「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a growth defect-free, high-quality silicon wafer in a stable supply pattern through identifying growth conditions further suitable for giving defect-free single crystal.例文帳に追加

無欠陥単結晶を得るのに一層好適な成長条件を突き止め、成長欠陥のない高品質なシリコンウェーハを安定供給できる製造方法を確立する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting method and device capable of accurately detecting a minute defect after specifying its location.例文帳に追加

微細な欠陥を、その位置を特定した上で正確に検出することができるパターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A depth of the internal defect is estimated, by applying a relationship between the defect depth and the period of the reference waveform to a previously recorded pattern table based on the obtained period.例文帳に追加

取得した周期に基づいて、欠陥深さと参照波形の周期との関係を予め記録したパターンテーブルに当てはめることにより内部欠陥の深さを推定する。 - 特許庁

To provide a repair method for a stencil type reticle capable of correcting a white defect part or black defect part generated in a transfer pattern formed by an electron beam scattering body.例文帳に追加

電子線散乱体によって形成された転写パターンに生じた白欠陥部又は黒欠陥部を修正できるステンシル型レチクルのリペア方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel surface defect inspection device and surface defect inspection method for accurately and almost simultaneously detecting small rugged defects and pattern-like defects.例文帳に追加

小さな凹凸欠陥や模様状欠陥を精度良くかつほぼ同時に検出することができる新規な表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and method for enhancing contrast to a fine defect and enhancing contrast regardless of the type, material, or shape of a defect.例文帳に追加

微細な欠陥に対するコントラストを高くしたり、欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くするパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

A feature extracting operator having a feature extraction pattern including a defect to be detected is held in advance and scanned to detect a defect image.例文帳に追加

あらかじめ検出すべき欠陥を含む特徴抽出パターンを有する特徴抽出演算子を保持しておき、これを走査することによって欠陥画像を検出する。 - 特許庁

Thus, even when a defect takes place in the pattern parts 1b, 1d, since the error accompanied with the defect is decreased, the processing accuracy can be enhanced.例文帳に追加

このようにすると、パターン部１ｂ、１ｄに欠陥が発生している場合であっても、欠陥に伴う誤差が小さくなるので加工精度を向上させることができる。 - 特許庁

The product is image-photographed, and is template-matched using the template 104 with the defect pattern as the template, and the presence of the defect is determined based on an evaluation value by the matching.例文帳に追加

製造物を画像撮影し、欠陥パターン付きテンプレート１０４をテンプレートとしてテンプレートマッチングを行い、マッチングさせた評価値から欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

A defect distribution on substrate is sorted by comparing the calculated feature amount with a set of features indicating the known defect distribution pattern (S304 to S306).例文帳に追加

その特徴量がなす組と、既知の欠陥分布パターンを表す特徴量がなす組との比較を行って、基板上の欠陥分布を分類する（Ｓ３０４〜Ｓ３０６）。 - 特許庁

Based on any one of infrared images, pattern analysis is performed by an infrared image defect part decision means 12 by using a density difference of an image to determine a defect part.例文帳に追加

赤外画像欠陥部位特定手段１２は、当該赤外画像のいずれか１枚に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。 - 特許庁

Upon determining whether the pattern formed on the photomask has a defect in an inspection step 6, the defect determination reference is varied according to the attribute information.例文帳に追加

検査工程６において、フォトマスク上に形成されたパターンが欠陥を有するか否かを判定するときにはこの属性情報に応じて欠陥判定基準が変更される。 - 特許庁

To accurately discriminate a defect at a pattern edge in a method for comparing a sample image with a target image and detecting the defect in the target image in units of pixel.例文帳に追加

サンプル画像とターゲット画像とを比較し、画素単位でターゲット画像の欠陥を検出する方法において、特にパターンのエッジ部における欠陥を正しく判別する。 - 特許庁

To inspect a pattern defect on a sample, to recognize the causal relationship between abnormality in an apparatus and defect inspection, and to increase operating efficiency and reliability.例文帳に追加

試料上のパターン欠陥を検査することができ、且つ装置異常と欠陥検査の因果関係を認識することができ、装置稼動率及び信頼性の向上をはかる。 - 特許庁

To provide a dressed building plate capable of not making a defect position conspicuous and easily repairing it even if the defect is generated on a design pattern formed by ink jet coating.例文帳に追加

インクジェット塗装により形成された意匠模様に欠陥が生じてもこの欠陥箇所を目立たず容易に補修することが可能な化粧建築板を提供する。 - 特許庁

To favorably detect inner defects in the entire area of a glass substrate including an inner defect near the main surface, the defect giving a large influence on pattern transfer to a transfer material.例文帳に追加

被転写体へのパターン転写に影響の大きな主表面近傍の内部欠陥を含む、ガラス基板の全ての領域の内部欠陥を良好に検出できること。 - 特許庁

The defect inspection method for a resist pattern includes (a) a step of forming the resist pattern on a semiconductor substrate, (b) a step of etching the semiconductor substrate with the resist pattern used as a mask, and (c) a step of inspecting the etched semiconductor substrate for a defect as a substitute of the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの欠陥検査方法は、（ａ）半導体基板上にレジストパターンを形成する工程と、（ｂ）前記レジストパターンをマスクとして用いて半導体基板をエッチングする工程と、（ｃ）レジストパターンの代替えとして前記エッチング後の半導体基板の欠陥検査を行う工程を備える。 - 特許庁

To accurately recognize a defect even under presence of a part of different pattern or a partial shading part.例文帳に追加

パターンの違い部分や、部分的な濃淡部分の存在のもとでも、欠陥を正確に認識できるようにする。 - 特許庁

To solve the problem of failures in search processing due to foreign matters sticking on a sample or a pattern defect in a template matching processing.例文帳に追加

テンプレートマッチング処理において、試料に付着した異物やパターン欠陥によってサーチ処理を失敗する。 - 特許庁

To detect easily a fine pattern defect, while reducing a storage capacity required for an image storage part.例文帳に追加

画像記憶部に要求される記憶容量を低減しつつ微細なパターンの欠陥検出を容易に実現する。 - 特許庁

To rationally determine whether a circuit board is non-defective by detecting a latent defect of a conductive pattern of the circuit board.例文帳に追加

回路基板の導電パターンの潜在的な不良を検出して良否を合理的に判断できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring circuit board, by which the defect of a wiring pattern can accurately be detected.例文帳に追加

配線パターンの不良を正確に検出することが可能な配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The determination means determines existence of a defect on the pattern based on the signal from the detection means.例文帳に追加

前記判定手段は、前記検出手段からの信号に基づいて前記パターンの欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

Furthermore, in the scanning charged particle microscope for semiconductor test and semiconductor measurement, by using a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like by using the image after image restoration, measurement precision improvement and high precision of defect detection and defect classification or the like become possible.例文帳に追加

さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁

A pattern collation part 18 compares the model of the source code object storage part 15 with defective pattern information of a defective pattern information storage part 16, and outputs a corresponding object as defect detection information 9.例文帳に追加

パターン照合部１８は，ソースコードオブジェクト記憶部１５のモデルを不良パターン情報記憶部１６の不良パターン情報と比較し，該当するオブジェクトを不良性検出情報９として出力する。 - 特許庁

A hole pattern or the like free from a development defect, the pattern having a crosslinked hardened layer 5 on the surface of the resist pattern and having a size less than the resolution limit of the exposure wavelength is formed by developing the coating layer 4.例文帳に追加

被覆層４を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層５を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 - 特許庁

To provide a method of forming a film pattern, which inhibits the occurrence of a defect such as disconnection, shorting, or the like in a film pattern formed by an ink jet method, a forming apparatus for the film pattern, and electrically conductive film wiring and the like using the same.例文帳に追加

インクジェット法により形成される膜パターンに、断線や短絡等の欠陥の発生を抑止する膜パターンの形成方法及び形成装置、並びに導電膜配線等を提供する。 - 特許庁

For example, a lateral line defect pattern 2 of a central part is displayed by dots of a relatively slightly dense halftone display, and lateral line defect pattern 2 except them is displayed by dots of a halftone display near a relatively white display.例文帳に追加

たとえば、中央部の横方向線欠陥パターン２を相対的にやや濃い中間調表示のドットとし、それ以外の横方向線欠陥パターン２を相対的により白表示に近い中間調表示のドットとする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern medium using an imprint method capable of preventing a resist pattern defect generated by gas taken between an interface of an imprinting mold and a resist layer and a resist pattern defect generated by a bubble probably generated in the resist film and on the resist surface.例文帳に追加

インプリント用モールドの界面とレジスト層との間に取り込まれた気体によるレジストパターン欠陥や、レジスト膜中、レジスト表面に発生する可能性のある気泡によるレジストパターン欠陥の発生を防止できるインプリント法を用いたパターン媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of attaining a defect-free beautiful appearance of defect-free such as a double truck pattern, a melange pattern, a roll pattern on a strip steel by continuously coating the continuous traveling strip steel in horizontal path with a low viscosity coating material to have a thick film using a multistage natural roll coater having a grooved applicator roll.例文帳に追加

水平パスで連続走行する帯状鋼板に対し溝切りのアプリケーターロールを有する多段ナチュラルロールコーターを用いて低粘性の塗料を厚膜に連続塗布し、ダブルトラック、霜降り状模様、ロール目模様等の外観欠陥のない美麗外観を得る方法を提供する。 - 特許庁

By having a structure in which a perfect Cr shading part is a self-alignment type, a dicing mark part is a Cr recessing type and a pattern part is a HT pattern, the resist shape on the wafer after photomask pattern exposure can be improved and the defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained.例文帳に追加

完全Ｃｒ遮光部はセルフアライン型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することにより、フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁

Further in the pattern forming apparatus 1, additional coating data 45 is formed by detecting the existence and the position of defects such as a white defect, a black defect or the occurrence of projecting part and additional coating is carried out on the defect position based on the additional coating data 45.例文帳に追加

また、パターン形成装置１は、基板上の白欠陥、黒欠陥、突起等の欠陥の有無及び位置を検出し、追加塗布データ４５を作成し、当該追加塗布データ４５に基づいて、欠陥箇所に追加塗布を行う。 - 特許庁

Subsequently, the lattice defect region 4 is irradiated with laser light to pattern a P type region 5 in the lattice defect region 4 as the activated region of the surface layer in the lattice defect region 4 (Fig. 2(b)).例文帳に追加

この後、格子欠陥領域４にレーザ光を照射することにより、格子欠陥領域４に当該格子欠陥領域４の表層部を活性化させた活性化領域としてのＰ型領域５をパターン形成する（図２（ｂ））。 - 特許庁

To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加

外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁

The defect detection method comprises an image acquiring process for capturing the image of the object to be inspected having an identical sequence of pattern, and a defect emphasizing process for performing the defect emphasizing processing to the captured image.例文帳に追加

欠陥検出方法は、同一繰り返しパターンを有する被検査物を撮像して画像を取得する画像取得工程と、取得した画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程とを有する。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

To provided an improved highly sensitive optical inspection system for detecting a defect on a diffraction face including a surface pattern.例文帳に追加

表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出するための改良された高感度光学検査システムの提供 - 特許庁

To provide a method enabling identification and enrichment of combination pattern specific to cell and dissolving defect of conventional technique.例文帳に追加

細胞特異的コンビネーションパターンの同定及び富化を可能にし、従来技術の欠点を解消する方法の提供。 - 特許庁

To prevent casting defect caused by thermal decomposition of a pattern, in a simple process.例文帳に追加

簡単な工程で、模型の熱分解に起因する鋳物欠陥を防止できる、改良された消失模型鋳造法の提供。 - 特許庁

To enable a defect inspection pattern circuit to detect a defective contact for both a p-side contact and an n-side contact.例文帳に追加

欠陥検査パターン回路に関し、ｐ側コンタクト及びｎ側コンタクトのいずれのコンタクト不良も検出可能にする。 - 特許庁

To provide a resist development method and a resist development apparatus that can stabilize pattern dimensions and can suppress the defect generation.例文帳に追加

パターン寸法を安定させ、かつ欠陥発生を抑制させるレジスト現像方法およびレジスト現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit pattern defect inspection method of substrate capable of reducing the risk of wrong measurements and reducing the measurement time.例文帳に追加

誤測定の可能性を減少させ、測定時間を節減する基板の回路パターン欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁