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alignment shiftの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 109件
To provide an element in which a homogeneous alignment state which is bistable in two directions of a ferroelectric liquid crystal in an inclined area is realized, as an optical element constituted of a liquid crystal cell whose substrates are not parallel to each other using a chiral smectic C layer, and to enable a high speed shift of an optical path with a simple constitution.例文帳に追加
キラルスメクチックC層を用いた基板間隔が非平行の液晶セルによる光学素子において、傾斜領域内で強誘電性液晶の2方向への双安定なホモジニアス配向状態を実現する素子を提供し、簡単な構成で高速な光路シフトを可能とする。 - 特許庁
To provide a biochip substrate holding method constituted so as to equalize the holding mechanism of a biochip substrate, in both cases where a large number of samples are arranged on a biochip and the biochip is placed on a reader, not only to prevent the occurrence of the shift of a site position at the time of measurement, but also to dispense with position alignment, and to provide a biochip reader.例文帳に追加
多数の試料をバイオチップ上に配置するときと読取装置にバイオチップを載置するときとで、バイオチップ基板の保持機構を同等にして、測定時にサイト位置のずれが生ぜず、位置合わせが不要な、バイオチップ基板保持方法およびバイオチップ読取装置を提供する。 - 特許庁
To realize blank skipping without causing image defects in a printed image when interlace printing is to be performed by using a zigzag-alignment print head on which the positions of the nozzles of a plurality of nozzle groups are mutually shifted by mutual shift distances in the transporting direction of a medium.例文帳に追加
複数のノズル群のノズルの位置が、互いに媒体の搬送方向に相互ずれ量だけずらされて配置されている千鳥配列の印刷ヘッドを用いてインターレース印刷を行う際に、印刷された画像中に画像欠陥を生じることなく空白スキップを実行可能にする。 - 特許庁
To provide a device and method for accurately and speedily adjusting an optical axis for adjusting an angular shift especially between the connection interfaces by active alignment at the time of optical coupling between optical elements, and thereby realizing simplification of the configuration and decrease of a coupling loss.例文帳に追加
光素子間の結合時、特に接続面間の角度ずれ調整をアクティブアライメントにより高精度でかつ迅速に行い、それにより構成の簡素化と結合損失の低減とを同時に実現する光軸調整装置及びその光軸調整方法を提供する。 - 特許庁
To provide a color filter free from disturbance in the alignment of a liquid crystal or shift in a switching threshold caused by singular electric characteristics of a liquid crystal display device of a lateral electric field system, that is, a color filter giving no adverse influence on display performance, even when an overcoat layer is not formed on a filter segment.例文帳に追加
フィルタセグメント上にオーバーコート層を設けなくても、横電界方式の液晶表示装置における特異な電気的特性に起因する液晶の配向乱れや、スイッチングの閾値ずれのない、すなわち、表示性能に悪影響を与えないカラーフィルタの提供。 - 特許庁
Whenever the dividend change condition is formed, a line of odds is shifted to one end side in the alignment direction of the winning combinations on the odds display part 102a and the correspondence relation between the winning combination and the odds is changed according to the shift so that new odds fill a blank space formed at the other end of the odds display part 102a.例文帳に追加
配当変更条件が成立する毎に、オッズ表示部102a上でオッズの列が当り役の並び方向の一端部側にずれ、そのずれに伴って、オッズ表示部102aの他端部に生じる空欄に新たなオッズが充当されるように当り役とオッズとの対応関係を変更する。 - 特許庁
To provide a both-side lens sheet by which color shift is reduced and the alignment of the unit lenses on front and back sides is facilitated even when obtaining the fine pitch of the array of the unit lenses in the case of using it for a rear type projection screen for a display device using several projectors as light sources such as the CRT projector of a three-tube type.例文帳に追加
3管式のCRTプロジェクタのように、複数台のプロジェクタを光源として用いる表示装置向けのリア型プロジェクションスクリーンに用いた場合に、カラーシフトが低減されると共に、単位レンズの配列をファインピッチ化しても、表裏の単位レンズの位置合わせが容易な構成の両面レンズシートを提供する。 - 特許庁
To provide an optical compensation film for facilitating retardation control of an optical anisotropic layer by characteristics of a liquid crystal compound by regulating relationship of an alignment layer and the liquid crystal compound, and to provide a liquid crystal display device for improving contrast and reducing color shift depending on a visual angle direction by optically compensating a liquid crystal cell.例文帳に追加
配向膜と液晶性化合物との関係を規定したり、液晶性化合物の特性により、光学異方性層のレターデーション制御を容易にできる光学補償フィルム、及び、液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び視角方向に依存したカラーシフトを軽減できる液晶表示装置の提供。 - 特許庁
The semiconductor device has an evaluating element 5ab for inspection which is formed by double exposure by second exposure on a peripheral edge of at least one chip region 1 patterned by first exposure in a wafer-like semiconductor substrate, and electrically measures the alignment shift amount in horizontal and vertical directions in the first and second exposures.例文帳に追加
半導体装置は、ウェハ状の半導体基板における、第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域1の周縁部に、第2の露光によって二重露光されてなり、第1の露光及び第2の露光における縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する検査用評価素子5abを有している。 - 特許庁
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