「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Lastly, a high PES value is used and the third defect pattern in which there is no defect sign is indicated.例文帳に追加

最後に，高いＰＥＳ値が使われていかなる欠陥のサインも存在しない第３欠陥類型を示す。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting device with in the bubbles of a base film are not erroneously recognized as the defect of a pattern.例文帳に追加

ベースフィルムの気泡をパターンの欠陥と誤認識することのないパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

In such a case, a pattern which also can be observed by the ion beam defect correcting device is selected as the pattern of alignment.例文帳に追加

このとき、位置あわせのパターンはイオンビーム欠陥修正装置でも観察可能なものを選んでおく。 - 特許庁

A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image.例文帳に追加

欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method capable of inspecting a defect by setting a size determination region having defect detection sensitivity corresponding to the size of a defect part automatically according to the pattern density.例文帳に追加

パターンの密度に応じて自動的に欠陥部分のサイズに応じた欠陥検出感度を有するサイズ判定領域を設定して欠陥検査できる欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

This condition is maintained at automatic defect classification time, after circuit pattern inspection.例文帳に追加

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

欠陥修正装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁

To prevent losing of a defect correcting material in a washing precess of carbon-based contamination in a method for correcting pattern defects and a pattern defect correcting device.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法及びパターン欠陥修正装置に関し、炭素系汚染の洗浄プロセスにおける欠陥修正材料の消失を防止する。 - 特許庁

The mask pattern are macroprojected on the wafer 9 and the macroprojected pattern on the wafer 9 are subjected to the defect inspection, by which the defect inspection of the mask is performed.例文帳に追加

ウエハ９上にマスクパターンを拡大投影し、ウエハ９上の拡大投影パターンを欠陥検査することによりマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁

This condition is maintained, when an automatic defect classification is performed after the circuit pattern inspection.例文帳に追加

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁

To inspect the presence/absence of a micro defect caused in a repeat pattern.例文帳に追加

繰り返しパターンに生じた微細な欠陥の有無を、短時間で検査する。 - 特許庁

A pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the thickness of the buffer film 3 on a portion below the pattern defect is thinned to form a film thin portion 5.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の下方にある部分の緩衝膜３の膜厚を薄くして膜薄部５を形成する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT GENERATED IN FINE PATTERN ON SUBSTRATE例文帳に追加

基板上の微細パターンに発生した欠陥修正方法と修正装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法 - 特許庁

DISPENSER DEVICE, PATTERN DEFECT CORRECTION DEVICE, AND METHOD FOR ELIMINATING CLOGGING OF DISPENSER例文帳に追加

ディスペンサ装置、パターン欠陥修正装置、ディスペンサの詰まり解消方法 - 特許庁

To enhance a function for detecting a defect of a pattern of a sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。 - 特許庁

The pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the line width of the absorbing film 4 of a portion adjacent in a horizontal direction of the pattern defect is made narrow.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の水平方向隣にある部分の吸収膜４のパターンの線幅を狭くする。 - 特許庁

Focused ion beam used as the pattern defect correcting means allows ion implantation into the buffer layer 3 of the portion having the corrected pattern defect.例文帳に追加

パターン欠陥修正手段として用いる集束イオンビームにより、パターン欠陥が修正された部分の緩衝膜３にはイオンが注入されている。 - 特許庁

To provide a pattern substrate defect correction method and device to reliably correct a defect, and to provide a pattern substrate manufacturing method.例文帳に追加

確実に欠陥を修正することができるパターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法を提供する。 - 特許庁

The image of the defect moves in the LACBED pattern if the specimen is slightly shifted. 例文帳に追加

LACBED図形の中の欠陥の像は、もし試料が僅かにずらされると動く。 - 科学技術論文動詞集

To provide a defect detecting unit, a defect detecting method capable of detecting a defect with high sensitivity, and a manufacturing method for a pattern substrate.例文帳に追加

高感度で欠陥検出をすることができる欠陥検出装置及び欠陥検出方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for detecting pattern defect in which the processing quantity in the detection of defect by the comparison of a pattern to be inspected with a non-defective pattern is reduced to improve the inspection speed.例文帳に追加

検査対象パターンを良品パターンと比較して欠陥を検出するときの処理量を削減して検査速度の向上を図ったパターン欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

If there is such a defect that the light shielding band pattern 16 overlaps a reticle pattern 15, that can be immediately detected from the exposure pattern 23.例文帳に追加

遮光帯パターン16がレチクルパターン15に重なるような不具合があると、この露光パターン23から直ちにこの不具合を検出できる。 - 特許庁

To decide whether the defect generated on the surface of a substrate is the defect that arises from the defect existing on a prescribed pattern or not, in the substrate which is manufactured so that a repeated pattern is transferred on the major surface.例文帳に追加

主面に、繰り返しパターンが転写されて製造される基板において、その表面に生じる欠陥が、所定パターンに存在する欠陥に起因した欠陥であるか否かを確定する。 - 特許庁

Additionally a defect transfer property onto the exposure substrate of defect seed generated at a pattern connection section or the like can be reduced.例文帳に追加

さらに、パターンつなぎ部などに生じた欠陥種の露光基板上への欠陥転写性を低減することができる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device which eliminates an erroneous detection of false defect macroscopically, and enables high defect detection accuracy microscopically.例文帳に追加

マクロには擬似欠陥の誤検出がなく、ミクロには欠陥検出精度が高いパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and an inspection method for simultaneously detecting a phase defect and a pattern defect or a foreign substance.例文帳に追加

位相欠陥と、パターン欠陥または異物とを、同時に検出可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

In the method for detecting the defect on the cyclic pattern, a defect is detected by comparing positions deviated for the cycle of the pattern, and when the detected defect has a size larger than the pattern cycle, a defective part is compared with a normal part, thereby detecting the size of the defect.例文帳に追加

周期的なパターン上における欠陥の検出方法であって、パターンの周期分ずれた位置同士を比較して欠陥を検出し、検出した欠陥がパターン周期よりも大きなサイズである場合に、欠陥部と正常部を比較して欠陥のサイズを検出する。 - 特許庁

To provide a method of determining a defect size of an evaluation pattern for evaluating defect detection sensitivity capable of accurately determining the defect size of the evaluation pattern formed on an evaluation mask used to evaluate the defect detection sensitivity of mask defect inspection systems, and a method of creating a sensitivity mask.例文帳に追加

マスク欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価するために用いられる評価用マスクに作り込まれた評価用パターンの欠陥サイズを精度良く算出することが可能な欠陥検出感度評価用パターンの欠陥サイズ算出方法及び感度マスクの作成方法を提供する。 - 特許庁

ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT AND OPTICAL FIBER例文帳に追加

照明光学系及びこれを用いたパターン欠陥検査装置及び光ファイバー - 特許庁

To display correlation between a defect and a circuit pattern.例文帳に追加

欠陥と回路パターンとの相関関係を表示するウエハ検査装置を提供する。 - 特許庁

To automatically inspect a defect of a pattern 5 having some kinds of gray areas.例文帳に追加

複数種類の濃淡域を有したパターン５の欠陥を自動的に検査する。 - 特許庁

REFLECTION IMAGE FORMING ELECTRON MICROSCOPE AND PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT例文帳に追加

反射結像型電子顕微鏡及びそれを用いたパターン欠陥検査装置 - 特許庁

EXTRACTION METHOD FOR DEFECT ON PATTERN AND DECISION METHOD FOR PARAMETER USE THEREFOR例文帳に追加

パターンの欠陥抽出方法及びこれに用いられるパラメータ決定方法 - 特許庁

If the specimen is slightly shifted, the image of the defect moves inside the LACBED pattern. 例文帳に追加

もし、試料が僅かにずらされると、欠陥像はLACBED図形の中で移動する。 - 科学技術論文動詞集

To obtain a foreign object and pattern defect inspecting apparatus which is capable of easily discriminating the types of foreign objects and pattern defects.例文帳に追加

異物や欠陥の種類を容易に区別することができる異物及びパターン欠陥検査装置を得る。 - 特許庁

To reduce the generation of a defect of a pattern in a coating development treatment system to form a pattern on a wafer.例文帳に追加

ウェハ上にパターンを形成する塗布現像処理システムにおいて，パターンに関する不具合の発生を低減する。 - 特許庁

The first defect detection for detecting the first true device defect, and the second defect detection for detecting the second true device defect and a pseudo defect together are performed by using inspection signals having each different signal pattern.例文帳に追加

異なる信号パターンの検査信号を用いることで、第１の真のデバイス欠陥を検出する第１の欠陥検出と、第２の真のデバイス欠陥と擬似欠陥とを合わせて検出する第２の欠陥検出とを行う。 - 特許庁

Discrimination between the VC defect and the surface defect is enabled by paying attention to the difference between displacement of a VC defect generation position to a hole pattern and displacement of a surface defect generation position, to thereby enable classification into each defect.例文帳に追加

穴パターンに対するＶＣ欠陥発生位置のずれ量と表面欠陥発生位置のずれ量との違いに着目することで，ＶＣ欠陥と表面欠陥とを弁別することを可能にし、それぞれに分類するようにした。 - 特許庁

To detect and inspect a micro circuit pattern with high sensitivity in defect inspection of a pattern to be inspected for inspecting a defect/foreign matter on the pattern to be inspected such as a semiconductor wafer, a liquid crystal display, a photomask or the like.例文帳に追加

半導体ウェーハや液晶ディスプレイ、ホトマスクなどの被検査パターンにおける欠陥・異物を検査する被検査パターンの欠陥検査において、微細な回路パターンを高い感度で検出し、検査する。 - 特許庁

To provide a template suppressing defect of a transfer layer, and a pattern forming method.例文帳に追加

転写層の欠陥を抑制するテンプレート及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加

チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

SYSTEM FOR INSPECTING/CORRECTING ELECTRODE LAYER PATTERN DEFECT OF CAPACITANCE TYPE TRANSMISSIVE TOUCH PANEL例文帳に追加

静電容量式透過型タッチパネルの電極層パターン欠陥検査修正システム - 特許庁

Thus, the device 1 can accurately detect a defect of the pattern of the other die while removing the defect of the pattern of the die as the reference.例文帳に追加

これにより、欠陥検出装置１では基準とされるダイのパターンの欠陥の影響を除きつつ、他のダイのパターンの欠陥を精度よく検出することができる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method capable of performing defect inspection simply, quickly and surely, even when performing the defect inspection of a pattern of a sample having a large region.例文帳に追加

大領域の試料のパターンの欠陥検査を行う場合であっても、簡便、迅速、確実に欠陥検査を行うことができるパターン検査方法を提供する。 - 特許庁