「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a low cost tape carrier package semiconductor device and a production method therefor, with which an operation defect caused by contacting of the terminal part of a semiconductor device, and a wiring pattern is prevented.例文帳に追加

半導体素子の端部と配線パターンとの接触による動作不良が防止された低コストのテープキャリアパッケージ半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting patterns capable of stably correcting a fine pattern and preventing the periphery of a defect part from being contaminated by correction fluid.例文帳に追加

微細パターンを安定に修正することができ、修正液によって欠陥部周辺が汚染されるのを防止することが可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a plated pattern with no defect at low cost, without changing a physical and electrical characteristics of a base material, or without damaging the base material.例文帳に追加

基材の物理的特性、電気的特性を変化させることなく、あるいは損傷を生じさせることなく安価で、欠陥のないメッキパターンを形成することが可能である。 - 特許庁

To provide a radiation curable composition capable of producing a concave and convex-shaped sheet having a surface on which a regular fine concave and convex pattern is formed, with high quality, without a defect, at a high line speed with high productivity.例文帳に追加

表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁

To efficiently and precisely form a magnetization pattern less in defect in a short time on a magnetic recording medium without damaging the medium and a mask and to provide a magnetic recording medium and a magnetic recording device which are capable of high density recording in a short time and at low costs.例文帳に追加

効率よく精度よく、しかも媒体やマスクを傷つけることなく欠陥発生の少ない磁化パターンを、短時間で磁気記録媒体に形成する。 - 特許庁

To highly accurately evaluate a defect identification pattern without requiring any destructive analysis involving visual check with regard to a multilayer wiring board and its test method.例文帳に追加

多層配線基板及び多層配線基板の試験方法に関し、目視を伴った破壊解析を要することなく欠陥識別パターンの評価を精度良く行う。 - 特許庁

A line defect correcting part 33 obtains pixels of the same phase as line defective pixels in the moire pattern, and corrects the line defective pixels using the value of the pixels.例文帳に追加

ライン欠損補正部３３は、その画素数から、モアレパターン中でライン欠損画素と同じ位相の画素を求め、その画素の値を用いてライン欠損画素を補正する。 - 特許庁

This method also includes a step of performing a test among the domains and implementing a second subset of the domain of the plurality of circuits provided with the dynamic defect detection test pattern.例文帳に追加

本方法はまた、ドメイン間テストを実施して、動的欠陥検出テストパターンを実装する複数の回路のドメインの第２サブセットを実行する段階を含む。 - 特許庁

The monthly fatal defect density of a reference product that is different in wiring pattern from, but identical in manufacturing process with the prediction subject product is calculated from measured data.例文帳に追加

予測対象製品とは配線パターンが異なるが製造プロセスが同じであるリファレンス製品について、実測データから月別致命欠陥密度を算出する。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board where an insulating material is covered in a gap and surrounding of a thick circuit pattern in a state of high quality and can inhibit a peeling defect.例文帳に追加

厚肉回路パターンの間隙や周辺に絶縁材が高品質な状態で被覆され、かつ剥離不具合を抑制することができる多層プリント配線板の提供。 - 特許庁

To provide a photomask which does not cause a pattern defect after exposure even when a glass substrate for the photomask contains air bubbles and other foreign matters inside.例文帳に追加

内部に気泡その他の異物を含むフォトマスク用ガラス基板であっても露光後にパターン欠陥が発生しないようなフォトマスクを提供することを技術的課題とする。 - 特許庁

To prevent occurrence of an image defect by suppressing deformation of a screen pattern when an image processing is applied to compensate misalignment for an image which is already screen processed.例文帳に追加

スクリーン処理済みの画像に対してレジずれを補正するための画像処理を施した場合におけるスクリーンパターンの変形を抑制し、画質欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a reflective mask capable of preventing deterioration of defect detection sensitivity in mask pattern inspection while reducing an influence of a flare in exposure.例文帳に追加

露光時のフレアの影響を低減しつつ、マスクパターン検査の際に欠陥検出感度の低下を防止できる反射型マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method in which an electrode broken part can be corrected by using a thin wire of about 10 μm and contamination of a periphery of a defect part is small.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

Only a defect image part is extracted by a difference processing of an absorption current image of inspection wiring and a reference wiring pattern image, and it is overlapped with an SEM image.例文帳に追加

検査配線の吸収電流像と、基準配線パターン像との差分処理で欠陥像部分のみを抽出し、さらにこれをＳＥＭ像に重畳する。 - 特許庁

In the extraction of planning pattern data, a predetermined range of respective X and Y including defect coordinates is calculated at every defect by a control calculator 110 and a cluster or cell data wherein the origin is present within a predetermined range is subsequently extracted from the planning pattern data read from a first magnetic disk drive 109a to form an output file.例文帳に追加

設計パターンデータの抽出は、欠陥一つ毎に、制御計算機１１０が欠陥座標を包含するＸ、Ｙそれぞれの所定範囲を算出し、次いで、第１の磁気ディスク装置１０９ａから読み出した設計パターンデータから、所定範囲内に原点が存在するクラスタまたはセルデータを抽出して出力ファイルを作成する。 - 特許庁

To prevent a defect from being transferred onto a wafer substrate, by reducing the thickness of an organic film for correcting an opening-like defect by treatment on a line even when performing a washing treatment at specified timing to suppress the variations in pattern line width after exposure, and by the decreased shielding capability in charged particle beams at the defect portion.例文帳に追加

露光後のパターン線幅の変動を抑えるべく所定タイミングで洗浄処理を行う場合であっても、その線上処理によって開口状欠陥を修正する有機膜の膜厚が減少し、その欠陥部分における荷電粒子線の遮蔽能力低下により、ウエハ基板上へ欠陥が転写されてしまうのを回避できるようにする。 - 特許庁

To provide a display device for which a more practical method for correcting a defect is easily and certainly applied and the method for correcting the defect by omitting a drawing process of an insulating film, preventing another short-circuitting in a wiring drawing process, making a drawn pattern a simple shape and preventing a wiring performance from lowering when correcting the defect.例文帳に追加

絶縁膜の描画工程を省略し、配線の描画工程で新たな短絡の発生を抑止し、描画パターンを単純な形状として欠陥修正による配線性能の低下を防止して、より実用的な欠陥修正を容易且つ確実に行うことを可能とする表示装置及び欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

The defect inspection method is thereby obtained which improves the inspection sensitivity to a short in the bottom part between wiring, and which detects even a short of a pattern in the bottom part between a plurality of wiring, which form a miniaturized pattern and are arranged in parallel.例文帳に追加

これにより、配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現することができる。 - 特許庁

To provide a phase defect correction method of a reflective mask and a manufacturing method of the reflective mask which can correct an absorber pattern accurately without damaging a reflective layer and leaving correction marks, and which can obtain a good transfer pattern without being affected by phase defects.例文帳に追加

反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに吸収体パターンを精度良く補正し、位相欠陥の影響をなくして良好な転写パターンが得られる反射型マスクの位相欠陥補正方法および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus 1 for correcting the defect in the pattern comprises a material supply section 43 for supplying the pattern correcting material onto a substation 43, a head section 44 having a needle 441 and a control section 5 having a memory section 52 in which a conversion table 521 is stored.例文帳に追加

パターン欠陥修正装置１は、サブステージ４２上にパターン修正材料を供給する材料供給部４３、針４４１を有するヘッド部４４、および、変換テーブル５２１が記憶された記憶部５２を有する制御部５を備える。 - 特許庁

To provide a device for correcting a defect of a reticle pattern and a correction method by which correction accuracy of a defective pattern of a reticle is improved, the efficiency is improved to reduce a correction time, and productivity is increased as well as the cost can be reduced.例文帳に追加

レチクルの欠陥パターンの修正精度を向上し、効率を向上させて修正時間の短縮を図り、生産性を向上させるとともにコスト低減を図れるレチクルパターンの欠陥修正装置および修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask defect repair device constituted so that the performance and the yield of a photomask are enhanced by efficiently eliminating the defective part of a chrome pattern caused while the chrome pattern laminated on a quartz plate is etched b using a laser light beam.例文帳に追加

石英プレート上に積層されたクロムパターンを食刻する中に発生したパターン欠陥部位をレーザー光で効率的に除去して、フォトマスクの性能及び収率を向上させるフォトマスク欠陥リペア装置を提供することである。 - 特許庁

In this defect detection device 1, two-dimensional image data of a swath which is a belt-like domain corresponding to one divided pattern among a plurality of divided patterns acquired by dividing a unit pattern on one die on a substrate 9 are acquired.例文帳に追加

欠陥検出装置１では、基板９の１つのダイ上において、単位パターンを分割して得られる複数の分割パターンのうち、１つの分割パターンに対応する帯状の領域であるスワスの２次元の画像データが取得される。 - 特許庁

In the defect detection method in the sheet-like printed matter (10) for continuously printing the same pattern on the continuous sheet, mask treatment (14) is made to a part (12) outside a pattern range that does not become a product, thus inspecting only a product section (11).例文帳に追加

連続するシート上に同一の絵柄が連続して印刷されるシート状印刷物（１０）の欠陥検出方法であって、製品とはならない絵柄範囲外の部分（１２）にマスク処理（１４）して製品部分（１１）のみ検査できるようにした。 - 特許庁

A driving pattern applying different voltages to pixel electrode rows adjacent across a source line of a TFT array is used, and a short circuit defect between adjacent pixel electrodes is detected by potential distribution of the pixel electrodes obtained by the driving pattern.例文帳に追加

ＴＦＴアレイのソースラインを挟んで隣接する画素電極列に異なる電圧を印加する駆動パターンを用い、この駆動パターンによって得られる画素電極の電位分布によって、隣接する画素電極間の短絡欠陥を検出する。 - 特許庁

The defect is formed in units of clusters, and formed by mixing at least, any two patterns among a first pattern formed by turns for each cluster, a second pattern formed of continuous clusters, and a third pattern formed of a specific part of an optical disk for each track or for each several tracks.例文帳に追加

欠陥は、クラスタ単位で形成され、かつ、１クラスタ毎に交互に形成される第１パターンと、連続したクラスタに形成される第２パターンと、光ディスクの特定部位に１トラック毎あるいは数トラック毎に形成される第３パターンのうち、少なくともいずれか２つのパターンを混在させて形成される。 - 特許庁

Prior to defect correction of the isolated pattern 4, a conductive coil spring 3 is formed at a tip of a conductive probe 1 by a focused ion beam-induced chemical vapor-grown metal film, and the probe is conducted with the isolated pattern 4 while reducing the contact pressure with a mask pattern by the coil spring 3 to prevent the charge-up.例文帳に追加

導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。 - 特許庁

A striped pattern of the phosphor formed on the substrate is imaged, and the direction of the striped pattern of the phosphor is detected from an image signal acquired by imaging, and image data on at least two spots related to the direction of the pattern from the image signal are compared, and the defect of the pattern is detected based on the comparison result.例文帳に追加

基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像し、撮像により得られる画像信号から上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出し、上記画像信号から上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較し、上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出することからなるパターン欠陥検査方法。 - 特許庁

As a result, a protected pattern free from defect can be formed by transferring the transfer layer 70 on an acceptor plate by using the donor film 80.例文帳に追加

結果的に、ドナーフィルム８０を用いてアクセプタ基板上に転写層７０を転写させて有機膜パターンを形成することにおいて不良パターンがない養護なパターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in stability with time, a development defect performance and a roughness characteristic, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element in which the influence of an alignment defect occurring in the vicinity of an end portion of a slit on the display of a contour portion of a display pattern can be prevented or reduced.例文帳に追加

スリットの端部近傍で発生する配向欠陥の、表示パターンの輪郭部の表示への影響を防止又は軽減することができる液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in coating defect performance, coating film thickness uniformity, and PEBS performance, and provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A range detected as the defect by image processing is defined by a marking pattern M by the projected image in the area RP among a surface of the workpiece W0 with regard to the projection.例文帳に追加

この投影により、ワークＷ０の表面のうち、画像処理により欠陥として検出された範囲が、領域ＲＰの投影像によるマーキングパターンＭにより明示される。 - 特許庁

To provide a suspension board assembly sheet and a method for manufacturing the same which enable the presence/absence of a defect of a conductor pattern to be determined with high precision through automatic optical inspection.例文帳に追加

自動光学検査により導体パターンの欠陥の有無を高精度で判定することを可能にするサスペンション基板集合体シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for accurately inspecting pattern defect by eliminating a difference in level between sensor data and reference data, and eliminating recognition errors in detecting defects.例文帳に追加

パターンの欠陥を検査する技術で、センサデータと参照データのレべル差を解消し、欠陥検出の際の誤認識を無くして、正確な欠陥検査を行う技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, the method manufacturing a semiconductor device which can prevent defect such as disconnection or the like caused by a step on a rewiring pattern in a multilayer wiring structure.例文帳に追加

多層配線構造における再配線パターンに、段差による断線等の欠陥が生じないような半導体装置を製造する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A defect automatic classification system recognizes an image 22 as an image of the side face of the most upper layer of the pattern by detecting an image having the width which is consistent with the calculated value.例文帳に追加

欠陥自動分類システムは、その算出された値と一致する大きさの幅の像を検出することで、像２２がパターン最上層側面の像であることを認識する。 - 特許庁

A user operates a determination mode switch 91 according to a pattern image for determining a color vision displayed on a screen, thereby determining presence/absence of a color vision defect of the user.例文帳に追加

スクリーン上に表示された色覚判別のためのパターン画像に従って、使用者が判別モードスイッチ９１を操作することにより、使用者の色覚障害の有無等が判別される。 - 特許庁

To provide an imprint mold which can manufacture a bit-patterned medium having a high S/N, suppress the occurrence of a pattern defect and manufacture the bit-patterned medium in a comparatively short period of time, and the manufacturing method thereof.例文帳に追加

高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium by which a projecting defect on a substrate surface is reduced and obstruction of pattern formation of a magnetic recording layer and damage of a stamper is prevented.例文帳に追加

基体表面の凸状欠陥を低減し、磁気記録層のパターン形成の阻害、およびスタンパの損傷を防ぐことが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in limit resolution, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect characteristics.例文帳に追加

限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、及びブリッジ欠陥特性に優れたパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁