「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.例文帳に追加

設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a color filter minimizing damage to a periphery of a defect to be removed when the defect of a VA pattern and a PS pattern on coloring a pixel is removed by a laser beam in a color filter used for a color liquid crystal display device.例文帳に追加

カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいて、着色画素上のＶＡパターンやＰＳパターンの欠陥をレーザ光で除去する際に、除去すべき欠陥の周辺に対してダメージを最小にする欠陥の修正方法を提供すること。 - 特許庁

COMPUTER-IMPLEMENTED METHOD FOR DETECTING AND (OR) SORTING DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN例文帳に追加

レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出し、かつ（あるいは）ソートするためのコンピュータに実装された方法 - 特許庁

An FIB induction deposition material is deposited along the pattern edge on the CAD adjacent to the black defect part.例文帳に追加

黒欠陥部に隣接するＣＡＤ上のパターンエッジに沿ってＦＩＢ誘導成膜物を成膜する。 - 特許庁

To provide a computer-implemented method for detecting a defect in a reticle design pattern.例文帳に追加

レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装された方法を提供する。 - 特許庁

CRYSTAL DEFECT RESTORATION METHOD, CRYSTAL PRODUCTION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, AND X-RAY DOSE DETECTION BODY例文帳に追加

結晶欠陥の回復方法、結晶体の作製方法、パターン形成方法、Ｘ線量の検出体 - 特許庁

An inspector (P) for determining the existence of the formation defect of the resist pattern 12 is positioned on the light source part S side.例文帳に追加

レジスト・パターン１２の形成不良の有無を判定する検査者(Ｐ)は、光源部Ｓ側に位置する。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method capable of performing correction, even if the width of defect on a substrate is small.例文帳に追加

基板上のパターンの欠陥幅が小さくとも修正が可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dynamic drive scheme to eliminate a defect dependent on the data pattern in a displayed image.例文帳に追加

表示された画像において、データパターン依存の欠陥を除去する動的駆動スキームを提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for pattern inspection which can efficiently perform accurate defect detection.例文帳に追加

正確な欠陥検出を効率的に行うことが可能なパターン検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To securely correct a defect of a pattern formed on a substrate surface and to shorten the correction time.例文帳に追加

基板面に形成されたパターンの欠陥修正を確実に行なうと共に修正時間を短縮する。 - 特許庁

To provide a method of designing a multilayer substrate that suppresses a defect in conduction and fracture of a conductor pattern.例文帳に追加

導体パターンの導通不良や破断を抑制できる多層基板の設計方法を提供する。 - 特許庁

The position of the defect in the mask can be found by scanning a smaller region in the pattern.例文帳に追加

マスクの欠陥の位置は、パターンのより小さい領域を走査することによって発見することができる。 - 特許庁

To provide a package on package to prevent a circuit pattern lift defect, and a method of fabricating the same.例文帳に追加

回路パターンの浮き上がり現象を抑制するパッケージオンパッケージ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an irregularity inspection device that prevents irregularity in film thickness of photoresist of an RGB pixel portion, pattern missing of a BM pattern, an RGB pattern and a PS/VA pattern of a blank glass portion, a mark, and a product type number, and a height defect.例文帳に追加

ＲＧＢ画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のＢＭパターン、ＲＧＢパターン、ＰＳ／ＶＡパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。 - 特許庁

The pattern shape of a wafer without any ground pattern is taken into the database of a pattern defect-inspecting machine as image data (S14) and is compared with the pattern shape of a wafer with the ground pattern, thus specifying a part where the failure in a pattern shape occurs and the exposure energy at that time (S15).例文帳に追加

下地パタンのないウェハのパタン形状を画像データとしてパタン欠陥検査機のデータベースに取り込み（Ｓ１４）、これと下地パタンを有するウェハのパタン形状を比較することによって、パタン形状の不良が発生する箇所およびそのときの露光量を特定する（Ｓ１５）。 - 特許庁

To provide a means for easily obviating a defect of the lift-off method being one of the forming methods of an electrode pattern, that is, a residual substance formed on a side face of a resist pattern without giving effect on the electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの形成法の１であるリフトオフ法の欠点、即ちレジストパターンの側面に形成される残渣を電極パターンに影響を及ばさず容易に取り去る手段を得る。 - 特許庁

To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加

表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁

To provide a test pattern with which a circuit pattern can be inspected for defects with high sensitivity in a semiconductor manufacturing process, a method for detecting defect, and a method for managing manufacturing process both of which use the test pattern.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける回路パターンの不良を高感度に検査可能なテストパターンと、これを用いた不良検出方法および製造プロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

To implement a highly sensitive defect inspection method in a pattern inspection apparatus by reducing the effect of the unevenness of the brightness of a pattern generated from the variation of the film thickness and the scattering of the pattern width.例文帳に追加

パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度な欠陥検査を実現する。 - 特許庁

To provide a method for fine pattern formation for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect in a method of effectively microfabricating a fine resist pattern by using a fine pattern forming material.例文帳に追加

微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To enable detection of a defect in a conductive pattern portion that faces an electrode, in a circuit pattern inspection device using the electrode capacitive-coupled to a conductor pattern in a non-contact state.例文帳に追加

非接触で導体パターンに容量結合する電極を用いた回路パターン検査装置において、電極と対向する導電パターン部分の欠陥を検出可能にする。 - 特許庁

To provide a metalized substrate manufacturing method capable of appropriately polishing a pattern via mechanical polishing and preventing a pattern shape defect from occurring without attaching a polishing waste to an end of a metalized pattern.例文帳に追加

メタライズパターンの端部に研磨屑を付着させることなく、適切にパターンを機械研磨でき、パターンの形状不良を抑制することが可能なメタライズド基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a control block 31, the presence or absence of a defect of the inspecting pattern is detected based on the comparison result of the data for pattern inspection with preset pattern reference data.例文帳に追加

そして、制御ブロック３１にて、予め設定されているパターン基準データと前記パターン検査用データとの比較結果に基づき前記被検査パターンの欠陥の有無を検出する。 - 特許庁

To provide a method for sorting a defect distribution which can accurately sort defect distributions on substrates, even when the positional displacement or size of a defect on a substrate to be inspected is changed with respect to a known defect distribution pattern as a sorting reference.例文帳に追加

分類の基準となる既知の欠陥分布パターンに対して検査対象となる基板上の欠陥の位置ズレや大きさの変化が発生する場合であっても、基板上の欠陥分布を精度良く分類できる欠陥分布分類方法を提供すること。 - 特許庁

The image feature amount is calculated from an inspection image of a semiconductor wafer, pattern region division is performed, and the inspection method and sensitivity (defect inspection threshold) preset for each pattern region are changed, thereby performing the defect inspection.例文帳に追加

半導体ウェハの検査画像から画像特徴量を算出し、パターン領域分割を行い，予めパターン領域毎に設定した検査方式及び感度（欠陥検出閾値）を切り替えて欠陥検出を行う。 - 特許庁

To eliminate the reduction of the throughput of defect inspection, and further, obtain a more improved mask yield and the more improved dimension-controllability of a transcription-pattern, etc., than conventional ones, by performing the division of the pattern in consideration of its defect redundancy.例文帳に追加

欠陥冗長性を考慮したパターン分割を行うことによって、欠陥検査のスループット低下を招くことなく、しかもマスク歩留まりや転写パターンの寸法制御性等を従来よりも向上させる。 - 特許庁

As a defect of a reticle pattern can be corrected by the defect correction mechanism while in-situ observing a transferred image by the optical emulation system, the reticle pattern can be efficiently corrected while avoiding a problem such as excessive correction.例文帳に追加

光学エミュレーションシステムにより転写像をその場観察しながら、欠陥修正機構によりレチクルパターン欠陥を修正できるので、過修正などの問題を回避しつつ、効率的にレチクルパターンの修正ができる。 - 特許庁

Since the minute defect of the mold which causes the destruction of the mold by an imprint and the defect of the transfer pattern can be reduced, the extension of the life of the mold and the formation of a good transfer pattern with defects reduced are made possible.例文帳に追加

これにより、インプリントによるモールド破壊や転写パターン欠陥の原因になるモールドの微小欠陥を低減できるため、モールドの長寿命化と欠陥の少ない良好な転写パターン形成が可能となる。 - 特許庁

A defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image are obtained, difference images between the obtained defect image and the reference image are generated by a control unit included in a defect correction device.例文帳に追加

多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像を取得し、欠陥修正装置が備える制御部により、取得された前記欠陥画像と前記参照画像の差分画像を生成する。 - 特許庁

The device for correcting a defect of a reticle pattern comprises: a lithography emulation system 48 having an optical emulation system 45; and a micromachining defect correction system 52 having a reticle defect correction mechanism 49 with a cantilever.例文帳に追加

レチクルパターン欠陥修正装置は光学エミュレーションシステム４５を有するリソグラフィエミュレーションシステム４８と、カンチレバーを備えたレチクル欠陥修正機構４９を有するマイクロマシニング欠陥修正システム５２から成る。 - 特許庁

To provide a simple defect inspection device and a defect inspection method for performing defect inspection on a substrate by using diffraction beams generated from a repetitive pattern of further fine intervals without shortening the wavelengths of illumination beams.例文帳に追加

照明光の波長を短くしなくても、さらに微細なピッチの繰り返しパターンから発生する回折光を利用して、基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

The presence or absence of a defect in a wiring pattern is confirmed by visual observation, image processing, or the like; defect information on the position, coordinates, size, or the like is confirmed, and the type of the defect is determined; when the defect is detected; and a machining method and machining conditions are set according to the type and state of the defect (step S1).例文帳に追加

目視又は画像処理等により配線パターンの欠陥の有無を確認し、欠陥を検出した場合は、その位置、座標及び大きさ等の欠陥情報を確認すると共に欠陥の種類を判定し、欠陥の種類及び状態に応じて加工方法及び加工条件を設定する（ステップＳ１）。 - 特許庁

A transfer pattern in which a white defect exists on at least a part is formed on the surface of a substrate on the basis of an original picture of a pattern to be transferred.例文帳に追加

転写すべきパターンの原画に基づいて、基板の表面上に、少なくとも１箇所に白欠陥が存在する転写パターンが形成されている。 - 特許庁

A pattern addition processing section 23 adds a prescribed pattern to a prescribed position of the image without any defect and of the image whose defective part is corrected.例文帳に追加

欠損箇所の無いイメージと欠損箇所が補正されたイメージの所定の位置に、パターン追加処理部２３によって予め定められたパターンが追加される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that forms a resist pattern in which defect is suppressed, with good lithography characteristics, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディフェクトの発生が抑制されたレジストパターンを良好なリソグラフィー特性で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode pattern forming method by an offset printing, in which a feathering defect developing at the printing of an electrode pattern by the offset printing is solved.例文帳に追加

オフセット印刷により電極パターンを印刷するときに生じるひげ欠陥を解消したオフセット印刷による電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Since stripping or floating of a DFR pattern formed before electroforming the second layer is suppressed, generation of pattern defect can be suppressed.例文帳に追加

したがって、２層目の電鋳前に形成するＤＦＲパターンの剥がれや浮きの不良の発生を抑制して、パターン欠陥の発生を抑制することができ。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that can reduce pattern defect in an imprint lithography method used for the manufacture of semiconductor device or the like.例文帳に追加

半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、パターン欠陥を低減することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the pattern hole 12a is covered with the paste film P* and the printing defect resulting from drying of the paste P in the pattern hole 12a is prevented.例文帳に追加

これにより、パターン孔１２ａをペースト膜Ｐ＊で覆うことができ、パターン孔１２ａ内のペーストＰの乾燥に起因する印刷不良を防止することができる。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting apparatus that has less erroneous detection and enables relatively easy defect inspection even in a wiring pattern having different wiring widths.例文帳に追加

異なる配線幅からなる配線パターンであっても、誤検出が少なく、比較的容易な欠陥検査を可能とするパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, excessive adhesiveness is not imparted to the conductive pattern, and offset defect that the conductive pattern is pasted to the rear side of the base membrane can be suppressed also.例文帳に追加

また、導電パターンに過剰な接着性が付与されることはなく、ベースフィルムの裏側に導電パターンが貼り付いてしまう裏移り不良も抑止できる。 - 特許庁

To prevent pattern collapse of a line end portion or a defect pattern as a whole and to improve the process margin in lithography and the manufacturing yield of a device.例文帳に追加

ライン端部のパターン倒壊若しくはパターン自体がディフェクトとなるのを防止し、リソグラフィのプロセスマージン及びデバイスの製造歩留まりの向上をはかる。 - 特許庁

Thus, the fatal region pattern and the inspected pattern are compared to detect the defect from the non-coincidence of both patterns and hence the defect of the necessary indispensable regions corresponding to the center of the wiring pattern can be detected at a high precision.例文帳に追加

このように、致命領域パターンと、検査パターンとを比較して、両パターンの不一致により欠陥を検出するため、大型の配線パターンであってもこの配線パターンの中心部に対応する必要不可欠な領域の欠陥を高精度に検出できる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method and device that can inspect a pattern defect formed on a substrate with high accuracy in a short time, and specially, sufficiently prevent degradation of detecting sensitivity and inspection accuracy of a defect to a boundary part of pattern density of an element.例文帳に追加

基板上に形成されたパターンの欠陥検査を高精度且つ短時間で行うことができ、殊に、素子のパターン疎密の境界部に対しても、欠陥の検出感度及び検査精度の低下を十分に防止できるパターン検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁