「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern inspection device which can perform stable detecting operation by reducing the influence of noise when detecting a defect that a repetitive pattern has without giving an ideal pattern in advance.例文帳に追加

あらかじめ理想パターンを与えることなく、繰り返しパターンに存在する欠陥を検出するにあたって、ノイズの影響を低減させて安定した検出動作を行うことが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device.例文帳に追加

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。 - 特許庁

A template 100 set for classifying the defect distribution of a certain substrate group and data groups 101 and 102 obtained by classifying whether or not the defect distribution of the substrate group is pertinent to a defect distribution pattern described in the template 100 are prepared.例文帳に追加

或る基板群の欠陥分布を分類するために設定されたテンプレート１００と、基板群の欠陥分布がテンプレート１００に記述された欠陥分布パターンに該当するか否かを分類して得られたデータ群１０１，１０２とを用意する。 - 特許庁

To provide a marking controller which marks a label with a pattern for identifying an inspecting device which has detected a defect in response to a plurality of defect detection signals in defect inspection of printed matter and attaches it onto the printed matter, or puts a mark on the printed matter.例文帳に追加

印刷物の欠陥検査において、複数の欠陥検出信号に対し、欠陥を検出した検査装置の判別が可能なパターンを、ラベルにマーキングし印刷物に貼付、あるいは印刷物にマーキングするマーキング制御装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that it is difficult to grasp occurrence tendency of a defect since a defect size becoming fatal is miniaturized with miniaturization of a pattern and manufacturing tolerance which is originally not a defect is detected when sensitivity of a fault inspecting device is improved for detecting the minimal defect in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて，パターン微細化に伴い，致命となる欠陥サイズも微小化しており，微細な欠陥を検出するために欠陥検査装置の感度を上げると，本来は欠陥ではない製造公差などを検出してしまい，欠陥の発生傾向を捕らえることが困難となる。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Such a recessed defect is corrected before the stage of forming a mask pattern-forming thin film on the translucent substrate.例文帳に追加

また、このような凹欠陥の修正を、透光性基板上にマスクパターン形成用の薄膜を形成する前の段階で行う。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for dry exposure excellent in development defect suppressing property, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

現像欠陥抑制性に優れるドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for detecting a defect by inspecting a microscopic circuit pattern with high resolution.例文帳に追加

本発明は，微細な回路パターンを高い分解能で検出し，欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

MASTER INFORMATION CARRIER DEFECT INSPECTION METHOD MAGNETIC FILM PATTERN TRANSFER METHOD USING MASTER INFORMATION CARRIER, AND MAGNETIC RECORDING/REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

マスタ情報担体の欠陥検査方法、マスタ情報担体利用の磁性膜パターン磁気転写方法および磁気記録再生装置 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a layer can be formed without any defect without being influenced by the step of a substrate pattern.例文帳に追加

下地パターンの段差の影響を受けずに何等欠陥なく層を形成可能な半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of precise inspection of defects independent of pitch of repeated pattern on a substrate.例文帳に追加

基板に形成された繰り返しパターンのピッチによらず高精度な欠陥検査が行える欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection device capable of detecting phase defect at the stage of mask blank that is a stage before depositing a absorber pattern.例文帳に追加

吸収体パターンを被着させる前のマスクブランクの段階で位相欠陥を検出することが可能な装置を提供する。 - 特許庁

Presence or absence of a foreign matter (dust etc.) or a defect (a flaw etc.) on a surface of a memory medium before transfer of a servo pattern is inspected (step S1).例文帳に追加

サーボパターン転写前の記憶媒体の表面に、異物（ゴミ等）又は欠陥（キズ等）があるか否かを検査する（ステップＳ１）。 - 特許庁

LINEARLY DRIVING DEVICE, VARIABLE SHUTTER DEVICE, BEAM SHAPING DEVICE, BEAM IRRADIATING DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁

Next, positions of the foreign matter or the defect on the surface of the memory medium and the servo pattern on the transfer master relative to each other are calculated (step S2).例文帳に追加

続いて、記憶媒体表面の異物又は欠陥と、転写マスタのサーボパターンとの相対位置を計算する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide a coated building plate made easy to repair the defect place of a pattern, which is printed by ink jet printing, in an inconspicuous state.例文帳に追加

インクジェット印刷した柄模様の欠損箇所を目立つことなく補修することが容易になる塗装建築板を提供する． - 特許庁

To provide a method for forming an electrode pattern, with which neither whisker-like defect nor residue of ink on a blanket is developed.例文帳に追加

ひげ状の欠陥およびブランケット上にインキの残留を生じさせることのない電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that can form fine patterns simply and effectively and is reduced in the occurrence of a defect.例文帳に追加

微細パターンを簡易で、効率よく形成することができ、かつ、欠陥の発生が少ないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To correct open circuit defect of a narrow width wiring pattern conveniently and precisely without damaging a wiring board.例文帳に追加

狭小幅配線パターンの断線欠陥の修正を配線基板にダメージを与えることなく、簡便で精度よく行うこと。 - 特許庁

To provide a method and a device for detecting a minute circuit pattern with high resolution to detect a defect.例文帳に追加

本発明は、微細な回路パターンを高い分解能で検出し、欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide technology provided with a method and a system for inspecting a defect in a circuit pattern on semiconductor materials.例文帳に追加

本発明は、半導体材料上の回路パターン中の欠陥を検査する、方法とシステムとを含む技術を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method of correcting a pattern defect on a substrate having a wide-ranging thickness and shape.例文帳に追加

広範囲の厚さと形状を有する基板上のパターン欠陥部を修正する装置および修正方法を提供する。 - 特許庁

Also by the structure that the perfect Cr shading part is the Cr recessing type, the dicing mark part is the Cr recessing type and the pattern part is the HT pattern, the resist shape on the wafer after the photomask pattern exposure is improved and defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained too.例文帳に追加

完全Ｃｒ遮光部はＣｒ後退型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することによっても、同様にフォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁

To provide a defect detecting device, a defect detecting method, and a computer program capable of correctly detecting defects such as dirt, flaw, and contamination, even when there is a uniformly continued background pattern.例文帳に追加

一様に連続している背景模様が存在する場合であっても、ゴミ、傷、汚れ等の欠陥を正しく検出することができる欠陥検出装置、欠陥検出方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

Logical sum of the defect map and mask data is then operated (ST15) and compared and then a decision is made whether a thin film having defects along the defect map can be utilized or not for a pattern along the mask data (ST16).例文帳に追加

次に、欠陥マップとマスクデータとろ論理和を演算処理して（ＳＴ１５）比較し、欠陥マップに沿った欠陥を有する薄膜がマスクデータに沿ったパターンに対して利用可能か判定する（ＳＴ１６）。 - 特許庁

Successively, a control unit included in the defect correction device generates a composite image for decision by compositing the defect region image with an image including information of a relevant equal potential plane of the repeated pattern.例文帳に追加

続いて、欠陥修正装置が備える制御部が、その欠陥領域画像と繰り返しパターンの該当する等電位面の情報を含む画像とを合成して判定用の合成画像を生成する。 - 特許庁

To provide a method of detecting a defect position of a semiconductor wafer, in which a defect such as chipping smaller than a notch and cracking in a wafer outer peripheral region off a pattern can be precisely detected.例文帳に追加

ノッチより小さい微細な欠けやパターンから外れたウエハ外周領域の割れなどの欠陥を精度よく検出することができる半導体ウエハの欠陥位置検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。 - 特許庁

To provide a working apparatus and a working method by which highly accurate working can be efficiently performed, to provide a defect correcting device and a defect correcting method and to provide a method for manufacturing a pattern substrate using the same.例文帳に追加

精度の高い加工を効率よく行なうことができる加工装置、加工方法、欠陥修正装置、及び欠陥修正方法それを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Thus, the electro-optical device having high display quality, wherein light scattering properties is enhanced and the adhesion defect and the pattern defect are eliminated can be obtained without increasing the number of the manufacturing steps.例文帳に追加

したがって、本発明は、プロセス数を増やすことなく、光散乱特性を向上し、膜の密着性およびパターン不良を解決した、表示品位の高い電気光学装置を得ることができる。 - 特許庁

To display an optimum image corresponding to a defect to be inspected, successively in an optimum display range and a contrast with an optimum arrangement pattern, when detecting a defect by observing an ultrasonic flaw detection image.例文帳に追加

超音波探傷画像を観察して欠陥を検出する場合において、検査する欠陥に応じて最適な画像を、最適な配置パターンで、最適な表示範囲とコントラストで順次表示する。 - 特許庁

Then the other resist pattern is inspected whether a defect is present in the same portion as the above defective portion or not, and if the defect is present in the same portion, the mask used for exposure is determined as defective.例文帳に追加

そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥があると判定する。 - 特許庁

To settle problems that, in defect correction of a colored pattern of a color filter and the like, the corrected defect parts become uneven to cause unmodified parts, and projection height of the corrected parts becomes higher.例文帳に追加

カラーフィルター等における着色パターンの欠陥修正時に、修正された欠陥部分が不均一となり未修正部分が出来たり、修正部分の突起高さが高くなったりする問題を解決する - 特許庁

To detect accurately a defect of a printed matter by preventing wrong detection caused by misregistration on a printed face, concerning an inspection device and an inspection method for detecting a pattern defect of the printed matter.例文帳に追加

印刷物の絵柄の欠陥を検出する検査装置及び検査方法に関し、印刷面の位置ずれによる誤検出を防止して、より精度良く印刷物の欠陥を検出できるようにする。 - 特許庁

In the pattern inspection of a semiconductor device, a basic pattern used for correcting the mounting position of a sample substrate on a supporting base is recorded previously, the positional shift of mounting is corrected using the basic pattern, the image of a pattern formed on the sample substrate mounted on the supporting base is acquired, and then the defect of the pattern is detected from the image thus acquired.例文帳に追加

半導体装置のパターン検査において、試料基板の支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる基本パターンを予め記録し、基本パターンを用いて載置位置のずれを補正して、支持台に載置された試料基板に形成されたパターンの画像を取得し、取得された画像から、パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a pattern-forming method with which a defect-free permanent pattern, such as a wiring pattern can be efficiently formed with high definition by suppressing distortion of an image provided on a pattern forming material and setting the total light transmittance and the haze value of a support in the pattern forming material within a prescribed range.例文帳に追加

パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、該パターン形成材料における支持体の全光線透過率及びヘイズ値を所定の範囲とすることにより、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Then, the transition of the featured value is calculated by a transition pattern converting part 24, and whether or not the transition pattern is matched with a reference transition pattern preliminarily stored in a reference transition pattern storage part 26 is judged by a transition pattern matching part 28, and the presence or absence of any defect is judged according to the result by a judging part 30.例文帳に追加

そして、この特徴量の移り変わりを遷移パターン変換部２４で求め、その遷移パターンが、予め基準遷移パターン記憶部２６に記憶してある基準遷移パターンにマッチするかどうかを遷移パターンマッチング部２８で判断して、判定部３０により、その結果に応じて欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide an aligner and a maintenance method for preventing defect of a pattern and lowering of throughput by realizing an improvement of maintenance properties and easiness of exchange of a pattern generation device.例文帳に追加

パターン生成装置のメンテナンス性の向上及び交換の容易性を実現し、パターンの欠陥及びスループットの低下を防止することができる露光装置及びメンテナンス方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition for obtaining a pattern having excellent linearity and not causing a defect, wherein light resistance and solvent resistance of the obtained colored pattern are excellent.例文帳に追加

パターンの直線性が良好で、カケが生じない良好なパターンが得られ、且つ、得られた着色パターンの耐光性が良好で耐溶剤性に優れる着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent picture quality deterioration due to a bright defect caused by disordered alignment of liquid crystal molecules in the vicinity of a protruding pattern resulting from surface energy interaction between the surface of the protruding pattern and the liquid crystal molecules.例文帳に追加

突起パターン近傍の液晶分子が、突起パターン表面と液晶分子との表面エネルギーの作用により配向が乱れ、光抜けをおこすことによる、画質劣化を防止する。 - 特許庁

To provide a photomask that can easily be manufactured and inspected, has small deterioration in transfer shape of a light shielding pattern, and can prevent a light shielding pattern defect due to discharge.例文帳に追加

簡易に作製及び検査することができ、遮光パターンの転写形状の劣化が小さく、かつ放電による遮光パターン欠陥を防止することができるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a fine pattern correction device which can correct the defect of a fine pattern in a short period of time, and is low in its price, small in its installation area and high in its correction quality.例文帳に追加

微細パターンの欠陥を短時間で修正することができ、装置価格が低く、装置設置面積が小さく、修正の品質が高い微細パターン修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭ ｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

A removing circuit pattern memory 105 stores an image Qc showing the circuit pattern of an object to be inspected as an area where a false defect is easy to be generated and the other area.例文帳に追加

除去回路パターン記憶部１０５には、検査対象物の回路パターンを、疑似欠陥が発生しやすい領域とそれ以外の領域とで示した画像Ｑｃが格納されている。 - 特許庁