「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and a system for fabricating a semiconductor device in which scattering of particles to an etching object can be suppressed when an insulating film and an antireflection film on a metal film are etched in the same reaction chamber and generation of pattern defect can be suppressed.例文帳に追加

金属膜上の絶縁膜と反射防止膜とを同一の反応室内でエッチングする際におけるエッチング対象物へのパーティクルの散布を抑制でき、パターン欠陥の発生を抑制し得る半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device for inspecting surely and efficiently a shape defect of a fine pattern in a color filter having the risk of bringing an unfavorable influence on display coming up widely by generating a plurality of small-sized defects in adjacent positions.例文帳に追加

小サイズの複数の欠陥が近接した位置に発生することにより表示上の悪影響が広く及ぶ可能性のあるカラーフィルタの微細パターンの形状欠陥を確実にかつ効率的に検査する検査方法、ならびに検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A TFT array inspection apparatus includes: an inspection signal applying means for applying an inspection signal to a TFT array in the panel, and forming a potential distribution in a predetermined pattern on the panel; and a signal processing means for detecting a panel defect by using a secondary electron detection signal.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置は、パネルのＴＦＴアレイに検査信号を印加して、パネル上に所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加手段と、二次電子の検出信号を用いてパネル欠陥を検出する信号処理手段とを備える。 - 特許庁

To provide a metal layered resin film for a plane antenna, with which a high-quality plane antenna can be obtained without incurring any defect such as peeling or pinhole in a portion constituting a circuit pattern even when providing a thick aluminum metal layer whose layer thickness is 1 μ or more.例文帳に追加

層厚１μ以上の厚いアルミニウム金属層を設ける場合であっても、回路パターンを構成する部分に剥がれやピンホールなどの欠点が発生することなく、良質な平面アンテナを得られる平面アンテナ用金属積層樹脂フィルムを提供すること。 - 特許庁

In this constitution, a potential of one pixel electrode line and a potential of another adjacent pixel electrode line cancel each other, so variation in effective value of liquid crystal is suppressed to prevent a display defect in stripped pattern.例文帳に追加

このような構成により、１つの画素電極行の電位と、隣接する他の画素電極行の電位とが互いに相殺し合うことになるため、液晶の実効値の変動が抑制され、縞模様状の表示不良が発生するのを防止することができる。 - 特許庁

To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing an image which can correct a defect accurately by interpolating process reflecting them even if a complicated boundary or a pattern exists in the defective part and which can accelerate a processing speed by suppressing an amount of calculations.例文帳に追加

欠陥部内に複雑な境界や模様が存在する場合であってもそれらを反映した補間処理によって正確に欠陥を修正することが可能であるとともに、演算量を抑えて処理速度を高めることが可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the instantaneous abrupt drop of high frequency power due to some causes, e.g. an inappropriate preset value of the variable capacitor or the like in a matching unit, cannot be dealt with, and a pattern defect of a body being treatment is generated to cause a large quantity of failure lots.例文帳に追加

整合器の可変コンデンサ等のプリセット値が適当でないなど、高周波電力が何等かの原因で瞬間的且つ急激に落ち込んだ場合には対応することができず、被処理体のパターン欠陥が発生し、大量のロット不良を生じさせる。 - 特許庁

To provide an instant lottery which needs no much time or labor, facilitates use, generates no scraping chips, generates no practical problems such as unsealing defect and pattern transferring in unsealing when a user uses the instant lottery, has high productivity in manufacturing, and also has a low manufacturing cost.例文帳に追加

ユーザーがインスタントくじを使用する上で、手間がかからず、使いやすく、削りカスが発生せず、また開封不良や、開封時の絵柄転写などの実用上の問題が生じないで、製造上で生産性が高く、製造コストが安いインスタントくじを提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for scanning exposure which are improved to realize effective prevention of an unsuitable exposure (fogging) on a sensitive substrate resulting from a pin hole defect besides a pattern area of an original plate without lowering a throughput or without generating a foreign matter.例文帳に追加

スループットを低下させたり、異物を発生させることなく、原版のパターン領域外のピンホール欠陥に起因する感応基板上での不適正露光（かぶり）を有効に防止できるよう改良を加えた走査露光装置及び走査露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a color filter with a wide margin, which has a flat and uniform colored layer free from color mixing and a white omission defect and has no rough surface of a partition pattern, in the color filter wherein each pixel is printed by an ink jet method.例文帳に追加

インキジェット方式により各画素が印刷されるカラーフィルタにおいて、混色や白抜け欠陥のなく平坦で均一な着色層を有し、かつ隔壁パターンの表面荒れのないカラーフィルタを、マージン広く安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern correcting method, two slits 24 of predetermined distance are formed, by having a laser beam irradiated to both sides of a rib lost defect 22 in a rib 21 formed on a glass substrate 20, to eliminate the defective section between the slits 24 with a scratch needle 51.例文帳に追加

このパターン修正方法では、ガラス基板２０上に形成されたリブ２１のリブ欠け欠陥２２の両側にレーザ光を照射して所定間隔の２つのスリット２４を形成し、スクラッチ針５１によって２つのスリット２４間の欠陥部を除去する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method, capable of confirming the propriety of a production process of forming a pattern appearing on the surface of a semiconductor wafer or the like, at the same time as with the visual inspection of a defect appearing on a wafer surface.例文帳に追加

半導体ウエハなどの表面に現れるパターンを形成した製造プロセスが適切であるか否かを、このウエハ表面に現れる欠陥の外観検査と同時に確認することが可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner capable of forming an image of high quality stably for a long period without the occurrence of a cleaning defect even with the toner of high circularity and without depending on an environment and printing pattern, and an image forming method.例文帳に追加

円形度が高いトナーにおいてもクリーニング不良を起こすことなく、環境や印字パターンに依存せず長期に渡り安定して高画質な画像を形成することができる静電荷像現像用トナー及び画像形成方法を提供することである。 - 特許庁

In the manufacturing method, manufacturing processes can be decreased, by detecting whether the circuit pattern is proper, and an open-circuit or short-circuit defect in an optical inspecting process and the yield of following processes can be improved.例文帳に追加

また、本発明の検査方法は、測定された幅が画素の大きさより大きな不良が検出されないと、回路パターン又は空間成分の明るさレベルを垂直方向により細かく分析して、オープン、ショート又は残留銅箔に応じる不良を検出する。 - 特許庁

In the pattern correction method, correcting ink 7 is heated by a heater 10 to make the thickness uniform, after applying the correcting ink 7 onto a white defect 6a of a pixel 6 of a liquid crystal color filter substrate 1, and a viscosity of the correcting ink 7 is reduced.例文帳に追加

このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、加熱装置１０によって修正インク７を加熱し、修正インク７の粘度を低下させる。 - 特許庁

To suppress a coverage defect of a reflective pixel electrode which is caused at a step part at a pattern end of a ground metal film covering a contact hole formed in an inter-layer insulating film by suppressing degassing from the inter-layer insulating film in a translucent type liquid crystal display device.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置において、層間絶縁膜からの脱ガスを抑制し、層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを覆う下地金属膜のパターン端の段差部において発生していた反射画素電極のカバレッジ不良を抑制する。 - 特許庁

To provide a printer which can efficiently remove an ink solvent impregnated and stored into a blanket by repetition of printing treatment, and can suppress the defect in the transfer of ink and deterioration in dimensional precision in a pattern upon continuous printing, and a printing method.例文帳に追加

印刷処理の繰り返しによってブランケットに浸透、蓄積されたインキ溶剤を効率よく除去し、連続印刷時におけるインキの転移不良やパターンの寸法精度の低下を抑制することのできる印刷装置および印刷方法と、を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for the production of a glass substrate for a flat panel display, causing little deformation of the substrate after division even in the case of a large-sized glass and giving a display free from the problem of the generation of displaying defect caused by the deviation of the pattern from desired design.例文帳に追加

本発明の目的は、大板ガラスであっても、分割切断後の変形が少なく、パターンが所期の設計からずれてディスプレイの表示不良が発生するということがないフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁

To provide manufacturing technology of a semiconductor device, which can extract a representative defect that reflects an occurrence situation of a detected defect in a process for detecting a plurality of the defects existing in a pattern formed in a semiconductor substrate, extracting the prescribed number of the defects from a plurality of the detected defects and inspecting an appearance on the prescribed number of the extracted defects.例文帳に追加

半導体基板に形成されたパターンに存在する複数の欠陥を検出し、検出した複数の欠陥の中から所定数の欠陥を抽出した後、抽出した所定数の欠陥について外観検査を実施する工程において、検出した欠陥の発生状況を反映した代表的な欠陥を抽出することができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

In the transferring device 1 transferring the fine transfer pattern formed in the mold M to the molding object W, a portion Ma of the mold M formed with the fine transfer pattern is gradually deformed into a convex form compared to an original form of the portion Ma toward the center of the portion Ma, for avoiding transfer defect at the central part of the portion Ma.例文帳に追加

型Ｍに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Ｗに転写する転写装置１において、微細な転写パターンが形成されている型Ｍの部位Ｍａを、この部位Ｍａの中央部側での転写不良を回避するために、部位Ｍａの中央に向かうにしたがって、部位Ｍａの本来の形態に比べて徐々に凸になるように変形させる構成である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask having a light-shielding region where an absorbing layer is laminated in a periphery of a pattern region, by which a defect can be corrected without leaving a correction mark while preventing decrease in the throughput of the mask manufacture and damages in a normal pattern or a reflection layer, and thereby, a high-quality mask is manufactured, and also to provide a mask blank suitable for the method.例文帳に追加

パターン領域の周辺に吸収層を積層した遮光領域を設けた反射型マスクの製造において、マスク製造のスループットを低下させず、正常パターンや反射層に損傷を与えることなく、修正痕を残さずに欠陥修正を行い、高品質のマスクを製造することができる反射型マスクの製造方法およびそれに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

Productivity is thereby enhanced while saving the cost by skipping the photographic step in a process for producing a semiconductor package being used for driving an LCD, reliability of a product is improved by preventing occurrence of a defect in the process for forming the circuit pattern 110 of metallic material and a circuit pattern having a fine line width is produced more efficiently.例文帳に追加

したがって、ＬＣＤ駆動用として使われる半導体パッケージの配線基板を製造する過程で写真工程を省略してコスト節減及び生産性の向上効果が得られ、金属材質の回路パターン１１０を作る過程で発生する欠陥を防止して製品の信頼性を改善し、微細線幅を有する回路パターンをさらに効率的に作られる。 - 特許庁

To provide a display device and a method for manufacturing the display device capable of preventing the occurrence of a defect due to foreign matter sticking between pixel apertures and damage in configuration of setting a plurality of divided pixels as one sub-pixel and sharing a vapor deposition pattern among a plurality of pixel apertures.例文帳に追加

複数の分割画素を１つの副画素とするような、蒸着パターンを複数の画素開口で共有する構成において、画素開口間への異物付着や損傷による欠陥発生を防止できる表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

In the method for correcting a pattern, correction ink 7 is applied to the white defect 6a of a pixel 6 in a liquid crystal color filter substrate 1, thereafter, a gas containing the vapor of a solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 so that the thickness of the correction ink 7 may be uniformized, consequently to reduce the viscosity of the correction ink 7.例文帳に追加

このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、溶媒１６の蒸気を含む気体を修正インク７に噴霧し、修正インク７の粘度を低下させる。 - 特許庁

To provide a backlight structure for a flat light source unit such as a liquid crystal display in which a defect of a yellow-brown color of a resin component such as a polyimide resin in a FPC appearing when switched on on a display or a lighting face and the like in yellow lines (dark lines) and a pattern can be eliminated and a cost can be reduced.例文帳に追加

ＦＰＣのポリイミド樹脂等の樹脂成分の黄褐色が点灯時に表示面や照明面等に黄線（暗線）やパターンとなって現れると言う欠陥を除去しつつ、コスト的にも安価となる液晶表示装置等の面光源装置用のバックライト構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a highly accurate drift correction method with which a photomask is scarcely damaged, by solving problems associated with the conventional photomask correction method using a one-point-drift correction such as occurrence of a scan damage on a place other than a place with a defect on the photomask, inability to open any pin hole in the case of a fine pattern, and so on.例文帳に追加

ワンポイントドリフト補正を用いた従来のフォトマスク修正方法の抱えるフォトマスク上の欠陥以外の箇所にスキャンダメージが生じる、微細パターンの場合にピンホールを開けることができないといった問題を解決し、ダメージの少ない、精度のよいドリフト補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin stamper capable of enhancing workability without generating a defect in a pattern part of the stamper, to provide an imprint device which allows alignment with high accuracy using the stamper and to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium of high quality using the imprint device.例文帳に追加

スタンパのパターン部に欠陥を生じることなく作業性を向上させる樹脂スタンパ、そのスタンパを用いて高精度な位置合わせを行うことのできるインプリント装置、およびそのインプリント装置を用いた高品質な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stamper for imprint which can cope with mass production by promptly separating a base plate from a stamper after imprint using a uniform deflection of the stamper and recovering force of the same during the imprint and by hardly causing a defect on pattern surfaces of a base plate and the stamper, and to provide an imprinting device.例文帳に追加

インプリント時のスタンパの均一な撓みとその復元力を利用してインプリント後にスタンパから基板を速やかに分離できると同時に、基板およびスタンパのパターン面に欠陥が入りにくくすることで、量産化に対応できるインプリント用スタンパおよびインプリント装置を提供する。 - 特許庁

A device 201 for correcting a defect is provided, including a laser 32 that emits a laser beam having a pulse width in the order of femtoseconds, and a correcting part correcting a defective part of a pattern formed on a surface of a film substrate 26 having a plane perpendicular to the optical axis (Z axis) of the laser beam.例文帳に追加

欠陥修正装置２０１は、フェトム秒単位のパルス幅を有したレーザ光を出射するレーザ３２と、レーザ光の光軸（Ｚ軸）が直交する面を有するフィルム基板２６の面の上に形成されたパターンの欠陥部を修正する修正部と、を備える。 - 特許庁

To provide a silicone blanket which certainly prevents transfer defect or the like because of having sufficient mold releasability already in an early stage of printing while not generating unevenness of printing pattern, nor causing long tact time for printing, nor generating damage or deterioration of a silicone rubber or the like.例文帳に追加

印刷パターンのムラ等を生じたり、印刷のタクトタイムが長くなったり、あるいは傷つきやシリコーンゴムの劣化等を生じたりすることなしに、印刷初期の段階で既に十分な離型性を有するため転写不良等が生じるのを確実に防止できるシリコーンブランケットを提供する。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which contains a pattern layer arranged between a transparent resin film and a base material film, for which a specific film having no heating defect and good adhesion with a resin molded product and exhibiting good film forming property of its own is used.例文帳に追加

透明性樹脂フィルムと基材フィルムとの間に図柄層が配置されている加飾シートであって、基材フィルムとして、加熱欠点がなく、しかも、樹脂成形物との密着性にも優れ、更には、それ自体の製膜性にも優れる、特定のフィルムを用いた加飾シートを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device having an improved detection ability by inspecting a film or a pattern comprising an inorganic substance/inorganic compound by using a light in a wavelength range suitable for wavelength dependency carried by a refractive index, an extinction coefficient and a surface reflectivity of the substance.例文帳に追加

無機物／無機化合物から成る膜またはパターンを、その物質の屈折率，消光係数、および表面反射率が持つ波長依存性に関して好適な波長範囲の光を用いて検査することにより、向上した検出能力をもつ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide liquid for liquid immersion exposure exhibiting a large refractive index in the liquid immersion exposure, capable of preventing elution or dissolution of the components of a photoresist film or its overlying film, and suppressing defect at the time of forming a resist pattern.例文帳に追加

液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、レジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができる液浸露光用液体およびその液体を用いた液浸露光方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To conduct high-precision and rapid inspection of a semiconductor in a desired contrast by efficiently and rapidly detecting secondary electrons, reflected electrons or both of them generated from a substrate, in a method for inspecting a defect, a foreign substance, a residue and the like of the same design pattern of a semiconductor device by using an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の同一設計パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線により検査する方法において、基板から発生する二次電子または反射電子またはその両方を高効率に高速に検出し、所望のコントラストで半導体ウェハの高精度、高速な検査を行う。 - 特許庁

To provide an inspection method of a gray tone mask by which performance evaluation and defect inspection of a gray tone mask can be preferably carried out, to provide a method for manufacturing a gray tone mask for manufacturing a liquid crystal device by using the inspection method of a gray tone mask, and to provide a pattern transfer method.例文帳に追加

グレートーンマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるグレートーンマスクの検査方法を提供し、また、このグレートーンマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

Only a component which varies in cycles longer than the size of a circuit pattern and repetition cycles in a potential contrast image obtained with the reflected electrons is imaged through lenses 8, 12, and 13 and an image signal is compared with a previously set value to find whether there is a defect and measures its position.例文帳に追加

反射電子により得られる電位コントラスト像のうち、回路パターンのサイズや繰り返し周期より長い周期で変化する成分のみを、レンズ８、１２、１３により結像し、画像信号をあらかじめ設定した値と比較することにより、欠陥の有無および位置を計測する。 - 特許庁

To provide a nanoimprint pattern forming method capable of controlling the leak of a surplus resin without requiring a complicated control mechanism in a transfer device and forming a dummy groove in a mold which causes a molding defect by a residual resin, and also to provide a base material used in the method.例文帳に追加

転写装置に複雑な制御機構を必要とせず、また、樹脂残留によりモールド欠陥を引き起こす原因となるダミー溝をモールドに形成せずに、余剰樹脂の漏出を制御することができるナノインプリントパターン形成方法およびそれに用いられる基材を提供する。 - 特許庁

To securely manufacture a laminated ceramic electronic component which is free of a decrease in coverage of an internal electrode, a short-circuit defect etc., and having high reliability by preventing an internal electrode pattern from being attacked by a solvent in ceramic slurry when a ceramic green sheet is formed by applying the ceramic slurry.例文帳に追加

セラミックスラリーを塗布してセラミックグリーンシートを形成する際に、内部電極パターンがセラミックスラリー中の溶剤によってアタックされることを防止して、内部電極のカバレッジの低下やショート不良などがなく、信頼性の高い積層セラミック電子部品を確実に製造することを可能にする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of improving hydrophilicity during alkali development while securing hydrophobicity in immersion exposure, suppressing a development defect of a non-exposure part, and providing a resist coating film excelling in a pattern shape after development.例文帳に追加

液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁