「Vacuum chambers」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A plurality of processing chambers 30 in each of which a substrate is vacuum processed are arranged around a vacuum conveyance chamber 13 maintained in a vacuum atmosphere.例文帳に追加

真空雰囲気に維持された真空搬送室１３の周囲に、基板に対して真空処理が行なわれる複数の処理室３０を設ける。 - 特許庁

This vacuum treatment equipment comprises, a pair of vacuum chambers 10 at least one of which is a treatment chamber, a pair of openings 11 which are made in the pair of vacuum chambers 10, and a transport mechanism 13 for transporting articles to be treated between a pair of vacuum chambers 10.例文帳に追加

少なくとも一方は処理室を形成する一対の真空室１０と、一対の真空室１０に形成された一対の開口部１１と、一対の真空室１０同士の間で被処理物を搬送するための搬送機構１３とを備える。 - 特許庁

The apparatus 30 further comprises a vacuum pump PP for evacuating the chambers 32, 34, 36, 38 independently of each other, and shutters 33, 35, 37 for selectively partitioning the chambers.例文帳に追加

また、各室３２，３４，３６，３８を独立して真空にする真空ポンプＰＰと、各室を選択的に区切るシャッター３３，３５，３７も備える。 - 特許庁

To provide a differentially pumped vacuum system that has a plurality of pressure chambers and a pumping arrangement (100) for evacuating the pressure chambers.例文帳に追加

複数の圧力チェンバと、前記圧力チェンバを真空引きするポンピング装置(100)とを有する差圧的にポンピングされる真空システムを提供する。 - 特許庁

Accordingly, the chambers may be continuously maintained in a vacuum state when any one of the chambers is repaired.例文帳に追加

これにより、特定グループに属するチャンバの維持補修時、他のグループに属するチャンバの内部は、継続的に真空で維持することができる。 - 特許庁

To shorten the operation stop time of vacuum chambers accompanying regeneration of a cryopump in a vacuum device in which an exclusive cryopump is connected to each of a plurality of vacuum chambers.例文帳に追加

複数の真空チャンバに、それぞれ専用のクライオポンプが接続されている真空装置で、クライオポンプの再生に伴う真空チャンバの運転停止時間を短時間にする。 - 特許庁

A heating coil 20 as an infrared radiator is disposed in each of the vacuum chambers 16.例文帳に追加

各真空室１６内にはそれぞれ赤外線放射体としての加熱コイル２０が配設されている。 - 特許庁

With a vacuum conveyance chamber T2 as a center, a film-forming chamber R and substrate preliminary chambers L/H are arranged coaxially.例文帳に追加

真空搬送室Ｔ２を中心にして一軸上に成膜室Ｒ、基板予備室Ｌ／Ｈを配置する。 - 特許庁

Auxiliary chambers 71 to 73 and the film deposition chamber 4 are always kept at vacuum.例文帳に追加

補助チャンバー７１〜７３及び成膜チャンバー４は、常時真空に維持される。 - 特許庁

The airtight chambers 6 and 7 are formed with the same atmospheric pressure which is a lower pressure (vacuum or the like)/higher pressure than an outside atmospheric pressure.例文帳に追加

気密室６，７は同じ気圧で且つ外気圧より低圧（真空等）／高圧となっている。 - 特許庁

For the wafer processing method, a specified film is formed on a wafer within any one vacuum processing chamber out of plural vacuum processing chambers.例文帳に追加

ウェーハ処理方法は、複数の真空処理チャンバのうち何れか１つの真空処理チャンバ内でウェーハ上に所定の膜を形成する。 - 特許庁

The vacuum pumping device and method are used for controlling pressure of a plurality of vacuum processing chambers, performing evacuation and providing relaxation.例文帳に追加

複数の真空処理チャンバに対して圧力を制御し、真空引きし、緩和を提供するための装置及び方法である。 - 特許庁

A second vacuum chamber 11 is installed outside a first vacuum chamber 5 so as to surround the plasma electrode 4 so that the inside of the chambers is evacuated.例文帳に追加

第一の真空槽５の外部でプラズマ電極４を取り囲むように第二の真空槽１１を設置し、内部を真空排気する。 - 特許庁

Oxidation may occur controllably in pass-through chambers 56 and 80 between a high-vacuum transfer chamber 62 and a low-vacuum transfer chamber 40.例文帳に追加

酸化は高真空搬送チャンバ６２と低真空搬送チャンバ４０の間の通過チャンバ５６、８０内で制御可能に行うことができる。 - 特許庁

The vacuum chamber system is provided with at least two vacuum chambers 1a and 1b with gas discharging capability, and a conveyance means 4.例文帳に追加

真空チャンバシステムは、少なくとも２つの排気可能な真空チャンバ１ａ、１ｂと、移送手段４と、を備えている。 - 特許庁

To provide an apparatus high in performance in manufacturing workpieces in each installation area by optimizing the arrangement of vacuum processing chambers installed in a vacuum transport chamber.例文帳に追加

真空搬送室に備えられた真空処理室の配置を最適化し、設置面積あたりの被処理物の生産能力の高い装置を提供する。 - 特許庁

A vacuum applicator 12 which includes two independent vacuum lamination chambers 18, 20 and has a conveyer is provided.例文帳に追加

２つの独立した真空ラミネーションチャンバー１８、２０を含み、コンベヤーを有する真空アプリケータ１２が特徴である。 - 特許庁

The sealing furnace of the PDP is structured by a vacuum furnace and an atmospheric furnace, and a plurality of furnace chambers are provided on the respective vacuum furnace and atmospheric furnace.例文帳に追加

ＰＤＰの封着炉を真空炉及び大気炉により構成し、この真空炉及び大気炉に夫々複数個の炉室を設ける。 - 特許庁

The substrates 1 equal in number to the movable chambers 14 can be loaded into the vacuum standby chambers 4 and 13, and plasma processing can be carried out in plasma processing chambers 15.例文帳に追加

また、第１および第２の真空予備室４，１３には、複数の可動チャンバー１４の数と同数の基板１を搬入できるようにし、複数のプラズマ処理室１５で同時に同様のプラズマ処理を行うこともできる。 - 特許庁

The transmission unit is positioned to transmit a signal on the surface of a substrate moving between vacuum chambers, and one of vacuum chambers is a moving chamber of a cluster tool.例文帳に追加

送信ユニットは、真空チャンバ間を移動する基板表面上に信号を送信するように位置付けられ、真空チャンバの内の一つは、望ましくはクラスタツールの移動チャンバである。 - 特許庁

The vacuum processing device 1 has a plurality of treatment chambers 3, 4 for performing a prescribed vacuum processing, and the first processing chamber 3 of the treatment chambers 3, 4 has substrate carrying mechanisms 6 on both sides thereof.例文帳に追加

本発明の真空処理装置１は、所定の真空処理を行うための複数の処理室３、４を有し、この処理室３、４のうち第１の処理室３の両側部に基板搬送機構６が設けられている。 - 特許庁

A plurality of first vacuum pumps 20a to 20c are connected to a plurality of vacuum chambers 10a to 10c and a second vacuum pump 30 is connected to a downstream side of the first vacuum pumps 20a to 20c.例文帳に追加

複数の真空チャンバ１０ａ〜１０ｃに対して複数の第１真空ポンプ２０ａ〜２０ｃを接続し、第２真空ポンプ３０を第１真空ポンプ２０ａ〜２０ｃの下流側に接続した。 - 特許庁

A first and a second vacuum chambers 31, 32 coupled on both sides of a gate valve 33 are prepared to arrange a target member in the first vacuum chamber and maintain a highly vacuum sate in the first vacuum chamber.例文帳に追加

ゲート弁３３を挟んで連結された第１および第２真空チャンバ３１、３２を用意し、第１真空チャンバ内に対象部材を配置するとともに第１真空チャンバ内を高真空状態に維持する。 - 特許庁

Of a plurality of vacuum chambers, a vacuum chamber 2 closest to the atmospheric pressure side is vented to the atmospheric pressure, and a vacuum chamber 3 on the vacuum processing device side adjacent to the chamber 2 is roughly exhausted.例文帳に追加

複数の真空チャンバー中、大気圧側に最も近い真空チャンバー２を大気圧にベントすると共に、２に隣接する真空処理装置側の真空チャンバー３を荒引排気する。 - 特許庁

In this case, since a vacuum chamber 42 is separated from refrigerating machine chambers 19, 20 by vacuum bellows 16, 18 in terms of vacuum, atmosphere around the X-ray sensing element 40 is maintained at high vacuum without being released to the atmosphere.例文帳に追加

このとき、真空室４２は真空ベローズ（１６，１８）により冷凍機室（１９，２０）から真空的に分離されているため、Ｘ線検出素子４０のまわりの雰囲気は大気に開放されることなく高真空に維持される。 - 特許庁

A first and a second vacuum chambers 31, 32 coupled interposing an opening and closing mechanism between them are prepared, an object member is arranged in the first vacuum chamber, and the interior of the first vacuum chamber is maintained in a high vacuum state.例文帳に追加

開閉機構を挟んで連結された第１および第２真空チャンバ３１、３２を用意し、第１真空チャンバ内に対象部材を配置するとともに第１真空チャンバ内を高真空状態に維持する。 - 特許庁

To provide a load-canceling mechanism, which can prevent vibrations, which are produced in one of vacuum chambers from propagating to the other vacuum chamber, by removing effectively a compression force applied for bellows, when two vacuum chambers are coupled with bellows.例文帳に追加

２つの真空チャンバをベローズで結合した場合に、ベローズにかかる圧縮力を有効的に打ち消し、一方の真空チャンバから発生する振動が他方の真空チャンバに伝わるのを防止可能な荷重キャンセル機構を提供する。 - 特許庁

To provide an ion guide for transporting ions at high efficiency from a low vacuum chamber to a high vacuum chamber in a device equipped with one or more intermediate chambers kept at an intermediate degree of vacuum, between the low vacuum chamber and the high vacuum chamber.例文帳に追加

低真空室と高真空室との間に、それらの中間の真空度に保持される１つ以上の中間室を備える装置において、低真空室から高真空室へ高い効率でイオンを輸送することができるイオンガイドを提供する。 - 特許庁

A vacuum device 12 of a laser annealing system 10 has a vacuum chamber 22 having capacity larger than the total capacity of two load lock chambers 20 and 21, and vacuum pumps 24 and 25 which keeps an intermediate vacuum in the vacuum chamber 22.例文帳に追加

レーザアニーリングシステム１０の真空装置１２は、２つのロードロックチャンバ２０，２１の合計容積より大きい容積を有する真空チャンバ２２と、真空チャンバ２２を中間真空度に保つ真空ポンプ２４，２５とを有する。 - 特許庁

The two vacuum chambers accommodates a semiconductor device to be processed, and are provided with vacuum chamber openings 2a and 2b and vacuum chamber sealing surfaces 3a and 3b.例文帳に追加

２つの真空チャンバは、処理する半導体素子を収容し、真空チャンバ開口部２ａ、２ｂおよび真空チャンバシール面３ａ、３ｂを備えている。 - 特許庁

In this case, the fifth vacuum chamber and the sixth vacuum chamber are arranged so that the thickness distribution of the film to be deposited by these vacuum chambers is interpolated with each other.例文帳に追加

この際、第５の真空チャンバおよび第６の真空チャンバを、これらの真空チャンバにより成膜する膜の膜厚分布が互いに補間するように構成する。 - 特許庁

In the differential exhaust system 20, plural sub-vacuum chambers 21 vertically forming a line, are communicated with each other and evacuated so that the lower the position of the sub-vacuum chamber 21 is, the more the degree of vacuum approaches atmospheric pressure.例文帳に追加

差動排気系２０では、複数の副真空室２１が上下方向に直列に並んで連通しており、下側の副真空室２１になるほど真空度が大気側になるように真空排気されている。 - 特許庁

Heating chambers 6, 7, 8 and 9 which are not partitioned with vacuum door and are used for any of a heat rising treatment, the carburization treatment, a diffusion treatment and a temperature dropping treatment are provided in a vacuum cell 2 of a continuous vacuum carburizing apparatus 1.例文帳に追加

連続真空浸炭装置１の真空セル２内に、互いに真空シール扉で仕切られていない、昇温処理、浸炭処理、拡散処理、降温処理のいずれにも使用することができる加熱室６，７，８，９を設ける。 - 特許庁

In the vacuum processing system 11 comprising first and second vacuum chambers 13, 15 independently, a cup-like structure 33 is provided upside down in the second vacuum chamber while surrounding the surface 27a of a substrate 27 to be treated.例文帳に追加

この互いに独立した第１及び第２真空室１３及び１５を具える真空処理装置１１では、第２真空室内に、椀を伏せた状態に基板２７の被処理面２７ａを囲い込む椀状構造体３３を有している。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus 1 includes: two process chambers PC1, PC2 and three load-lock chambers LL1, LL2, LL3 which are alternately connected in series; and a transferring device which transfers a plurality of carriers, only between the process chamber PC1(PC2) and the load-lock chambers LL1(LL2, LL3) which are adjacent to each other.例文帳に追加

真空処理装置１は、２つのプロセスチャンバＰＣ１，ＰＣ２と３つのロードロックチャンバＬＬ１，ＬＬ２，ＬＬ３が交互に直列に連結されており、隣り合うプロセスチャンバＰＣ１（ＰＣ２）とロードロックチャンバＬＬ１（ＬＬ２，ＬＬ３）との間でだけ複数のキャリアを搬送する搬送装置を備えている。 - 特許庁

Cassette chambers 3A and 3B are airtightly connected to each of the side walls 23 and 24 of the carrying chambers 2 in a polygonal airtight structure in a plane view, and one set each of the vacuum processing chambers 4A-4F are airtightly connected to the other side walls 25-27, respectively.例文帳に追加

平面的に見たときに多角形をなす気密構造をなす搬送室２の一の側壁２３，２４にカセット室３Ａ、３Ｂを気密に接続し、他の各側壁２５〜７には夫々一組ずつの真空処理室４Ａ〜４Ｆを気密に接続する。 - 特許庁

The X-ray tube (14) comprises chambers (50, 52) which are arranged in a surrounding environment and surround high vacuum and a shaft in free rotation (66) which has a first portion extending into the chambers (50, 52) and a second portion extending to the outside from the chambers (50, 52).例文帳に追加

Ｘ線管（１４）は、周囲環境内に配置され且つ高真空を包囲する室（５０，５２）と、前記室（５０，５２）の中へ延在する第１の部分及び前記室（５０，５２）から外へ延在する第２の部分を持つ回転自在のシャフト（６６）とを含む。 - 特許庁

The electron beam machine 1 comprises a plurality of machining chambers 21 and 22 for storing the object 8 to be machined, an electron gun 23 applying electron beams to machining objects 8 stored in respective machining chambers 21 and 22, and a vacuum apparatus 3 for performing evacuation inside respective machining chambers 21 and 22.例文帳に追加

電子ビーム加工機１は，被加工物８を収容する複数の加工室２１，２２と，各加工室２１，２２に収容した被加工物８に電子ビームを照射する電子銃２３と，各加工室２１，２２内の真空引きを行うための真空装置３とを有している。 - 特許庁

To provide a vacuum evaporative cooling device capable of performing evaporative cooling at respective optional different temperatures in a plurality of evaporative cooling chambers.例文帳に追加

複数台の気化冷却室でそれぞれ異なった任意の温度で気化冷却することのできる減圧気化冷却装置を得ること。 - 特許庁

In at least a first stage from the upstream end side of a vacuum pump, a plurality of pump chambers are connected in parallel.例文帳に追加

真空ポンプの上流端側から少なくとも１段目は、複数のポンプ室が並列に接続されてなる。 - 特許庁

The inside of the vacuum vessel is provided with a bulkhead part 14 separating the inside into two chambers of a plasma generating space 15 and a film formation treating space 16.例文帳に追加

真空容器内にその内部をプラズマ生成空間１５と成膜処理空間１６の二室に隔離する隔壁部１４が設けられる。 - 特許庁

To decrease the number of film forming chambers when film formation processing for different film thicknesses is performed by a cluster type vacuum film forming device.例文帳に追加

クラスター型真空成膜装置において、膜厚を異にする成膜処理を行う場合の成膜室の個数を低減する。 - 特許庁

The vacuum treatment device 1 can be installed in a narrower place than a cluster type arrangement of the plurality of the treatment chambers 3-1 to 3-6.例文帳に追加

このような真空処理装置１は、複数の処理室３−１〜３−６がクラスター型に配置されるときより、狭い場所に設置することができる。 - 特許庁

Film-forming chambers 5a and 5b are connected to a transfer chamber 3 and are decompressed by vacuum pumps 9a to 9c respectively.例文帳に追加

搬送室３には成膜室５ａおよび５ｂが連接し、それぞれ真空ポンプ９ａないし９ｃにて減圧される。 - 特許庁

Since the processing chambers 40, 501, and 502 are arranged on the main processing tank 11, no transportation chamber is required and the installation area of this vacuum processing device becomes smaller.例文帳に追加

主真空槽１１の上に処理室４０、５０_1、５０_2が配置されているので、搬送室が不要であり、設置面積が少なくて済む。 - 特許庁