「atom diffusion」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Such a copper wiring is realized by diffusion adding the metallic atom by forming a seed layer of an alloy of copper and a metal except the copper in the copper wiring layer formed on the seed layer, and diffusion adding the silicon atom from the surface of the copper wiring.例文帳に追加

このような銅配線は、シード層上に形成された銅配線層の中に、前記シード層を銅と銅以外の金属との合金により形成することにより、前記金属の原子を拡散添加させ、さらに前記銅配線の表面からシリコン原子を拡散添加することにより実現される。 - 特許庁

To provide depositing method of a barrier film of AsSiN capable of preventing the diffusion of Cu atom into an insulating film on the insulating film with good coverage.例文帳に追加

Ｃｕ原子の絶縁膜への拡散を防止できるＴａＳｉＮのバリア膜を、絶縁膜上にカバレッジ良く成膜する方法を提供する。 - 特許庁

The thermal spraying powder contains cobalt alloy particles containing elements having the value of the iron atom diffusion coefficient at 1,100°C being smaller than that of the cobalt element.例文帳に追加

本発明の溶射用粉末は、１１００℃における鉄原子拡散係数の値がコバルト元素に比べて小さい元素を含んだコバルト合金粒子を含有する。 - 特許庁

The intermediate layer 18 may contain Zr diffused from the solid electrolyte 16, and the amount of diffusion is 40 atom% at the maximum.例文帳に追加

この中間層１８には、固体電解質１６から拡散したＺｒが含まれることがあるが、その拡散量は、最大でも４０原子％に抑制される。 - 特許庁

When the atom diffusion phenomenon occurs, the metal atoms are mixed together to form an alloy, so that the bumps of the TCP and the array wiring of the LCD are joined together.例文帳に追加

この原子拡散現象が生じれば互いの金属原子が混ざり合い合金が形成され、ＴＣＰのバンプとＬＣＤのアレイ配線とが接合される。 - 特許庁

A diffusion-stop layer 16 is provided between the active layer 14 and the p cover layer 20 so as to suppress the diffusion of Mg-doping atom from the p cover layer to the active layer 14 (the diffusion usually occurs at high growth temperatures to the GaP window layer 22).例文帳に追加

Ｍｇドープ原子がｐカバー層２０からアクティブ層１４へ拡散するのを抑圧するために（この拡散は通常、ＧａＰ窓層２２に対する高い成長温度の際に発生する）、アクティブ層１４とｐカバー層２０との間に拡散ストップ層１６が設けられている。 - 特許庁

The plated member which is formed of a copper-containing metal material plated with gold copper has a metal layer formed of iron or nickel, which prevents the diffusion of a gold atom and a copper atom in the plated film of gold copper, provided between the metal material and a plated layer of gold copper.例文帳に追加

銅を含有する金属部材に金銅メッキを施してなるメッキ部材であって、前記金属部材と金銅メッキからなる層との間に、金銅メッキ中の金原子および銅原子の拡散を防止する鉄またはニッケルからなる金属層を備える。 - 特許庁

Infiltration/diffusion of an atom for constituting a metal phase to/in an Si substrate is prevented, by terminating a dangling bond of the Si existing on a surface of the substrate by an atom-like hydrogen 12, before a metal layer is formed on the substrate contacted with the metal.例文帳に追加

金属が接するＳｉ基板に，金属層を形成する前にＳｉ基板表面に存在するＳｉの未結合手を原子状水素１２によって終端することにより金属相を構成する原子がＳｉ基板中へ侵入・拡散することを防止した。 - 特許庁

This method includes plasma nitriding the surface of the steel material, and then implanting nitrogen ions in the surface, to make the nitrogen concentration of the surface to be 30 atom% or higher, for diffusion treatment causing little film- peeling.例文帳に追加

鉄鋼材料表面を剥離の恐れがない拡散処理として、プラズマ窒化処理し、その後に窒素イオンを注入し、表面の窒素濃度を３０原子％以上にする。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a wiring part 50 containing copper wirings 16a and 16b and a memory cell part 30 on a semiconductor substrate 1, while in a region surrounding the memory cell part, copper diffusion preventing films 14, 9b, and 13b for preventing diffusion of the copper atom from the wiring part are provided.例文帳に追加

この半導体装置は、半導体基板１上にメモリセル部３０と銅配線１６ａ，１６ｂを含む配線部５０とを備え、メモリセル部を取り囲む領域に、配線部からの銅原子の拡散を阻止する銅拡散防止膜１４，９ｂ，１３ｂとを備える。 - 特許庁

The diffusion prevention layer 15 is formed between the ferroelectric oxide layer 14 and the upper electrode layer 16, so that diffusion of Pb atoms of the ferroelectric oxide layer 14 to the upper electrode layer 16 is prevented, and the formation of Pb atom deficiency in the ferroelectric oxide layer 14 is inhibited.例文帳に追加

強誘電体酸化物層１４と上部電極層１６との間に拡散防止層１５を設けることにより、強誘電体酸化物層１４のＰｂ原子の上部電極層１６への拡散を防止し、強誘電体酸化物層１４中のＰｂ原子欠損の形成を防止する。 - 特許庁

The diffusion of Fe atoms in the base plate into the brazing filler metal which is melted during a brazing process is suppressed by the Fe-atom-diffusion-suppressing layer, and a proper amounts of Ni and Cr are diffused into the brazing filler metal part, thus the excellent corrosion resistance and the oxidization resistance are given to the brazing filler metal part.例文帳に追加

前記Ｆｅ原子拡散抑制層により、ろう接の際に基板中のＦｅ原子が溶融したろう材部に拡散することが抑制され、また適量のＮｉ、Ｃｒをろう材部に拡散させることができ、ろう材部に優れた耐食性、耐酸化性を付与することができる。 - 特許庁

A magnetic medium having the coercive force of 20kOe or more is provided by raising a substrate temperature and depositing an alloy thin film on a substrate in a temperature area where atom diffusion is active by a sputtering method.例文帳に追加

基板温度を上昇させて原子拡散の活発な温度領域で基板上に合金薄膜をスパッタ成膜することによって、２０ｋＯｅ以上の保持力を持つ磁気媒体を提供。 - 特許庁

The method is for manufacturing the semiconductor device for forming a diffusion layer by diffusing the phosphorus atom on the surface of the silicon substrate with a resist coated, and has steps of forming the diffusion layer, keeping the temperature of the silicon substrate lower than the alteration temperature of the resist, and forming an oxide film by supplying a plasma excitation gas on the surface of the formed diffusion layer.例文帳に追加

レジストが塗布されたシリコン基板の表面にリン原子を拡散させて拡散層を形成する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板の温度をレジストの変質温度よりも低く保ちながら拡散層を形成する拡散層形成工程と、形成した拡散層の表面にプラズマ励起ガスを供給して酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、を有する。 - 特許庁

An atom for accelerating an oxidation is injected into an uppper oxide film 4 of the source region 2 and the drain region 3, and a low concentration diffusion region segregated by an impurity is formed as offset regions 2a, 3a.例文帳に追加

ソース領域２、ドレイン領域３の上部酸化膜４に酸化を促進する原子が注入され、不純物の偏析による低濃度拡散領域がオフセット領域２ａ、３ａとして形成されている。 - 特許庁

When they are kept in contact with each other, a so-called atom diffusion phenomenon occurs, wherein metal atoms constituting the metal electrodes move to the other metal electrode from their original metal electrode.例文帳に追加

そして、接触状態となった場合、互いの金属電極において、各々の金属電極を構成する金属原子が接触状態となった金属電極に移動するいわゆる原子拡散現象が起きる。 - 特許庁

The receiving/diffusing member is provided with a diffusion channel 40 obtained by laminating a ground film 38 and a liquid repellent film 39 on the inner walls 37a of a diffusion pore 37 and with a liquid repellent property by imparting a long-chain polymer group 39b having a fluorine atom as a liquid repellent group 39a to the liquid repellent film 39.例文帳に追加

そしてその受容拡散部材は、拡散細孔３７の内壁３７ａに下地膜３８と撥液膜３９とを積層した拡散流路４０を備え、さらにその撥液膜３９に撥液基３９ａとしてフッ素原子を有する長鎖高分子基３９ｂを付与して撥液性を備えるようにした。 - 特許庁

Since the [111]-face of a face-centered cubic (fcc) structure is the densest face and the densest face is exposed on the surface of the structure, the diffusion and mixing of the atom of the free magnetic layer 16 in the nonmagnetic material layer can be suppressed.例文帳に追加

面心立方（ｆｃｃ）構造の[１１１]面は最稠密面であり、この最稠密面が表面に露出しているので、フリー磁性層１６の原子が非磁性材料層の内部に拡散混入することを、抑制できる。 - 特許庁

The barrier layers 131, 133 are disposed to cover the upper surface and the lateral sides of the metal layers 111, 113, contain a material having a melting point higher than the glass transition temperature of the insulation substrate 101 and prevents diffusion of an atom in the layer of metal.例文帳に追加

障壁膜１３１、１３３は金属膜１１１、１１３の上面と側面を覆うように配置され、絶縁基板１０１のガラス転移点より高い融点を有する物質を含み、金属膜原子の拡散を防止する。 - 特許庁

The plurality of metal plate members formed of materials lower than 15 at% in an oxygen atom concentration at a point down from its surface to the depth of 3 nm are used and diffusion bonding is performed to bond the metal plate members to each other only at predetermined points, thereby increasing the durability in use.例文帳に追加

表面より３nmの深さの酸素原子濃度が１５at％未満の素材からなる複数枚の金属板部材を用いて金属板部材同士が所定箇所でのみ接合されるよう、拡散接合を施し、使用時の耐久性を高めた。 - 特許庁

To provide a hydrogen sensor capable of the mutual diffusion of an atom between a hydrogenated metal film and a hydrogen permselective film, under high concentration hydrogen atmosphere and is capable of suppressing precipitation of hydrogenated metals on the surface of the hydrogen permselective film, a power generating device and an electronic device.例文帳に追加

高濃度の水素雰囲気下において、水素化金属膜と水素選択透過膜との間での原子の相互拡散を防止でき、水素化金属の水素選択透過膜表面への析出を抑制することができる水素センサ、発電装置及び電子機器を提供する。 - 特許庁

In the laminated structure film of the first Mo, MoOx, and second Mo films 10, 10A and 11, an Al atom in a foundation layer cannot be easily diffused to the surface side, and the diffusion of Au, such as a surface wiring layer on the lamination structure film to the Al film of foundation, is restrained effectively.例文帳に追加

又、第１Ｍｏ膜１０／ＭｏＯ_ｘ膜１０Ａ／第２Ｍｏ膜１１の積層構造膜は、下地層のＡｌ原子が表面側へ拡散しにくく、積層構造膜の上の表面配線層等のＡｕが下地のＡｌ膜へ拡散することを有効に抑制する。 - 特許庁

The alloy for liquid-phase diffusion bonding contains, by atom%, 10% or more and 60% or less Ni, 10% or more and 22% or less B, 0.01% or more and 10% or less in total of one or both of W and Mo, and the balance consisting of Fe and inevitable impurities.例文帳に追加

原子％で、Ｎｉ：１０％以上６０％以下、Ｂ：１０％以上２２％以下、Ｗ、Ｍｏの片方又は両方の合計：０．０１％以上１０％以下を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなることを特徴とする液相拡散接合用合金である。 - 特許庁

The element having the value of the iron atom diffusion coefficient at 1,100°C contained in the cobalt alloy particles which is smaller than that of the cobalt element is preferably any one of vanadium, chromium, niobium, molybdenum, tantalum and tungsten, in particular, any one of niobium, molybdenum, tantalum and tungsten is preferable.例文帳に追加

コバルト合金粒子中に含まれる１１００℃における鉄原子拡散係数の値がコバルト元素に比べて小さい元素は、バナジウム元素、クロム元素、ニオブ元素、モリブデン元素、タンタル元素及びタングステン元素のいずれかであることが好ましく、特に好ましくはニオブ元素、モリブデン元素、タンタル元素及びタングステン元素のいずれかである。 - 特許庁

A copper component existing at a part within 20% of a thickness from the surface of the lithium metal film 2 is restricted to 5 atom% or less, by reducing a thermal load when forming the lithium metal film 2 of the negative electrode member, or by preliminarily forming a middle layer for preventing diffusion on the surface of the copper film 1 to restrain activation of the lithium.例文帳に追加

この部材のリチウム金属膜２の成膜時の熱負荷を低減するかまたは銅箔１の表面に予め拡散防止用の中間層を設けて膜２の表面からその膜２の膜厚の２０％の範囲内における銅成分を５原子％以下となし、リチウムの活性化を抑制する。 - 特許庁

The alloy for liquid-phase diffusion bonding contains, by atom%, 10-60% Ni, 1-20% Co, 10- 22% B, 0.01- 10% in total of one or both of W and Mo, and the balance consisting of Fe and inevitable impurities.例文帳に追加

原子％で、Ｎｉ：１０％以上６０％以下、Ｃｏ：１％以上２０％以下、Ｂ：１０％以上２２％以下、Ｗ、Ｍｏの片方又は両方の合計：０．０１％以上１０％以下を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなることを特徴とする液相拡散接合用合金である。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition for immersion exposure is used for immersion exposure for exposing a resist coating through water, and the composition contains a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion inhibitor comprising a compound having a t-butoxycarbonyl group bonded to a nitrogen atom, and a solvent.例文帳に追加

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure is used in liquid immersion exposure for exposing the resist film through the water, and contains acid diffusion control agent composed of the resin, radiation sensitive acid generation agent, the compound of tert-butoxy carbonyl group combined with nitrogen atom, and solvent.例文帳に追加

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。 - 特許庁