「alignment shift」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ALIGNMENT PATTERN DETECTION SENSOR, IMAGE FORMING APPARATUS, COLOR SHIFT DETECTION METHOD, AND COLOR SHIFT CORRECTION METHOD例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ・画像形成装置・色ずれ検知方法・色ずれ補正方法 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN SENSOR / IMAGE FORMING APPARATUS / COLOR SHIFT DETECTION METHOD / COLOR SHIFT CORRECTION METHOD例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ・画像形成装置・色ずれ検知方法・色ずれ補正方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURE, AND ALIGNMENT DETECTING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにアライメント検出方法 - 特許庁

To enable a fine memory cell to be designed by eliminating mask shift (alignment shift) to a field oxide film.例文帳に追加

フィールド酸化膜に対するマスクズレ（アライメントズレ）をなくすことにより微細なメモリセルの設計を可能にする。 - 特許庁

Then relative shift amounts, between the real mask alignment mark M1a and a cut-out mask alignment mark M2a, and between the real mask alignment mark M1b and a cut-out mask alignment mark M2b are calculated.例文帳に追加

次に、実マスクアライメントマークＭ１ａ及び抜けマスクアライメントマークＭ２ａと、実マスクアライメントマークＭ１ｂ及び抜けマスクアライメントマークＭ２ｂの相対的なずれ量を算出する。 - 特許庁

An alignment method of an embodiment includes a local area setting step, a local alignment step, and a shift step.例文帳に追加

実施形態のアライメント方法は、局所領域設定ステップと、局所アライメントステップと、シフトステップとを、含む。 - 特許庁

A shift amount at each point is calculated from the difference between the respective designed coordinate of alignment 52 and the coordinates of respective alignment marks 81, 91, and the shift in the XYθ direction is corrected based on this shift amount (S11).例文帳に追加

各アライメント設計座標５２と各アライメントマーク８１，９１の座標との差から各箇所でのズレ量を算出し、このズレ量に基づいてＸＹθ方向のズレを修正する（Ｓ１１）。 - 特許庁

To reduce a relative position shift between an alignment mark formed on a substrate and a pedestal.例文帳に追加

基板に形成されるアライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。 - 特許庁

To eliminate main scanning color shift accompanying shock disturbance, in belt automatic alignment.例文帳に追加

ベルト自動調芯において、ショック的な外乱に伴う主走査色ズレを課題とする。 - 特許庁

To provide a paper discharge device with an aligning shift part performing highly accurate alignment and shift processing.例文帳に追加

整合シフト部を備えた用紙排出装置において、高い精度で整合しシフト処理を行う用紙排出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.例文帳に追加

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁

When the first and second alignment amounts match within a preset range, the second alignment amount is stored as an image shift amount, the mask M and the work W are separated again, the image shift amount is added to the second alignment amount to obtain an alignment amount, and the mask and the work are positioned.例文帳に追加

第１、第２のアライメント量が、あらかじめ設定した範囲内で一致する場合は、第２のアライメント量をイメージシフト量として記憶し、再度マスクＭとワークＷを離間し、第２のアライメント量にイメージシフト量を加えて、アライメント量を求めマスクとワークの位置合わせを行う。 - 特許庁

In a control part 70A, an alignment action operation allowance range is set where shift amounts of both alignment marks Ma and Wa fall within a desired alignment accuracy range in exposure transfer by drive of a mask position regulation mechanism 16, and when the shift amounts of the both alignment marks Ma and Wa are within the alignment action operation allowance range, alignment action by the mask position regulation mechanism 16 is carried out to complete the alignment action.例文帳に追加

制御部７０Ａには、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がマスク位置調整機構１６の駆動によって露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となる、アライメント動作実施許容範囲が設定されており、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がアライメント動作実施許容範囲以内であるとき、マスク位置調整機構１６によるアライメント動作を実行して該アライメント動作を完了する。 - 特許庁

When the phase shift is detected, the phase alignment is performed by controlling the driving of the other photoreceptor drums YMCK in accordance with a maximum phase shift value.例文帳に追加

位相ずれが検出された時には、最大位相ずれ値にあわせて他のＹＭＣＫ感光ドラムの駆動を制御して位相あわせをおこなう。 - 特許庁

In the local alignment step, a local alignment unit carries out the local alignment of a pattern image of a detection object and a reference pattern image of a detection reference in the local area, and obtains a shift amount being the alignment result.例文帳に追加

局所アライメントステップでは、局所アライメント部が、前記局所領域において、検査対象のパターン画像と検査基準の基準パターン画像との前記局所アライメントを行い、局所アライメント結果であるシフト量を得る。 - 特許庁

The shift is used for calculation for the alignment beam angle, and the verification method for the FTBA error is improved by the angle.例文帳に追加

該シフトはアライメントビームの角度の算出に使用され、この角度でFTBAエラーの検証方法を改善する。 - 特許庁

To provide a positioning apparatus that positions a wafer induced shift (WIS) by making a correction with high precision without optimizing alignment parameters.例文帳に追加

WISをアライメントパラメータを最適化せずに高精度に補正して位置決めする位置決め装置を提供する。 - 特許庁

To provide a screw-mount lens barrel capable of independently performing a shift adjustment and a lens-to-body thread alignment adjustment.例文帳に追加

シフト調整と切り口合わせ調整を独立させて行うことができるねじマウントレンズ鏡筒を得る。 - 特許庁

To improve a phase shift mask and its alignment detection, and reduce the size of trenches formable in a silicon wafer.例文帳に追加

位相シフトマスクおよびそのアライメント検出を改善し、シリコンウェハにおいて形成可能なトレンチのサイズを低減する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display for a VA (Vertical Alignment) mode which is less in color shift and high in the level of front contrast.例文帳に追加

カラーシフトが小さく、正面コントラストのレベルが高い、ＶＡモード用液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask to form alignment marks having sharp edges for accurate alignment of the mask used for the production process of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体素子の製造プロセスにおいて使用されるマスクの位置合わせを正確に行うために、エッジがシャープな位置合わせマークを形成するための位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

An example for explanation is given wherein the angle of alignment shift is set in the rage of 0.05-0.50 degrees and the thickness of the base layer is set in the rage of 6.5-9.5 μm, although both the angle of alignment shift and the thickness of the base layer can be further increased.例文帳に追加

位置合わせずらし角度およびベース層の厚さの両方をさらに大きくできるが、位置合わせずらし角度を０.０５〜０.５０度の範囲内とし、ベース層の厚さを６.５〜９.５μｍの範囲内とした説明例が与えられる。 - 特許庁

In the step of forming a non-circuitry phase shift alignment region is formed in the manufacture of a phase shift mask, alignment accuracy is measured at least partially by using an aerial image measurement equipment so as to determine the alignment of patterns to be formed in a photoresist applied a substrate before the material is etched to form the non-circuitry phase shift alignment region and while the photoresist is present on the substrate.例文帳に追加

位相シフトマスクの製造において、非回路位相シフトアライメント領域を形成するとき、前記非回路位相シフトアライメント領域を形成するために材料をエッチングする前で、基板上にフォトレジストがあるときに、前記基板上に受け入れられる前記フォトレジストに形成されるパターンのアライメントを決定するために、少なくとも一部空間イメージ測定装置を用いて、アライメント精度を測定する。 - 特許庁

To provide a non-contact type position sensing device capable of sensing the position of a shift lever simply and accurately and making alignment with shift lever easily and precisely.例文帳に追加

シフトレバーの位置を簡単且つ正確に検出でき、シフトレバーとの位置合わせを容易に且つ精度良く行うことができる無接触式位置検出装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, the optical fiber 3 is shifted reversely by the position shift quantity from the alignment position before the laser welding in consideration of the position shift of the optical fiber 3.例文帳に追加

このことから、レーザ溶接する前に、その光ファイバ３の位置ずれを見越して、予め、光ファイバ３を調心位置から前記位置ずれ分だけ逆方向にずらす。 - 特許庁

This halftone phase shift mask consists of a halftone phase shift mask structure having resist deposited on the halftone films of wafer alignment mark parts and the light shielding belt parts existing on the outside of pattern forming regions.例文帳に追加

ウェハ合わせマーク部のハーフトーン膜上とパターン形成領域の外側にある遮光帯部にレジストが被着されたハーフトーン位相シフトマスク構造とする。 - 特許庁

To provide a recorder capable of avoiding a shift in alignment due to abrasion of a recording wire, and to provide its controlling method.例文帳に追加

記録ワイヤの摩耗によるアライメントズレを回避することができる記録装置およびその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase-shift mask free from lowering of the quality caused by the deviation in the alignment of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのアライメントずれによって品質の低下を招くことのない位相シフトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

To obtain superior alignment accuracy by reducing the adjustment resolution to shift of resist in sub scanning directions.例文帳に追加

副走査方向のレジストずれに対する調整分解能を小さくして優れた位置合わせ精度が得られるようにする。 - 特許庁

A shift mechanism 38 moves, based on the photographed image, a holding frame 37 so that an alignment mark applied to the film 15a matches with the position of the alignment mark applied to the glass substrate 21.例文帳に追加

シフト機構３８は、撮影画像に基づいて、ガラス基板２１に施されたアライメントマークと、フイルム１５ａに施されたアライメントマークとの位置が一致するように、保持枠３７を移動させる。 - 特許庁

To provide technique for forming a pattern on a substrate while suppressing the position shift by enabling detection of a position shift of an underlying mark from an alignment mark formed on the substrate.例文帳に追加

下地マークと基板上に形成されたアライメントマークとの位置ずれを検出することを可能とし、位置ずれを抑えながら基板上にパターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁

Whether mode is set in the shift mode or not is checked (S101), and in the case of the shift mode and in the case wherein a paper sheet aligning device is mounted (S102), a check whether alignment of the paper sheets is necessary or not is done (S103).例文帳に追加

シフトモードか否かをチェックし（Ｓ１０１）、シフトモードであり、用紙整合装置を搭載していれば（Ｓ１０２）、さらに、用紙の整合を行うかどうかをチェックする（Ｓ１０３）。 - 特許庁

To highly accurately measure and detect an alignment shift amount of the positions between in-phase shots on a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハ上における同層のショット間の位置の合わせずれ量を高精度で測定及び検出できるようにする。 - 特許庁

To provide an image correcting method with a reduction in setting parameter which represents the unification of the shift (alignment) in a sub-pixel unit and image correction.例文帳に追加

サブ画素単位でのシフト（アライメント）と画像補正を統合化した設定パラメータの少ない画像補正方法を提供する。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 has functions of detecting a shift amount in the relative position of respective alignment cameras 41 to 44 with respect to pulse light projected from an optical head 32 and correcting an alignment amount of a substrate 9 and a starting position of drawing on a substrate 9 based on the detected shift amount.例文帳に追加

パターン描画装置１は、光学ヘッド３２から照射されるパルス光に対する各アライメントカメラ４１〜４４の相対位置のずれ量を検出し、そのずれ量に基づいて基板９のアライメント量および基板９の描画開始位置を補正する。 - 特許庁

When the paper sheet is discharged by a discharge roller 4, the second alignment plate moves accompanied by the movement of the paper sheet, then, the shift of the paper sheet is not interrupted.例文帳に追加

排出ローラ４で用紙を排出すると、第２整合板は用紙の移動に伴って動き、用紙の移動を阻害しない。 - 特許庁

Focus shift due to flexure of the chuck 4 is prevented by controlling the height position of the chuck 4 under scan alignment according to the proximate plate.例文帳に追加

この近似面に従って、スキャン露光中のチャック４の高さ位置を制御することで、チャック４のたわみによる焦点ぼけを防ぐ。 - 特許庁

To provide a vertical alignment type liquid crystal display device which has a good sharpness of a change in light transmittance when a voltage is applied and has less color shift.例文帳に追加

電圧印加時の光透過率変化の急峻性がよく、カラーシフトの少ない、垂直配向型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The method results in a focus-versus alignment shift sensitivity about 50 times higher (typically dX, Y/dZ=20) than the present LVT.例文帳に追加

本発明による方法は、現在のＬＶＴより約５０倍（通常ｄＸ,Ｙ／ｄＺ＝２０）高い焦点対アライメントシフト感度をもたらす。 - 特許庁

To prevent defective print due to shift in the setting of document by performing accurate positioning even when an alignment mark is shifted slightly from the reference mark of the document.例文帳に追加

位置合せマークと帳票の基準マークが多少ずれていても正確な位置決めを行い、帳票セットのずれによる印字不良を防止する。 - 特許庁

The recorder 10 suppresses a shift in alignment when printing is performed by correcting the ejection timing of each recording wire 50 based on the measurements.例文帳に追加

そして、記録装置１００は、この測定結果に基づいて各記録ワイヤ５０の突出タイミングを補正することにより、印字の際のアライメントズレを抑制する。 - 特許庁

To provide a color filter substrate capable of alleviating color shift in a tilted viewing angle particularly in a vertical alignment (VA) mode liquid crystal display device with a simple constitution.例文帳に追加

特にＶＡモード液晶表示装置における斜め視野角における色ズレを、簡単な構成で緩和することのできるカラーフィルタ基板の提供。 - 特許庁

An alignment plate 20 has a cam finger which guarantees that the secondary lock plates 40, 50 shift to the position of completion the insertion to a transverse direction at time of the insertion.例文帳に追加

整列プレート２０は、嵌合の際に２次ロック４０、５０が横方向へ挿入完了位置までシフトするのを保証するカムフィンガを有する。 - 特許庁

During fastening the Chi, a gear train consisting of the GF, GR provides a first shift condition showing a straight line on an alignment chart with the interlock of the Gc.例文帳に追加

Ｃｈｉの締結時、ＧｃのインターロックでＧＦ，ＧＲよりなるギヤ列が共線図上で一直線となる第１変速状態を提供する。 - 特許庁

To provide an image capturing apparatus capable of performing alignment processing by detecting shift between images when synthesizing a dynamic-range enlarged image from a plurality of images.例文帳に追加

複数枚の画像によるダイナミックレンジ拡大画像を合成するとき、画像間のずれを検知し、位置合わせ処理を高速に行える撮像装置を提供する。 - 特許庁