「Pattern Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

This pattern correction device jets atomized correction liquid from a coating nozzle 30 to a white void defect part 13a that a colored layer 13 of a pixel PIX_B has while opening a shutter 31.例文帳に追加

このパターン修正装置では、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３にある白抜け欠陥部１３ａに、シャッタ３１を開きながら塗布ノズル３０から霧状の修正液２０を噴出する。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device, wherein stable operation is provided, regardless of operator, and process is stabilized for saving labor and improved correction level.例文帳に追加

作業者に関わりなく安定的に稼働させることができ、工程の安定化並びに省人化を図ることができ、かつ、修正品位を向上させることができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic component whereby it is possible to prevent a defect such as swelling, a crack or the like, from being generated at a conductor pattern or a via hole conductor that constitutes a ceramic component, when manufacturing the same.例文帳に追加

セラミック電子部品を製造する際に、それを構成する導体パターンやビアホール導体に発生する膨れやクラック等の欠陥の発生を防止できるセラミック電子部品の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry film laminator capable of enhancing the lamination quality of a copper-clad laminated sheet and a dry film so as to make a defect such as breakage or residual copper hard to generate at the time of formation of a fine pattern circuit.例文帳に追加

ファインパターン回路の形成に際してカケや残銅等の欠陥が生じにくいように、銅張積層板とドライフィルムのラミネート品質を向上できるドライフィルムラミネート装置を提供する。 - 特許庁

To inspect masks for transferring patterns by using two or more masks so as to relieve a pseudo defect in a part where no problem is caused from the viewpoint of a device while keeping the inspection accuracy in a pattern region.例文帳に追加

２以上のマスクを用いてパターン転写する場合のマスクの検査を、パターン領域の検査の精度を保ちつつ、デバイス上問題が生じない箇所での擬似欠陥を救済しながら行う。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of preventing a streaky display defect caused by that a rubbing roll repeatedly abuts on a pattern position such as a positioning mark, and to provide a method for manufacturing the display device.例文帳に追加

位置合わせマーク等のパターンの個所にラビングロールが繰り返し当接することに起因するスジ状の表示不良を防止することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When a laser beam is applied to form a graphic pattern on a disk 1, the system controller 14 records the address of the specified sector in a defect management area, and registers the sector as a defective sector.例文帳に追加

レーザ光を照射して、ディスク１上に図形パターンが形成されると、システムコントローラ１４は特定されたセクタのアドレスをディフェクト管理領域に記録して、当該セクタを欠陥セクタとして登録する。 - 特許庁

To provide a resist composition which can prevent production of a defect in a substrate even when the resist film is made thinner in forming a fine pattern of a semiconductor substrate or the like and by which high accuracy processing of a substrate is performed.例文帳に追加

半導体基板等の微細パタン形成において、レジスト膜の薄膜化を一層進めても、基板の欠陥形成を防止でき、高精度に基板加工できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated ceramic semiconductor in which the sheet attack does not occur when forming an electrode pattern layer in the surface of a green sheet, with low rate of short-circuiting defect of an electronic component.例文帳に追加

グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、シートアタックが発生せず、電子部品のショート不良率が少ない積層型セラミック電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the reliability of defect detection sensitivity and an inspection result by removing the noise of a high frequency component resulting from detailed unevenness produced in the case of processing a semiconductor device circuit pattern.例文帳に追加

半導体装置回路パターンを加工する際に生ずる微細な凹凸に起因した高周波成分のノイズを除去することにより、欠陥検出感度・検査結果の信頼性を向上する。 - 特許庁

To provide the method of forming a diffraction grating which can reduce a defect in the pattern of the diffraction grating without strongly pushing a mold to a resin body, and the method of manufacturing a distributed feedback semiconductor laser.例文帳に追加

モールドを樹脂体に強く押し付けなくとも回折格子のパターン欠陥を低減できる回折格子の形成方法および分布帰還型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

To compare with a circuit pattern to be inspected, circuit design data is modified as to shape deformation items determined by defect generation factors to generate a plurality of shapes.例文帳に追加

回路設計データから検査対象回路パターンと比較するために，欠陥発生要因毎に定められた形状変形項目について設計データに変形を加え，複数の形状を作成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a wiring pattern of graphite film including a graphene structure in which a defect-free graphite film can be formed by reducing aggregation of catalyst layer and controlling diffusivity of carbon.例文帳に追加

触媒層の凝集を抑制し、また炭素の拡散性を制御して、欠陥の無いグラファイト膜を形成することができるグラフェン構造を含むグラファイト膜による配線パターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for repairing a color filter with which a defect in coloring of a color filter comprising a coloring layer formed on a wettable pattern is easily repaired.例文帳に追加

本発明は、濡れ性パターン上に着色層が形成されてなるカラーフィルタの着色欠陥を容易に修正することができるカラーフィルタの修正方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To prevent the generation of a micro pattern defect or dust and to prevent the abrupt deterioration of a chemical filter even if the concentration of chemical contaminants contained in air in a clean room is increased.例文帳に追加

クリーンルームの空気中に含まれる化学汚染物質の濃度が高くなっても、微細なパターン欠陥又は異物の発生を防止できるようにすること及び化学フィルタが急激に劣化しないようにする。 - 特許庁

To enable high-speed, stable, and accurate inspection of circuit pattern having insulating materials in a method for inspection by detecting a defect, contamination, residue, or the like appearing on the circuit pattern of a semiconductor-device wafer, by radiating an electron beam onto the wafer and comparing the secondary electron image with a reference image.例文帳に追加

半導体装置等基板上で発生した回路パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線をウエハに入射して二次電子像を比較することにより検査する方法において、絶縁材料を有する回路パターンを高速に且つ安定して高精度に検査可能とする。 - 特許庁

To provide a photomask which suppresses breaking of a pattern formed after exposure and development by a photolithography method even when a pattern formed on the photomask has a defect, when a foreign matter sticks to generate a flaw, and further when an air bubble is present in a substrate.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法において、フォトマスク上に形成されたパターンに欠陥がある場合や、異物が付着していたりキズが付着している場合、さらには基板中に気泡が存在する場合であっても、露光・現像後形成されたパターンの断線発生を抑制するフォトマスクを提供する。 - 特許庁

When a point defect is found by array inspection, a laser cut section 61 is set up in the bridge 66 between a first sub-pixel pattern 6A-1 of a small right triangular one positioned at a corner of a pixel electrode 6, and a second sub-pixel pattern 6A-2 of a large area.例文帳に追加

アレイ検査により点欠陥が発見された際には、画素電極６の一隅に位置する小さな直角三角形状の第１のサブピクセルパターン６Ａ-１と、大面積の第２のサブピクセルパターン６Ａ-２との間にて、ブリッジ部６６にレーザーカット部６１が設けられる。 - 特許庁

To provide an improve pattern matching inspection method and device therefor capable of detecting a wiring defect in a wiring pattern in a printed wiring board, LSI(Large Scale Integrated Circuit), and a photomask duplicate for them, and judging whether they are good or not in a manufacturing process of the printed wiring board.例文帳に追加

プリント基板やＬＳＩ（大規模集積回路）、そのためのフォトマスク複製物における配線パターンの配線欠陥を見つけ出して良、不良判断をプリント基板の製造過程において行なえる改良されたパターンマッチング検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁

To overcome poor pattern accuracy of chemical etching and adhesive defect when adhering an aluminum layer onto a transparent base material, which are the problems generated when the material of a metal pattern is replaced with cheap aluminum from copper, and to provide a low-cost and practicable transparent conductive member with the use of aluminum.例文帳に追加

金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる課題である、ケミカルエッチングのパターン精度不良及びアルミニウム層を透明基材上に接着する際の接着不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な透明導電部材を提供する。 - 特許庁

To make a condition set efficiently, to shorten an inspection time, and to enhance reliability of inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting a defect, a foreign matter, a residue or the like in the same design pattern of a semiconductor device on a wafer under a production process for the semiconductor device, by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

When a SYNC pattern is composed of six symbols, the SYNC pattern and read data are made to 6C2=15 sorts of groups G1 to G15 composed of four symbols including a symbol overlapping a part of other groups and collated in a group unit in order to correspond to, e.g. a defect being ≤2 symbols.例文帳に追加

ＳＹＮＣパターンが６シンボルから構成されているときに、例えば２シンボル以下のディフェクトに対応するために、他の一部のグループと重複するシンボルを含む４シンボルからなる_6Ｃ_2 ＝１５通りのグループＧ１〜Ｇ１５に、当該ＳＹＮＣパターン及びリードデータをグループ分けして、グループ単位で照合する。 - 特許庁

To provide the outer electrode pattern of an electronic component of a structure that in the outer electrode pattern, the generation of a short- circuit between terminal electrodes is absolutely eliminated, a state that the terminal electrode provided on almost the central part of a printed board is soldered to the printed board also can be inspected and moreover, the defect of conduction between the terminal electrodes also can be absolutely eliminated.例文帳に追加

電子部品の外部電極パターンにおいて、端子電極間ショートの発生を皆無とし、且つ、基板のほぼ中央部に設けた端子電極の半田付け状態も検査することができ、更に、導通不良も皆無にし得る電極パターンを提供すること。 - 特許庁

In the production process of the resin optical waveguide, the core pattern of the waveguide is embedded after executing heat treatment of ≥150°C, thus the deformation and embedding defect of the waveguide core pattern are prevented, thereby forming the resin optical waveguide low in loss and excellent in the optical characteristics.例文帳に追加

樹脂光導波路の作製工程において、１５０℃以上の熱処理を実施した後、導波路のコアパターンを埋め込むことにより、導波路コアパターンの変形および埋め込み不良等を防止し、低損失で、光学特性に優れた樹脂光導波路の作製方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a resist material which can make the gradient of dissolution of a positive or negative resist smaller than that of a resist for a repetitive pattern so as to ensure wide margins for focusing and exposure for an isolated left pattern with the positive or negative resist and does not cause the lowering of a margin for PEB temperature as a conventional defect.例文帳に追加

孤立残しパターンをポジあるいはネガレジストを用いて、広いフォーカスや露光のマージンを確保するために、レジストの溶解の傾きを繰り返しパターン用レジストより小さくすることができるとともに、従来の欠点であるPEB温度マージンの低下を生じないジスト材料を提供する。 - 特許庁

To improve efficiency of condition setting, to shorten inspection time, and to improve reliability of an inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting, with an electron beam, a defect, foreign substance, residue, or the like of the same design pattern of a semiconductor device on a wafer in a manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

The method for forming a fine pattern for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect is carried out by using a fine pattern forming material which comprises a water-soluble resin, a water-soluble crosslinking agent and a solvent comprising water or a mixture solution of water and a water-soluble organic solvent, and using an amine compound-containing developing solution.例文帳に追加

水溶性樹脂、水溶性架橋剤、および、水または水と水溶性有機溶媒との混合液からなる溶媒を含有する微細パターン形成材料とアミン化合物含有現像液を用いて、架橋膜膜厚を抑えた、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法。 - 特許庁

The image processing means generates added image data including information of wavelengths and signal intensity by additionally processing the signals of respective wavelengths correspondingly to the incident positions on the detection surface, determines whether or not a defect exists on the pattern to be inspected based on the added image data, and when determining the existence of a defect, detects the position of the defect in a direction vertical to the substrate.例文帳に追加

前記画像処理手段は、前記波長毎の信号を前記検出面の入射位置に対応付けて加算処理して波長および信号強度の情報を含む加算画像データを生成し、該加算画像データに基づいて検査対象のパターンにおける欠陥の有無を判定し、欠陥が有ると判定した場合に前記基体に垂直な方向における前記欠陥の位置を検出する。 - 特許庁

To provide an inspection system with a scanning electron microscope for performing an inspection for the purpose of detecting a defect on a substrate with a circuit pattern of a semiconductor device, a liquid crystal, or the like formed thereon which allows the easy identification of a minute defect and a pseudo one which have been hard to identify, and an inspection method thereof.例文帳に追加

半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

The pattern correcting device irradiates a defect portion where patterns of a substrate 7 to be corrected on a Y-axis table 6 connect with each other with laser light from a laser light source 1 to cut an unnecessary portion, and then irradiates a defect portion circumference while making the output of the laser light source 1 smaller to remove scattered bodies of the unnecessary part.例文帳に追加

このパターン修正装置では、Ｙ軸テーブル６上の被修正対象基板７のパターン同士が繋がっている欠陥部にレーザ光源１からレーザ光を照射して不要な部分を切断した後、レーザ光源１の出力を小さくして欠陥部周辺を照射し、不要な部分の飛散物を除去する。 - 特許庁

This pattern defect inspection device detects a defect by comparing a detection image acquired by scanning patterns, which are sequentially arranged in the line direction at equal intervals on the object under inspection and provided with the same shape, by means of an image sensor with a reference image acquired by scanning the patterns arranged adjacently in the line direction and provided with the same shape.例文帳に追加

被検査物体上に行列方向に等間隔で連続的に配列された同一形状を有するパターンをイメージセンサを走査して得られる検出画像とその行列方向に隣接する同一形状のパターンを走査して得られる参照画像とを比較して欠陥を検出するパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide an inspection device for a display panel and the like, which inspects a defect by once imaging without generating halation and insufficient sensitivity, when defect-inspecting an inspection pattern with a gradation displayed by stepwise change patterns in every divided screen in the display panel of screen division drive.例文帳に追加

画面分割駆動の表示パネルにおいて分割画面毎に階調が段階的変化パターンにて表示される検査パターンを撮像装置にて撮像して欠陥検査する際、ハレーション及び感度不足を生じることなく一度の撮像で検査を行い得る表示パネルの検査装置等を提供する。 - 特許庁

This pipe magnetic powder flaw detector 10 comprises an inspection liquid tank 20, a pipe vertical moving device 30 and an electrode moving device 40, and magnetizes the pipe 1 in an inspection liquid to form a magnetic powder pattern at a weld defect part.例文帳に追加

パイプ磁粉探傷装置１０であって、検査液槽２０と、パイプ上下移動装置３０と、電極移動装置４０とからなり、パイプ１を検査液中で磁化し、溶接欠陥部に磁粉模様を形成させるもの。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter by which an exposure defect pattern due to light interference hardly occurs in a region of a gradation mask where a semitransparent region and a transmissive region adjoin each other.例文帳に追加

本発明は、階調マスクの半透明領域および透過領域が隣接している領域で光の干渉による露光不良パターンが生じ難いカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To solve a problem about a temporal and spatial coherence generated by using a laser as a light source for lighting to inspect a defect of a pattern quickly at high sensitivity, using the laser of high luminous energy.例文帳に追加

照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。 - 特許庁

In addition to an examining processing part 5 for pattern for examining the propriety by applying mask processing at the position of through hole or photo via/laser via, an examining processing part 6 for via is provided for recognizing a defect peculiar for the position of photo via/laser via.例文帳に追加

スルホールやフォトビア・レーザビアの位置にマスク処理を施して良否検査を行うパターン用検査処理部５に加えて，フォトビア・レーザビアの位置に特有な欠陥を認識するためのビア用検査処理部６を設けた。 - 特許庁

To provide an inspection method wherein a non-inspection domain does not exist, capable of performing accurately defect inspection of an inspection object on which a repetitive pattern is formed, such as a liquid crystal panel, a plasma display or a semiconductor wafer.例文帳に追加

液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。 - 特許庁

To form no development defect after a resist pattern as an upper layer is formed even when the percentage content of silicon (Si) of an intermediate film is made high in a multi-layer resist process, and thereby to improve the yield.例文帳に追加

多層レジストプロセスにおいて、中間層膜のシリコン（Ｓｉ）の含有率を高くした場合でも、上層のレジストパターンを形成した後の現像欠陥が発生せず、従って、歩留まりを向上できるようにする。 - 特許庁

To provide a satisfactory color filter having no foreign matter inferiority and no image defect by reducing charge gathering on a glass substrate where a coating layer of a colored composition is applied and preventing sticking of dirt and destruction of an exposure mask pattern.例文帳に追加

着色組成物の塗布層が塗布されたガラス基板上に溜まる電荷を低減し、ゴミの付着、及び露光マスクパターンの破壊を防ぎ、異物不良、画像欠陥のない良好なカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.例文帳に追加

ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To reduce a defect, which is caused by uneven thickness and residual gas in a film residue of a resist film having an uneven pattern transferred thereon, in a method for carrying out an nano-imprint by inkjet applying an ink droplet made of resist material.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、凹凸パターン転写されたレジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体による欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁

In substrate inspection prior to pattern forming that uses design data 303, a defective fraction 506 is calculated, taking into consideration the position of a detected defect 504 on an inspection map indicating the place on a wafer.例文帳に追加

パターン形成前の基板検査において、設計データ３０３を利用して、検出された欠陥５０４がウェハ上の場所を示した検査マップ上のどの位置にあるを考慮して不良率５０６を計算する。 - 特許庁

To provide a rubber for correcting a tire pattern model applicable for the production of a silicone rubber mold with a silicone rubber composition without causing vulcanization defect in the production of the rubber mold and enabling the correction and repair of the mold.例文帳に追加

シリコーンゴム組成物を用いたシリコーンゴム型の製造に適用し得るタイヤパターンモデルを、ゴム型製作時における加硫不良を生ずることなく、修正、修繕することができるタイヤパターンモデル修正用ゴムを提供する。 - 特許庁

To detect a defect such as conductor omission, short-circuit and foreign matter attachment on a wafer, including a normal conductor pattern having ruggedness with high probability in the process of film creating and etching, in manufacturing of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における成膜やエッチング過程において、凸凹を有する正常な導体パターンが含まれたウエハ上の、導体欠落、短絡、異物付着などの欠陥を高い確率で検出する。 - 特許庁

It lowers detection sensitivity from a case of comparing and inspecting other parts when detecting defect of the OPC pattern by comparing and inspecting a detection image obtained to scan the optical proximity effect mask with the reference image 3'.例文帳に追加

光学近接効果マスクをスキャンして得た検出画像と、参照画像３’とを比較検査することにより、ＯＰＣパターンの欠陥検査を行う際に、他の部分の比較検査する場合よりも検査感度を下げる。 - 特許庁