「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加

パターン検査装置１において、比較検査部１０は、被検査画像Ｓと参照画像Ｒとを比較して被検査画像Ｓにおける欠陥候補領域Ｄを特定する２値化された欠陥候補画像Ｑを生成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter by which an exposure defect pattern due to light interference hardly occurs in a region of a gradation mask where a semitransparent region and a transmissive region adjoin each other.例文帳に追加

本発明は、階調マスクの半透明領域および透過領域が隣接している領域で光の干渉による露光不良パターンが生じ難いカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To solve a problem about a temporal and spatial coherence generated by using a laser as a light source for lighting to inspect a defect of a pattern quickly at high sensitivity, using the laser of high luminous energy.例文帳に追加

照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。 - 特許庁

A computer is made to execute adjustment processing to add change to the features of the defect distribution pattern in the template 100, and to evaluate the validity/invalidity of a changed template 107 by using the data groups 101 and 102.例文帳に追加

テンプレート１００における欠陥分布パターンの特徴に変更を加えるとともに、データ群１０１，１０２を用いて変更後のテンプレート１０７の良否を評価する調整処理をコンピュータに実行させる。 - 特許庁

In addition to an examining processing part 5 for pattern for examining the propriety by applying mask processing at the position of through hole or photo via/laser via, an examining processing part 6 for via is provided for recognizing a defect peculiar for the position of photo via/laser via.例文帳に追加

スルホールやフォトビア・レーザビアの位置にマスク処理を施して良否検査を行うパターン用検査処理部５に加えて，フォトビア・レーザビアの位置に特有な欠陥を認識するためのビア用検査処理部６を設けた。 - 特許庁

To reduce a defect, which is caused by uneven thickness and residual gas in a film residue of a resist film having an uneven pattern transferred thereon, in a method for carrying out an nano-imprint by inkjet applying an ink droplet made of resist material.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、凹凸パターン転写されたレジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体による欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁

To obtain a defect inspection method which improves inspection sensitivity to a short in a bottom part between wiring, and which detects even a short of a miniaturized pattern in a bottom part between a plurality of wiring arranged in parallel.例文帳に追加

配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現する。 - 特許庁

This pipe magnetic powder flaw detector 10 comprises an inspection liquid tank 20, a pipe vertical moving device 30 and an electrode moving device 40, and magnetizes the pipe 1 in an inspection liquid to form a magnetic powder pattern at a weld defect part.例文帳に追加

パイプ磁粉探傷装置１０であって、検査液槽２０と、パイプ上下移動装置３０と、電極移動装置４０とからなり、パイプ１を検査液中で磁化し、溶接欠陥部に磁粉模様を形成させるもの。 - 特許庁

To inspect an element over the entire area without excluding its external frame part and separation part from the inspection area even if the circuit pattern of an IC is present in the background of a defect such as foreign matter.例文帳に追加

異物などの欠陥の背景にＩＣの回路パターンがあっても、エレメントの外枠部や分離部を検査領域から除外せずに全域にわたって検査できる外観検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste capable of effectively suppressing peeling-off defect in peeling a base membrane and of suppressing offset of a conductive pattern, and a manufacturing method of a ceramic electronic parts.例文帳に追加

ベースフィルムを剥離する際の剥離不良、及び導電パターンの裏移りを効果的に抑制できる導電性ペースト、及びこのような導電性ペーストを用いたセラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A defect judging part 22 judges whether the respective through-holes are defective or not based on comparison result between hole information concerning the through-hole which exists in the object pattern division area extracted as the defective candidate area among the plurality of object pattern division areas and hole information concerning the through-hole which exists in the master pattern area corresponding to the defective candidate area.例文帳に追加

さらに、欠陥判定部２２は、複数のオブジェクトパターン区分領域のうち欠陥候補領域として抽出されたオブジェクトパターン区分領域に存在する貫通孔についての孔情報と、欠陥候補領域に対応するマスターパターンの領域内に存在する貫通孔についての孔情報との比較結果に基づいて、各貫通孔が欠陥であるか否かを判定する。 - 特許庁

Then the arithmetic processing unit compares mask pattern inspection data to the mask pattern image data so as to specify a defective portion of the mask pattern, generates positional information of the defective portion, and identifies a tendency of occurrence of the defect on the photomask, based on the positional information and the density information for the respective plurality of small regions.例文帳に追加

そして、前記演算処理部（２５）は、前記マスク検査用データ（１３）と前記マスクパターン画像データとを比較して前記マスクパターンの欠陥部分（Ｅ１〜Ｅ４）とし、前記欠陥部分（Ｅ１〜Ｅ４）の位置情報を生成し、前記位置情報と前記複数の小領域ごとの密度情報（［Ａ］〜［Ｃ］）とに基づいて、前記フォトマスクに発生する欠陥の発生傾向を特定する。 - 特許庁

To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁

The display testing device successively generates a pattern switching on one part per once imaging out of a pixel group of a display equivalent to one pixel of a camera, and uses a display testing method for detecting the defect of a region equivalent to each pixel of the camera from image data for imaging each pattern.例文帳に追加

本発明は、カメラの１画素に相当するディスプレイの画素群のうち一度の撮像につき１箇所のみ点灯するパターンを逐次生成し、各パターンを撮像した画像データからカメラ各画素に相当する領域の欠陥を検出するディスプレイ試験方式を使用することを特徴とするディスプレイ試験装置に関する。 - 特許庁

To provide a method of inspecting pattern defects which automatically detects coating defects in fluorescent material coated on a glass substrate of a plasma display or the like, without being influenced by a coating pattern, such as a lattice-like fluorescent coating film, is easily installed in a production line of a panel, and realizes low-priced and high-speed defect inspection.例文帳に追加

プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を格子状蛍光体塗布膜等の塗布パターンに影響されず高感度に自動検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a letterpress having few pattern defects when manufacturing an organic electronic device such as an organic electroluminescent element at a letterpress printing method, an inspection method for a letterpress for implementing in advance to preventing of the pattern defect, a manufacturing method for an organic electronic device using the same letterpress, and an organic electronic device using the same letterpress.例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス素子をはじめとする有機電子デバイスを凸版印刷法で作製する際、パターン欠陥の少ない凸版、及びパターン欠陥を防止するために予め行う凸版の検査方法、並びにそれを用いた有機電子デバイスの製造方法並びにそれを用いた有機電子デバイスを提供する。 - 特許庁

Then, the wiring width concerned is compared with a wiring width at a reference position corresponding to the measurement position of a confirming pattern that becomes a comparison reference being stored in a reference image memory 7 by a comparison circuit 8, and the presence or absence of a defect in the pattern to be inspected is judged based on a compared result by a judgment circuit 9.例文帳に追加

そして、比較回路８にて当該配線幅と基準画像メモリ７に記憶されている比較基準となる良品パターンの前記測定位置と対応する基準位置での配線幅とが比較され、判定回路９で比較結果に基づいて被検査パターンにおける欠陥の有無が判定される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter, which has excellent development property without occurring defect or stripping off of pixel pattern in developing stage and excellent mechanical strength after film-forming, and also gives a good pattern shape and further does not generate defective display such as image seizing in using for a display panel.例文帳に追加

現像時の画素パターンに欠落や剥がれを生じることがなく、現像性に優れ、かつ成膜後の機械的強度が優れ、またパターン形状も良好であり、しかも表示パネルにしたとき焼き付き等の表示不良を生じることがないカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The image processing inspection part 50 composes a composite image by synthesizing an image of dicing line, which divides a circuit pattern at the surface of the wafer, into an image of rear surface of the wafer imaged by the rear surface imaging device 130 and detects the position of the defect based on the composite image with corresponding to the position of each circuit pattern.例文帳に追加

画像処理検査部５０は、ウエハの表面において回路のパターンを分割するダイシングラインの画像を裏面撮像装置１３０により撮像されたウエハ裏面画像に合成して合成画像を生成し、この合成画像に基づいて欠陥の位置を各回路パターン位置と対応させて検出する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To enhance reliability and productivity of semiconductor devices by preventing anomalous electrostatic charging of a circuit pattern, and controlling electrostatic charge voltage to a desired value uniformly in an electron-beam irradiation region in a method of inspecting the position and the type of defect on a wafer having a circuit pattern using a charged-particle beam during a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて、半導体製造工程途中の回路パターンを持つウエハ上の欠陥の位置や種類を検査する方法において、回路パターンの異常な帯電を防ぎ、電子線照射領域を均一に、所望の帯電電圧に制御し、半導体装置の信頼性および生産性を高める。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The coating method comprises the steps of: applying a primer coating to a surface of the object to be coated having a base metal defect; then applying a protrusion/recess pattern coating onto the coated surface using a pigmented coating (A); and further applying a multi-color pattern coating in spots onto the coated surface using two or more colors of pigmented coatings (B).例文帳に追加

素地欠陥を有する被塗物の表面に、プライマー塗装を行い、次いでその塗面上に着色塗料（Ａ）を用いた凹凸模様塗装を行い、さらにその上に２色以上の着色塗料（Ｂ）を用いた斑点状の多色模様塗装を行なうことを特徴とする塗装方法。 - 特許庁

To provide ink for correcting a minute defect in a colored pattern and its method for suppressing fluctuation of amount and size of application to small extent, preventing an application implement from being clogged, preventing the occurrence of a defect in color mixing and reduction of intensity in coloring due to spread of an applied spot after application, and achieving continuous use of the ink for many hours.例文帳に追加

塗布量及び塗布サイズの変動が小さく、塗布器具の目詰まりが発生し難く、且つ、塗布後に塗布スポットが広がることによる混色欠陥の発生や着色濃度の低下が起こり難い、長時間連続使用可能な微小着色パターン欠陥修正用インキ、及び微小着色パターン欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a production method of a metal-ceramic joining substrate in which an appearance defect of plating can be ameliorated and the adhesion of plating can be assured by improving the linearity of a pattern and preventing the occurrence of non-plating.例文帳に追加

パターンの直線性を改善し且つ不めっきの発生を防止することにより、めっきの外観不良を改善するとともに、めっきの密着性を確保することができる、金属−セラミックス接合基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor member whose productivity is excellent and whose quality is high without the influence of any flow pattern defect or COP(crystal originated particles) at the time of obtaining a single crystal semiconductor layer whose crystallinity is excellent on a substrate such as an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁性基板等の基体上に結晶性に優れた単結晶半導体層を得るうえで、生産性等に優れ、フローパターンディフェクトやＣＯＰ（Crystal OriginatedParticles）の影響を受けない高品質な半導体部材を提供する。 - 特許庁

To prevent operation time necessary for correction of a defective pixel from increasing and to securely perform correction such as cutting or short circuiting of a wiring pattern, by avoiding emission of a laser beam to a defect source such as a foreign matter.例文帳に追加

異物などの欠陥源にレーザ光を照射することを回避することによって、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正を確実に実行する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition capable of improving roughness characteristics, an exposure latitude and a development defect performance, and suppressing a standing wave, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light curable composition having light curability, usable for lithography, exhibiting good sensitivity and scarcely developing problems such as a pattern form defect after development and corrosion, and to provide a cured product.例文帳に追加

本発明の目的は、光硬化性を有しリソグラフィー可能であり、かつ良好な感度を有し、現像工程後のパターン形状不良や、腐食などの問題を生じにくい光硬化性組成物および硬化物を提供することである。 - 特許庁

To provide an image forming method by which a coating film having good curability in a deep portion without a pattern defect and having high contrast and high image stability can be formed while preventing a developing solution from directly contacting a substrate.例文帳に追加

深部硬化性が良好でパターンの欠損がなく、高いコントラスト性と高い画像安定性を有する塗膜を、現像液が基材に直接触れることなく形成することが可能な画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic controller that prevents a current path from having a defect in continuity due to cracking even if a multilayer substrate formed by stacking a substrate having a pattern wired includes metal for heat radiation and an electronic element generating heat.例文帳に追加

パターンが配線された基板を積層した多層基板において、放熱用金属と発熱する電子素子を備えても、クラックの発生による電流経路の導通不良の発生を防ぐ電子制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection technology capable of grasping quantitatively the inspection performance of a defect to be detected when setting properly both a detection condition and a determination condition, and setting accurately the detection condition and the determination condition.例文帳に追加

検出条件と判定条件の双方を適切に設定した場合の検出すべき欠陥の検出性能を定量的に把握でき、正確に検出条件と判定条件を設定できるパターン検査技術を提供する。 - 特許庁

When a plurality of isolating patterns are present in an observation range and the effect of charge-up arises even when an isolating pattern including a defect is grounded, the isolating patterns are grounded by the respective conducting probes to suppress the effect of charge-up.例文帳に追加

観察範囲内に複数の孤立パターンがあり、欠陥を含む孤立パターンを設置してもチャージアップの影響が出る場合には、複数の導電性探針でそれぞれの孤立パターンを接地してチャージアップの影響を抑える。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

When the designed circuit pattern is exposed and transferred on a wafer via an exposing device, a defect occurring systematically dependently on the characteristic or the like of the exposing device is predicted previously by simulation and is stored as hot spot information 7.例文帳に追加

また、露光装置を介して、設計された回路パターンをウエハ上に露光転写する際に、露光装置の特性等によってシステマティックに発生する欠陥を、あらかじめシミュレーションによって予測し、ホットスポット情報７として記憶する。 - 特許庁

To provide a pattern defect detection device that detects a fluorescent image, a diffusion light image, and a reflection light image of a substrate formed by laminating dry films so as to easily detect various defects occurring in an exposure process.例文帳に追加

ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

Since the luminance profile is a property acquired by actually photographing the wafer 2 to be inspected and clearly shows the forms of defects, the reliability of defect classification is substantially improved, when compared with the case of comparison with a non-defective pattern.例文帳に追加

輝度プロファイルは、検査対象であるウェハ２外観を実際に撮像して得られる特性であり、欠陥の形態を明確に示すため、良品パターン等との比較による場合と比べて、欠陥分類の確実性が格段に増す。 - 特許庁

The defect of a pattern formed on an inspection object is detected by comparing two images of corresponding patterns of the inspection object acquired by imaging the inspection object, by using a scattergram acquired from the two images.例文帳に追加

被検査対象を撮像して得た被検査対象の対応するパターンの２枚の画像を、この２枚の画像から得られる散布図を用いて比較することにより被検査対象に形成されたパターンの欠陥を検出する - 特許庁

An ultrasonic signal is imparted to the weld zone, while scanning a line-focusing probe, in the direction crossing at least in the two or more directions on the spot-weld zone, and existence of a defect on the weld zone is inspected from a reflection pattern of the signal.例文帳に追加

スポット溶接部上を少なくとも２方向以上の交差する方向に、線集束探触子を走査しながら該溶接部に超音波信号を与え、その信号の反射パターンから溶接部の欠陥の有無を検査する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, focus latitude, bridge defect preventing performance and dependency of sensitivity on post exposure baking (PEB) temperature, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A checking apparatus calculates the degree of a blur of image data of a device pattern of the semiconductor wafer with a CPU 31 in an image processor 3, and corrects the degree of the blur so as to properly detect the defect.例文帳に追加

画像処理部３内のＣＰＵ３１により、画像撮像部２で撮像された半導体ウェハのデバイスパターンである画像データのぼけの度合いを計算し、このぼけの度合いを欠陥が適切に検出できるように補正する。 - 特許庁

To prevent an interlayer separation and the deformation of a concave portion, to prevent a bonding defect, etc. at the mounting of an electronic component, such as an LSI, and to prevent the deformation of a conductor section of a via conductor, etc. filled in a wiring pattern and through-holes.例文帳に追加

層間剥離および凹部の変形を防止し、ＬＳＩ等の電子部品を搭載する際にボンディング不良等を防止し、また配線パターンやスルーホールに充填したビア導体等の導体部の変形を防止すること。 - 特許庁