「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF ADJUSTING DEFECT INSPECTION DEVICE, EVALUATING METHOD OF ADJUSTING STATE OF DEFECT INSPECTION DEVICE, AND SETTING METHOD OF AZIMUTHAL ANGLE OF PATTERN例文帳に追加

欠陥検査装置の調整方法、欠陥検査装置の調整状態の評価方法、及びパターンの方位角の設定方法 - 特許庁

To facilitate the management of critical defects while restricting the number of defect inspections, in the defect inspections of a semiconductor integrated circuit pattern.例文帳に追加

半導体集積回路パターンの欠陥検査において、欠陥検査回数を制限しつつ、致命欠陥の管理を容易にする。 - 特許庁

In this defect feature, regions where the same pattern is repeatedly formed are overlapped, whereby a dot map of the defect is formed.例文帳に追加

この欠陥特徴において同じパターンが繰り返し形成される領域は重ね合わせ、欠陥のドットマップを作製する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device, with which the defect of a resist pattern on a metal sheet can be accurately and efficiently detected.例文帳に追加

本発明は、金属薄板上のレジストパターンの欠陥を精度よく効率的に検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To enable the defect of a complex pattern to be easily seen in a defect-inspecting device for semiconductor for comparing and inspecting a chip on a wafer.例文帳に追加

ウェーハ上のチップを比較検査する半導体用の欠陥検査装置において、複雑なパターンの欠陥を見易くする。 - 特許庁

The defect of wiring, that is formed by damascene method, is extracted by the pattern defect comparison inspection and SEM inspection and is identified to be a defect, that is ascertained by a process trace in advance.例文帳に追加

ダマシン法で形成された配線の欠陥をパターン欠陥比較検査およびＳＥＭ検査で抽出し、予め工程トレースによって判明した欠陥と同定する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a pattern defect capable of stably detecting a target defect in various processes by reducing the misdetection of grain or morphology or the effect of interference light intensity irregularity, and an inspection device of the pattern defect.例文帳に追加

グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

To eliminate an influence of a pseudo-defect generated by an error in a pattern inspection condition to enhance the sensitivity of pattern inspection.例文帳に追加

パターン検査条件の誤差により発生する疑似欠陥の影響を排除してパターン検査の感度を高めること。 - 特許庁

And the calculated classification pattern number for every positional relationship is used to calculate the pattern dependency of defect groups (step S9).例文帳に追加

そして、算出した位置関係毎の分類パターン数を用いて欠陥群のパターン依存度を算出する（ステップＳ９）。 - 特許庁

To make it possible to attain a fine pattern having an excellent shape by preventing the generation of pattern defect in double patterning.例文帳に追加

ダブルパターニングにおけるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

When some conductor pattern 31 has a short circuit defect, a current flows through the conductor pattern 31 to generate heat.例文帳に追加

導電体パターン３１に短絡欠陥がある場合は、その導電体パターン３１に電流が流れて発熱する。 - 特許庁

To solve the problem a defect signal is missed and sensitivity is degraded by light scattered by a pattern in the irregular circuit pattern portion.例文帳に追加

不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。 - 特許庁

A CPU 60 generates a user interface on a display unit 56 and sets a parameter for a serial data pattern and parameters for a data ministick jitter defect given to the serial data pattern, a random jitter defect, and a random jitter defect and at least one deviation crest factor emulation defect.例文帳に追加

ＣＰＵ６０は、表示器５６にユーザ・インタフェースを発生して、シリアル・データ・パターン用のパラメータと、シリアル・データ・パターンに与えるデターミニスティック・ジッタ欠陥、ランダム・ジッタ欠陥及び少なくとも１つの偏差クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥用のパラメータとを設定する。 - 特許庁

To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask.例文帳に追加

透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern evaluation method and a pattern evaluation device, capable of matching an objective pattern to a reference pattern with high accuracy in the pattern measurement using an SEM image, even when the pattern of the measurement object includes a relatively large defect.例文帳に追加

ＳＥＭ画像を利用したパターン計測において、計測対象のパターンに比較的大きな欠陥が含まれている場合でも、基準パターンとのマッチングを高精度に実施することができるパターン評価方法及びパターン評価装置。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and pattern inspection method for detecting with high sensitivity line width defect that generates error of line width in pattern transferred on a wafer.例文帳に追加

ウエハに転写されたパターンに線幅の誤差が発生する線幅欠陥を高感度に検出するパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that prevents a defect of transfer pattern.例文帳に追加

転写パターンの欠陥を抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate defect occurring to only a pattern of a local part by a simple technique.例文帳に追加

局所的な部分のパターンのみに生じる異常を簡易的な手法で解消する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING FAILURE AND DEFECT OF ROUGH PATTERN TRANSFERRED FROM ORIGINAL OF NANO IMPRINT LITHOGRAPHY例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィの原版から転写された凹凸パターンの欠損欠陥修正方法 - 特許庁

PACKAGE ON PACKAGE TO PREVENT CIRCUIT PATTERN LIFT DEFECT AND METHOD OF FABRICATING THE SAME例文帳に追加

回路パターンの浮き上がり現象を抑制するパッケージオンパッケージ及びその製造方法 - 特許庁

To provide a technology capable of detecting a circuit pattern defect at a high S/N ratio.例文帳に追加

高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる技術を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MASK, PATTERN SIZE MEASURING INSTRUMENT, MASK DEFECT CORRECTING DEVICE AND WAFER TRANSFER DEVICE例文帳に追加

半導体マスク、パターン寸法測定装置、マスク欠陥修正装置およびウェーハ転写装置 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁

Three points of reference patterns 3a, 3b, 3c are formed to surround a defect of a pattern 2.例文帳に追加

パターン２の欠陥を囲むように、３点の参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃを形成する。 - 特許庁

PATTERN EXCESS DEFECT REPAIRING METHOD OF PHOTOMASK USING PROBE OF ATOMIC FORCE MICROSCOPE例文帳に追加

原子間力顕微鏡の探針を用いたフォトマスクのパターン余剰欠陥修正方法 - 特許庁

To relax a dot defect in appearance when a pixel is caused to be the dot defect due to pattern failure or the like in a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置において、画素がパターン不良等で点欠陥になった場合に、その点欠陥の見え方を緩和させる。 - 特許庁

Measuring pattern data for acquiring measured pattern data of the pattern of the sample to be inspected is compared with developing pattern data for generating the developing pattern data corresponding to the measuring pattern data from design data of the sample to be inspected, so as to detect the defect of the pattern of the sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

In the process of peeling the imprint mold and the resin pattern, a part wherein the defect of the resin pattern occurs can selectively be made to be uncured, so that the occurrence of the defect of the transfer pattern can be made possible.例文帳に追加

よって、インプリントモールドと樹脂パターンを剥離する工程において、樹脂パターンの欠陥が発生する部位を選択的に未硬化とすることが出来、転写パターンの欠陥の発生を抑制することが可能となる。 - 特許庁

Good piece regions each formed with wiring of a prescribed pattern, and defective piece regions each formed with wiring of a defect pattern having a prescribed defect in the prescribed pattern are formed on an operation checking board.例文帳に追加

所定パターンの配線が形成される良ピース領域と、この所定パターンに所定の欠陥を設けた欠陥パターンの配線が形成される不良ピース領域とが、動作チェック用基板にそれぞれ形成されている。 - 特許庁

A pseudo defect is relieved by dividing a pattern into a stitching part and the other pattern portion on comparing the mask image to mask data and by decreasing the defect detection sensitivity in the stitching part than that in the pattern portion.例文帳に追加

マスク画像とマスクデータとの比較検査を行う際に、ステッチング部とそれ以外のパターン部とに分割して、ステッチング部の欠陥検出感度をパターン部よりも低くすることで、上記擬似欠陥を救済する。 - 特許庁

The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.例文帳に追加

また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁

The control device 6 includes an edge defect enhancement means 62 for enhancing a defect in contact with a continuous pattern edge by applying an edge defect enhancement filter to the imaged image and acquiring an edge defect enhancement value, and an edge defect detection means 63 for detecting an edge defect based on the edge defect enhancement value acquired by the edge defect enhancement means 62.例文帳に追加

制御装置６は、撮像画像にエッジ欠陥強調フィルタを適用して連続するパターンのエッジに接する欠陥を強調し、エッジ欠陥強調値を取得するエッジ欠陥強調手段６２と、エッジ欠陥強調手段６２で取得されるエッジ欠陥強調値に基づいてエッジ欠陥を検出するエッジ欠陥検出手段６３とを備える。 - 特許庁

The reticle is transferred into a pattern defect correcting device and only the black defect on the reticle is extracted and, for example, the defect coordinate data obtained during the reticle pattern inspection and the coordinates within the defective device are opposed, by which a processing size is defined.例文帳に追加

レチクルをパターン欠的修正装置内に搬送し、レチクル上の黒欠陥のみを抽出し、例えば、レチクルパターン検査時に得た欠陥座標データと欠陥装置内の座標とを相対させて、加工サイズを定義する。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting apparatus for precisely and efficiently detecting a defect, and inspecting a pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

精度よく効率的に欠陥を検出することができる、半導体デバイスのパターンを検査するパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

The system then prints the test pattern, scans the pattern and determines an image quality parameter to automatically discriminate an image defect.例文帳に追加

次に、システムはテストパターンを印刷し、パターンをスキャンし、イメージ品質パラメータを決定して自動的にイメージ欠陥を識別する。 - 特許庁

Consequently, a defect of the wiring pattern 22b can be found and the wiring pattern is eliminated, so that the end point of polishing can be confirmed.例文帳に追加

配線パタ−ン２２ｂの欠陥を見つけることができ配線パタ−ンが無くなることで研磨終点が確認できる。 - 特許庁

To provide a lost pattern for casting with which cast defect caused by defective gas vent is reduced in a lost pattern casting method.例文帳に追加

消失模型鋳造法において、ガス抜き不良による鋳造欠陥を低減できる鋳造用消失模型を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that avoids a defect of a transfer pattern caused by a defect in charging a mask material in a pattern formed on a template in an imprinting method.例文帳に追加

インプリント法において、テンプレートに形成されたパターンへのマスク材料の充填不良に伴う転写パターンの不良を回避する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correction of a white defect in a mask pattern, capable of precisely correcting the white defect without damaging a photomask by using near field light, and to provide a mask pattern.例文帳に追加

フォトマスクがダメージを受けることなく、精度よく、白欠陥の修正を可能とする、近接場光を用いたマスクパターンの白欠陥修正方法およびマスクパターンを提供する。 - 特許庁

To detect a defect at the optimal sensitivity for each pattern region by dividing the pattern regions precisely and dynamically and changing the defect inspection method and sensitivity for each region.例文帳に追加

パターン領域を精密かつ動的に分けて、領域毎に欠陥検査方式や感度を切り替えることによって、パターン領域毎に最適な感度での欠陥検出を可能とする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting defect of a resist pattern capable of easily detecting a defect caused only by a resist formation process by comparing the surface of a resist pattern efficiently.例文帳に追加

レジストパターン表面を効率よく比較し、レジスト形成工程に起因する欠陥のみを容易に検出するレジストパターンの欠陥検査方法及びその欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection method for performing rapid pattern inspection by suppressing detection of a pseudo defect included in a mask pattern and reliably detecting a real defect.例文帳に追加

マスクパターンに含まれる擬似欠陥の検出を抑制し、実欠陥を確実に検出しすることによって、迅速なパターン検査を行うことが出来るマスク検査方法を提供する。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

Consequently, the amount z of irradiation light which is optimal for inspection can be set and neither a detection omission of a pattern defect nor a dummy defect is caused to precisely perform the pattern inspection.例文帳に追加

これにより、最適な検査用照射光量ｚが設定できることになり、パターン欠陥の検出漏れや擬似欠陥も起きなくなって、精度よくパターン検査を行うことができる。 - 特許庁