「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

After correcting the inspected image on the basis of the detected skew angle, pattern matching processing is performed to detect a printing defect (S205, S206).例文帳に追加

検出されたスキュー角度に基づき検査画像を補正してから、パターンマッチング処理を行い、印刷欠陥を検出する（Ｓ２０５，Ｓ２０６）。 - 特許庁

To obtain a wafer macro-inspection device by which pseudo defect owing to the influence of a random pattern part is suppressed and a macro- inspection is executed with high precision.例文帳に追加

ランダムパターン部の影響による疑似不良を抑えることができ、高精度のマクロ検査が可能なウェハのマクロ検査装置を提供すること。 - 特許庁

By eliminating the step 1a from the device pattern 1 of the photomask, correction in the event of a defect at an edge thereof can be facilitated.例文帳に追加

また、フォトマスクのデバイスパターン１から段差１ａを消失させることで、そのエッジに欠陥が発生した場合の修正の容易化が図られる。 - 特許庁

To easily detect a defect that occurs when a desired pattern formed in a mold is transferred to a molding material to form a molded article.例文帳に追加

モールドに形成された所望のパターンを被成形材料へ転写して被成形物を形成する際に発生する欠陥を容易に検出する。 - 特許庁

In addition, the resist composition obtains a high resolution pattern since the dissolution speed is remarkably improved and can prevent substrate defect formation such as development inferiority.例文帳に追加

また、溶解速度が著しく向上することから高解像度なパターンが得られ、現像不良などの基板欠陥形成を防止できる。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING/ANALYZING DEFECT AND INSPECTION DEVICE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE PATTERN例文帳に追加

半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析方法、半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析システム、および、半導体デバイスパターンの検査装置 - 特許庁

This inspection method has a process S3 for extracting reference pattern information of an inspection object, a process S4 for forming a two-dimensional Fourier transform filter for canceling the reference pattern information based on the reference pattern information, and a process S5 for inspecting a defect pattern other than a reference pattern of the inspection object by using the two-dimensional Fourier transform filter.例文帳に追加

また、検査方法において、検査対象物の基準パターン情報を抽出する工程（Ｓ３）と、基準パターン情報に基づき、この基準パターン情報をキャンセリングする二次元フーリエ変換フィルタを形成する工程（Ｓ４）と、二次元フーリエ変換フィルタを使用し、検査対象物の基準パターン以外の欠陥パターンを検査する工程（Ｓ５）とを備える。 - 特許庁

A means 44 is provided for comparing a fatal region pattern 34 which is generated from design data for forming a wiring pattern and shows necessary indispensable regions corresponding to the center of the wiring pattern with an inspected pattern obtained from wiring patterns on an object under test, thereby detecting the defect from the non-coincidence of both patterns.例文帳に追加

配線パターンを形成するための設計データから生成され前記配線パターンの中心部に対応する必要不可欠な領域を示す致命領域パターンと、前記被検査物上の配線パターンから得た検査パターンとを比較して、両パターンの不一致により欠陥を検出する比較手段４４を有する。 - 特許庁

To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the circuit pattern inspection system, when a semiconductor wafer having a plurality of chip areas (dies) having the same circuit pattern is inspected, a detection image for each chip area is displayed on a monitor, and a circuit pattern defect is inspected based on the detection image for each chip area.例文帳に追加

回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像をモニタに表示し、チップ領域毎の検出用画像から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.例文帳に追加

透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁

To provide a method for forming an exposure pattern capable of detecting the connection failure of an exposure pattern unique to electron beam exposure technology with high accuracy in a Die to Die defect inspection just like a pattern failure caused by a process other than an exposure process.例文帳に追加

Die to Dieの欠陥検査において、電子線露光技術特有の露光パターンの接続不良を、露光プロセス以外のプロセスに起因するパターン不良と同様に精度良く検出することができる露光パターンの形成方法及び電子線露光装置の提供。 - 特許庁

In the manufacture of the defective mask for inspecting a defect in a pattern transfer mask used in a semiconductor lithography process, the mask pattern 4 that is the same as a pattern transfer mask to be inspected is formed on a mask substrate that becomes the base of the defective mask.例文帳に追加

半導体体リソグラフィ工程にて用いられるパターン転写マスクの欠陥を検査するための欠陥マスクを製造するのにあたり、その欠陥マスクの基となるマスク基板上に、検査対象となるパターン転写マスクと同一のマスクパターン４を形成する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ANALYZING DISTRIBUTION PATTERN OF SURFACE DEFECT ON THIN PLATE, COMPUTER PROGRAM AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

薄板の表面欠陥の分布形態解析装置、薄板の表面欠陥の分布形態解析方法、コンピュータプログラム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a method and device capable of high-accuracy inspection of the defect of a photomask having a light-shielding part, light-transmitting part and fine pattern part, in a short time.例文帳に追加

遮光部と、透過部と、微細パターン部とを有するフォトマスクにおいて、短時間でかつ高精度な欠陥検査を行うことができるを提供する。 - 特許庁

To prevent a double matrix type electrooptical device from having a display defect in striped pattern by contriving the shape of scanning lines.例文帳に追加

２重マトリクス方式の電気光学装置において、走査線の形状を工夫することにより、縞模様状の表示不良が生じるのを防止する。 - 特許庁

To provide a device and a method for defect correction capable of improving productivity, and to provide a pattern substrate manufacturing method that uses them.例文帳に追加

生産性を向上することができる欠陥修正装置、及び欠陥修正方法、並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for detecting defects in a periodic pattern realizing supersensitive defect detection without causing reduction in detectivity due to moire.例文帳に追加

モアレによって検出感度の低下をおこすことなく、高感度な欠陥検出を実現する周期性パターンの欠陥検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method capable of detecting a fine pattern with high resolution, and a device therefor, and a method of manufacturing a semiconductor substrate with a high yield.例文帳に追加

微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an evaluation pattern-generating method of a semiconductor memory, in which the defect can be effectively detected, and to provide a signal-obtaining tool suitable for the same.例文帳に追加

不良検出を効果的に行うことが可能な半導体メモリの評価パターン生成方法とそれに好適な信号取得治具を提供する。 - 特許庁

To provide an edge defect detecting method for accurately detecting edge defects whose density difference between a pattern is minute without use of a reference image.例文帳に追加

基準画像を用いずに、パターンとの濃度差が微小なエッジ欠陥をも精度よく検出することができるエッジ欠陥検出方法の提供。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device that embodies high resolution and a fast inspection speed for a technique for inspecting a pattern on a wafer by using an electron beam.例文帳に追加

電子ビームを用いたウェハ上パターンを検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a speedy circuit pattern inspection method and a device thereof which have short inspection preparation time and can perform defect determination by image detection for one die.例文帳に追加

検査準備時間が短く、１ダイの画像検出のみで欠陥判定のできる高速な回路パターン検査方式とその装置を提供する。 - 特許庁

To clarify the defect of a driving system by eliminating color variation in a low density imaging area and adjusting an apparatus with a corrected test pattern.例文帳に追加

低濃度の画像形成領域の色変動をなくし、補正されたテストパターンで装置を調整して、駆動系の持つ不具合を明確にするようにする。 - 特許庁

Image data of a pattern, etc., which is continuously present are erased by differentiating the image data in the fixed direction to detect only an image of the defect.例文帳に追加

画像データを一定方向に微分計算することにより、連続的に存在するパターン等の画像データを消去して、欠陥の画像のみを検出できる。 - 特許庁

To provide a proximity correction mask with high accuracy and no defect in a short period of time while keeping a process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加

複雑なＬＳＩパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a defect determination method capable of enhancing a yield of a substrate formed with an electrode pattern or the like, and capable of reducing a production loss cost.例文帳に追加

電極パターン等が形成された基板の歩留まりを向上させ、製造ロスコストを低減することが可能な欠陥判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for defect inspection, capable of reliably detecting defects regardless of the kind of the defects, and to provide a method of manufacturing a pattern substrate.例文帳に追加

欠陥の種別によらず、確実に欠陥を検出する欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an integrated substrate inspection apparatus which is automated and carries out all of EBR/EEW inspection, pattern defect inspection, and reticle error inspection on a substrate.例文帳に追加

基板のEBR/EEW検査、パターンの欠陥検査及びレティクルエラー検査を全部実施することができる自動化された統合基板検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern modifying apparatus which can modify a disconnected electrode with a thin line that has a size of about 10 μm, having less contamination at the peripheries of defect parts.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正装置を提供する。 - 特許庁

Then, the cluster affected by the same defect from an appearance pattern of past defective cluster is predicted and the data to be recorded on the cluster is alternated.例文帳に追加

そこで過去の欠陥クラスタの出現パターンから同じ欠陥の影響を受けるクラスタを予測し、そのクラスタに記録されるべきデータを交替させる。 - 特許庁

The undercoat of the light shielding layer is subjected to a third etching process by using the light shielding layer and the resist pattern for correction as a mask to correct the excess defect.例文帳に追加

遮光層及び修正用レジストパターンをマスクにして遮光層の下層に対して第３のエッチング処理を施し余剰欠陥箇所を修正する。 - 特許庁

To manufacture an uneven sheet, in which a regular fine uneven pattern is formed on the surface thereof, with high quality and high productivity at a high line speed, without producing a defect.例文帳に追加

表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁

As a result, it is made difficult for a user to recognize a pattern defect and dust deposited on the diffuser 16, and the effect of image quality degradation is suppressed.例文帳に追加

その結果、ディフューザ１６に付着したゴミやパターン欠陥をユーザが認識し難くすることでき、画質低下の影響を抑制することができる。 - 特許庁

To improve merchantability of a ball by forming a pattern with the sense of depth on the ball while suppressing the molding defect of the ball.例文帳に追加

ボールの成形不良を抑制しながら、ボールに奥行き感や深み感のある模様を形成できるようにしてボールの商品性を向上させる。 - 特許庁

The pattern formation defect region is calculated by performing convolution operation of the correspondence relation on the layout used for forming the step portion.例文帳に追加

前記パターン形成不良領域は、前記段差部の形成に用いたレイアウトに対して前記対応関係の畳み込み演算を行うことによって算出される。 - 特許庁

To provide a letterpress plate for letterpress printing, preventing a print defect, minimizing foreign matters sticking to the plate surface, and allowing printing of a high definition pattern with high accuracy.例文帳に追加

印刷不良を防ぎ、版表面に付着する異物を限りなく減らし、高精細パターンを高精度で印刷できる印刷用凸版を提供する。 - 特許庁

An image processing section 140 carries out the EBR/EEW inspection on the substrate based on the first image, and carries out the pattern defect inspection and the reticle error inspection based on the second image.例文帳に追加

イメージ処理部１４０は第１イメージから基板のEBR/EEW検査を実施し、第２イメージからパターンの欠陥検査及びレティクルエラー検査を実施する。 - 特許庁

To suppress effectively generation of pseudo-defects, in defect detection for detecting pattern defects on a sample surface, by inspecting a photographed image on the sample surface.例文帳に追加

試料表面の撮像画像を検査して試料表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検出において疑似欠陥の発生を効果的に抑制する。 - 特許庁

The defect of a wiring pattern of a lead of the film carrier tape for electronic component mounting is detected by transmitting transmission light to a film carrier tape for electronic component mounting.例文帳に追加

電子部品実装用フィルムキャリアテープに対して、透過光を透過させて、電子部品実装用フィルムキャリアテープのリードの配線パターンの不良を検知する。 - 特許庁

A detection part 6 detects defect of a wiring pattern 11 based on the image data acquired by imaging the printed board 1 using an imaging part 4.例文帳に追加

そして、プリント基板１を撮像部４により撮像して得られた画像データに基づいて検出部６によって配線パターン１１の欠陥を検出する。 - 特許庁

To avoid a transfer defect caused by a seam part of a flat plate-shaped metal mold when servo pattern layers are continuously manufactured using a roll-shaped stamper.例文帳に追加

ロール状スタンパを使用して連続してサーボパターン層を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避する。 - 特許庁

Accordingly, defect inspection can be performed in the state where a pattern of a polycrystal is not reflected on the image and a density image can be acquired only from a defective spot.例文帳に追加

このことにより、多結晶体の模様が画像に映ることがないようにし、欠陥個所のみ濃淡のある画像を得ることにより欠陥検査を行う。 - 特許庁