まりが向上する。 - 特許庁

To avoid an influence by saturation pixels contained in an inspection image and a reference image, in defect inspection, for comparing the inspection image with the reference image that are acquired by imaging patterns which should be mutually identical and are the objects of inspection, and for detecting a difference spot as a pattern defect.例文帳に追加

検査対象である相互に同一であるべきパターンを撮像して得た検査画像と参照画像とを比較して、相違する箇所を前記パターンの欠陥として検出する欠陥検査において、検査画像と参照画像とに含まれる飽和画素による影響を回避する。 - 特許庁

In a device 1 for detecting the defect, a reference image showing a pattern of a die as a reference on the substrate 9 in a reference image inspection circuit 42 is compared with a plurality of selected images showing the patterns of selected dies, and a defect included in the reference image is detected.例文帳に追加

欠陥検出装置１では、基準画像検査回路４２において基板９上の基準とされるダイのパターンを示す基準画像と、それぞれが選択されたダイのパターンを示す複数の選択画像とが比較され、基準画像が有する欠陥が検出される。 - 特許庁

This method fetches an image about a check object having a regularly linear pattern by an image pickup device, applies differential processing to the fetched gradation image to detect a defective candidate, cuts out the original image of the defective candidate part, performs labeling processing of the cut out image, performs redecision according to the characteristic of the pattern and classifies and detects the defect and the type of the defect with high accuracy.例文帳に追加

規則的な直線状パターンを持つ検査対象についてその画像を撮像素子にて取り込み、取り込んだ濃淡画像に対して差分処理を行って欠陥候補を検出し、欠陥候補部分の原画像を切り出し、切り出した画像のラベリング処理を行い、そのパターンの特徴によって再判定を行い、欠陥を精度良くかつ欠陥の種類を分別して検出する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁

In the correction method of a photomask, a light shielding part and a light transmitting part are formed on one side surface of the substrate with the prescribed pattern and, further, the defect on the surface of the opposite side to the surface on which the pattern is formed is filled with transparent resin.例文帳に追加

基板の片面に、遮光部と透光部が所定のパターンで形成されたフォトマスクの修正方法であって、パターンが形成された面の反対側の面上の欠点を透明樹脂で充填することを特徴とするフォトマスクの修正方法。 - 特許庁

When there is nondefect in the first and second transfers 150a, 150b, a specified pattern is displayed on the liquid crystal panel, however, when there is defect in the first or second transfer 150a or 150b, a pattern different from that in the normal state is displayed.例文帳に追加

第１及び第２のトランスファー１５０ａ，１５０ｂに欠陥がないときには液晶パネルに特定のパターンが表示されるが、第１のトランスファー１５０ａ又は第２のトランスファー１５０ｂに欠陥がある場合は、正常時と異なるパターンが表示される。 - 特許庁

The drive-part control part 7 controls the driving of the drive part 6, based on a pattern defect position information 27b and information are inputted from the circuits 11, 13, and 14, to control the action of the pattern correcting mechanism 2 and the image detecting mechanism 3.例文帳に追加

駆動部制御部７は、パターン欠陥位置情報２７ｂや、上記各回路１１・１３・１４から入力される情報に基づいて、駆動部６の駆動を制御することによって、パターン修正機構２および画像検出機構３の動作を制御する。 - 特許庁

Next, the relative position is adjusted by rotating or moving the memory medium and/or the transfer master so as to avoid or reduce defective transfer of a transfer pattern caused by overlap of the foreign matter or the defect on the surface of the memory medium and the transfer pattern with each other (step S3).例文帳に追加

続いて、記憶媒体及び／又は転写マスタを回転若しくは異動させて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写パターンとの重畳による転写パターンの転写不良を回避又は低減する様に、相対位置を調整する（ステップＳ３）。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To eliminate the adverse influence that the dimensional fluctuation of a resist pattern induced by consequence of the degradation in the transmittance of a defect correction portion exerts on device quality when a design pattern dimension is reduced like, for example, about 1 μm in the dimension value on the photomask.例文帳に追加

デザインパターン寸法がフォトマスク上の寸法値で例えば約１μｍという様に縮小されるときに、欠陥修正部分の透過率低下に起因して生じるレジストパターンの寸法変動がデバイス品質に悪影響を及ぼす点を改善する。 - 特許庁

To provide a method for releasing an optical element to be able to protect occurring of a crack or a defect on a fine pattern and to improve poor releasing by dispersing impact strength in contact with molded glass when releasing to a plurality of times and protecting excessive stress on the fine pattern.例文帳に追加

離型の際のガラス成形品への接触による衝撃力を、複数回に分散させ、微細パターンへ過大な応力がかかることを防ぎ、微細パターンのワレ、カケなどを防ぐと共に、離型不良を改善できる光学素子の離型方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition that has excellent resolution, can suppress the occurrence of a defect after development, and shows good lithographic characteristics and a pattern profile, to provide a method for forming a resist pattern, and to provide a polymer compound useful for the above resist composition and a method for producing the polymer compound.例文帳に追加

解像性に優れると共に、現像後のディフェクトの発生を抑制でき、かつ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物及びその製造方法の提供。 - 特許庁

The method of correcting a black defect generated in a transparent conductive electrode or a transparent conductive wiring pattern comprising the transparent conductive film deposited on a surface of a transparent substrate or a color filter formed in the transparent substrate, includes applying a high voltage between a discharge electrode and the transparent conductive film disposed in the vicinity of the black defect, applying a spark discharge to the black defect, and then removing the black defect by cleaning.例文帳に追加

透明基材または透明基材に形成されたカラーフィルタの表面に成膜された透明導電膜からなる透明導電性電極または透明導電性配線パターンに存在する黒欠陥の修正方法であって、黒欠陥の近傍に配置した放電電極と透明導電膜の間に高電圧を印加し、黒欠陥部に火花放電を当て、その後の洗浄によって黒欠陥を除去することを特徴とする黒欠陥修正方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a micro pattern by proximity field exposure by which a micro pattern having a high aspect ratio can be formed in an image formation layer with film thickness enough not to generate any defect such as pin hole or the like, when forming the micro pattern by proximity field exposure while the mask is made close to the image formation layer.例文帳に追加

マスクを像形成層に近接させて近接場露光によって微細パターンを作製するに際して、ピンホール等の欠陥の生じない厚さの膜厚に形成された像形成層に対して、高アスペクト比を有する微細パターンを作製することが可能となる近接場露光による微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

The electrode paste 4 is repelled through the water repellency effect of the step eliminating pattern 3 and then a step between an electrode pattern 5 formed by leveling and the step eliminating pattern 3 is made small to prevent a defect such as cracking and delamination, thereby providing the multilayer ceramic electronic component of good quality which has superior reliability and productivity and is made smaller in decrease in electrostatic capacity.例文帳に追加

段差解消パターン３の撥水効果で電極ペースト４をはじかせることで、レベリングにより形成された電極パターン５と段差解消パターン３との段差を少なくし、クラックやデラミネーション等の欠陥を防止でき、信頼性、生産性に優れた、静電容量の低下を抑えた品質のよい積層セラミック電子部品を提供することができる。 - 特許庁

To produce a tolerance including deformation by obtaining an amount of deformation from a picked-up image pattern image and by deforming a reference pattern image which is the basis of the tolerance in accordance with the deformation, and to determine breaks and contacts only as abnormal even if there is deformation in an image pickup pattern, in a defect determination operation using a tolerance that allows a high speed operation.例文帳に追加

高速処理が可能な許容範囲を用いた欠陥判定処理で、撮像パターン画像から変形量を求めて、変形に応じて許容範囲の基になる基準パターン画像を変形させることで、変形を含んだ許容範囲を作成し、撮像パターンの変形がある場合でも、断線，接触のみを異常と判定する。 - 特許庁

An address generating section 110 incorporated in a pattern generator 60 outputs a first address signal 62 and a second address signal 64 to a defect analysis memory 20 in two systems.例文帳に追加

本発明において、パターン発生器６０に組み込まれるアドレス発生部１１０が、不良解析メモリ２０に対して、第１アドレス信号６２および第２アドレス信号６４を２系統で出力する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of preventing a defect in image quality under a super-pixel gray pattern by making respective green pixel cells receive data under the same charge conditions, and a method of driving the same.例文帳に追加

各緑色画素セルが同一の充電条件下でデータを受けることで、スーパーピクセルグレーパターン下での画質不良を防止できる液晶表示装置及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semi-transmission type phase shift reticle that can suppress a pseudo defect caused in the oblique boundary line of a chamfered portion partitioning a circuit pattern region from a peripheral region, and to provide an inspection method for the reticle.例文帳に追加

回路パターン領域と周辺部領域とを区画する面取り部の斜め境界線で生じる疑似欠陥を抑制できる半透光方式の位相シフトレチクルとその検査方法を提供する。 - 特許庁

To improve an operation rate of an inspection device by setting an inspection condition, in a state where an actual inspection object does not exist, in defect inspection that uses a substrate with a pattern as the inspection object.例文帳に追加

パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において，実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。 - 特許庁

To detect a defect in each display region with high accuracy, in the case that an inspection pattern simultaneously having at least two kinds or more display regions with mutually different gray scale levels exists on a transmissive display panel.例文帳に追加

透過型表示パネルに、少なくとも２種類以上の異なる階調の表示領域を同時に有する検査パターンを有する場合において、表示領域毎の欠陥を高精度に検出する。 - 特許庁

To provide a radiation image processing unit that applies pixel defect correction of a linear prediction type to a radiation image including grid pattern information so as to suppress artifacts due to a defective pixel when an image pickup element includes the defective pixel.例文帳に追加

撮像素子に欠陥画素が含まれるとき、グリッド縞情報を含む放射線画像に対して線形予測型の画素欠陥補正を施し、上記欠陥画素によるアーチファクトを抑える。 - 特許庁

It further displays mounted image data which is read, and design image data which is created on a display unit 133, and displaying a pattern of an arrangement defect which occurs when the component arrangement device arranges the components.例文帳に追加

表示部に読込まれた前記実装画像データ及び作成された設計画像データを表示するとともに、部品配置装置が部品を配置する際に起こりうる配置不良のパターンを表示する。 - 特許庁

To stationarily control the concn. of an etching soln. in real time, to improve the stability of the formation of an etching pattern and the forming dimensional precision and to suppress the generation of the defect in etching caused by the fluctuation of the compsn. of the etching soln.例文帳に追加

エッチング液の濃度をリアルタイムで定常的に管理し、エッチングパターン形成の安定性、形成寸法精度の向上を図り、エッチング液組成変動によるエッチング不良の発生を抑制する。 - 特許庁

In a pattern for unevenness used in an unevenness defect inspection device, the patterns are made of the same material as the substrate and formed by the same manufacturing method.例文帳に追加

本発明の課題は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、実欠陥と擬似欠陥とを高精度に弁別できる検査用パターン及び検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with the excellent exposure latitude (EL) and focus margin (DOF) capable of reducing the line width irregularity (LWR) and residual defect, a chemically amplified resist composition and a resist film.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れ、線幅バラツキ（ＬＷＲ）及び残渣欠陥を低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a land pattern inspection method and inspection device capable of detecting a minute defect of a land which can not be detected by a method for measuring diameters of a through hole with a radial length measuring instrument.例文帳に追加

スルーホールの直径を放射状の測長子で計測する方法では検出できないような、ランドの微細な欠陥を検出できるランドパターン検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁