「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a transfer defect of a rugged pattern from a stamper to a resist and a defect caused by dust.例文帳に追加

スタンパからレジストへの凹凸パターンの転写不良、及びダストによる欠陥を防止する。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING DEFECT SIZE OF PATTERN USED TO EVALUATE DEFECT DETECTION SENSITIVITY AND METHOD OF CREATING SENSITIVITY TABLE例文帳に追加

欠陥検出感度評価用パターンの欠陥サイズ算出方法及び感度表作成方法 - 特許庁

Visual inspection is carried out to detect the defect such as a pattern defect and a foreign matter on the substrate.例文帳に追加

そして、基板上のパターン欠陥や異物の欠陥を検出する外観検査を行う。 - 特許庁

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.例文帳に追加

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁

BLACK INK FOR CORRECTING MINUTE COLORED PATTERN DEFECT, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用黒インキ、及び、カラーフィルター - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT IN WIRING PATTERN例文帳に追加

配線パターンの欠陥修正方法及び欠陥修正装置 - 特許庁

To provide a high-precision pattern position with less defect.例文帳に追加

欠陥が少なくかつ高精度なパタン位置精度を実現する。 - 特許庁

DEVICE FOR CORRECTING DEFECT OF RETICLE PATTERN AND CORRECTION METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

レチクルパターンの欠陥修正装置およびその修正方法 - 特許庁

APPARATUS, METHOD AND PROGRAM FOR ANALYZING DISTRIBUTION PATTERN OF SURFACE DEFECT例文帳に追加

表面欠陥の分布形態解析装置、方法、及びプログラム - 特許庁

IMAGE CORRECTING METHOD AND PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD USING SAME例文帳に追加

画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法 - 特許庁

LIQUID MATERIAL APPLYING UNIT AND FINE PATTERN DEFECT CORRECTING APPARATUS例文帳に追加

液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置 - 特許庁

MIRROR ELECTRON MICROSCOPE, AND PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT例文帳に追加

ミラー電子顕微鏡及びそれを用いたパターン欠陥検査装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF CONDUCTOR PATTERN例文帳に追加

導電体パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK PRODUCT AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査装置、フォトマスク製品の製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法 - 特許庁

In this semiconductor inspection method, a pattern image 24 and a defect image 28 by a defect (1) are composed to make a defect inspection image 29 (ST103).例文帳に追加

パターン画像２４と欠陥（１）による欠陥画像２８が合成され、欠陥検査画像２９が作製される（ＳＴ１０３）。 - 特許庁

The exposure mask is provided with a design pattern 3 which forms an actual device and a monitor pattern which possesses a defect having the smallest defect size exceeding a permissible range and further a defect detectable by a defect inspection apparatus and having the defect size within the permissible range together with the design pattern.例文帳に追加

露光マスクに、実デバイス形成用の設計パタン３と共に、許容範囲を越える最小の欠陥サイズを有する欠陥、さらには欠陥検査装置による検出が可能でかつ許容範囲内の欠陥サイズを有する欠陥を備えたモニタパタンとを設ける。 - 特許庁

A pattern for defect inspection formed of the circuit pattern and a produced defect of a predetermined dimension is formed on the semiconductor wafer, the pattern for defect inspection is detected, prior to the defect inspection of the circuit pattern, and the inspection sensitivity is adjusted, based on the inspection result.例文帳に追加

半導体ウェーハ上に回路パターンとともに所定寸法の作り込み欠陥からなる欠陥検査用パターンを形成し、該回路パターンの欠陥検査に先立って該欠陥検査用パターンを検出し、その検出結果に基づいて検査感度の調整を行う。 - 特許庁

To provide a pattern defect repairing device where a problem when a laser beam is adopted as a light source of an inspection device of a pattern defect, the defect of a pattern is inspected with higher resolution and the defect of the mask pattern can highly precisely be repaired.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a pattern defect repair apparatus capable of repairing the defect of a higher fineness mask pattern by solving the problem of the case a laser beam is employed as a light source for an inspection apparatus for the pattern defect and by inspecting the defect of the pattern with higher resolution.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

BLACK INK FOR CORRECTING DEFECT OF FINE COLORED PATTERN, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用黒インキ、及び、カラーフィルター - 特許庁

To provide a pattern defect inspection apparatus having stable inspection performance.例文帳に追加

検査性能が安定したパターン欠陥検査装置を実現すること。 - 特許庁

METHOD FOR REPAIRING DEFECT OF PATTERN FORMED ON TRANSFERRED MASK FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法 - 特許庁

BLACK INK FOR CORRECTING MICROSCOPIC DEFECT IN COLORING PATTERN, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用黒インキ、及び、カラーフィルター - 特許庁

PATTERN FOR EVALUATING WIRING DEFECT AND EVALUATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT例文帳に追加

半導体回路の配線欠陥評価用パターン及び評価方法 - 特許庁

CORRECTION METHOD AND CORRECTION COLOR FOR DEFECT PART OF COLOR FILTER PATTERN例文帳に追加

カラーフィルターのパターン欠陥部の補修方法および補修用カラー - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR PATTERN DEFECT INSPECTION AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM WITH RECORDED PATTERN DEFECT INSPECTION PROGRAM例文帳に追加

パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査システム並びにパターン欠陥検査プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION APPARATUS AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加

ムラ欠陥検査装置及び方法、並びにフォトマスクの製造方法 - 特許庁

REPAIR METHOD OF PATTERN DEFECT AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

パターン欠陥のリペア方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

A defect detecting part 15 determines whether a pattern defect is found based on the respective difference image detection results.例文帳に追加

欠陥検出部１５は、それぞれの差画像検出結果をもとに、パターン欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING DEFECT IN PATTERN SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法 - 特許庁

TREATING AGENT FOR DECREASING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST PATTERN DEFECT AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジストパターンディフェクト低減用処理剤及びそれを用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT IN PATTERN SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法 - 特許庁

The dynamic defect detection test pattern can contain a last-shift-launch test pattern and a broad-side test pattern, for example.例文帳に追加

動的欠陥検出テストパターンは、例えば、ラスト−シフト−ローンチテストパターン及びブロードサイドテストパターンを含むことができる。 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting method and a pattern defect correcting device capable of satisfactorily correcting pattern defects, and enhancing correction efficiency.例文帳に追加

パターン欠陥修正を良好に行なうとともに修正効率の向上を図ることが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

FIELD PATTERN DEFECT DETECTION METHOD IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

半導体製造工程におけるＦｉｅｌｄパターン欠陥検出方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR DEFECT CORRECTION, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板製造方法 - 特許庁

METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING DEFECT IN PATTERN ON OBJECT TO BE INSPECTED例文帳に追加

被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置 - 特許庁

COLORED COMPOSITION AND COLORED PATTERN DEFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

着色組成物およびこれを用いた着色パターン欠陥修正方法 - 特許庁

The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加

リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR INSPECTING PATTERN DEFECT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、パターン欠陥検査方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING FINE PATTERN DEFECT OF FLAT SURFACE SUBSTRATE AND CORRECTING DEVICE例文帳に追加

平面基板の微細パターン欠陥修正方法および修正装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE TO DETECT DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN例文帳に追加

レティクル設計パターン内の欠陥を検出するための方法および装置 - 特許庁